RU2022704C1 - Method of casting - Google Patents

Method of casting Download PDF

Info

Publication number
RU2022704C1
RU2022704C1 SU5033197A RU2022704C1 RU 2022704 C1 RU2022704 C1 RU 2022704C1 SU 5033197 A SU5033197 A SU 5033197A RU 2022704 C1 RU2022704 C1 RU 2022704C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
melt
molten bath
mold
crystallization
seed
Prior art date
Application number
Other languages
Russian (ru)
Inventor
В.А. Кулинченко
В.Г. Масленников
С.А. Новоселов
Original Assignee
Акционерное общество "Компакт Лтд"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Акционерное общество "Компакт Лтд" filed Critical Акционерное общество "Компакт Лтд"
Priority to SU5033197 priority Critical patent/RU2022704C1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2022704C1 publication Critical patent/RU2022704C1/en

Links

Images

Abstract

FIELD: metallurgy. SUBSTANCE: method of casting of plates and thin-walled profiles with ordered structure of material is realized, using directed crystallization of overcooled molten bath from start-up piece and use of mold, made of molten bath nonwettable material and following formation of piece, made of molten bath. Molten bath overcooling to given temperature and its crystallization are exercised in turn: first mold is filled with molten bath, then they thermostat start-up piece and make it to contact molten bath, then they deep mold in liquid cooler under given temperature of molten bath overcooling, keep mold in cooler till whole volume of molten bath is overcooled and till following spontaneous crystallization, caused by start-up piece. EFFECT: method of casting is used in metallurgy to produce pieces, made of crystal materials and their alloys. 4 dwg

Description

Изобретение предназначено для получения пластин и тонкостенных профилей с упорядоченной структурой материала, например монокристаллов улучшенного качества, в частности для получения изделий из кристаллических материалов и их сплавов для машиностроения, электроники, химических производств, авиации и т.д. The invention is intended to obtain plates and thin-walled profiles with an ordered structure of the material, for example, single crystals of improved quality, in particular to obtain products from crystalline materials and their alloys for mechanical engineering, electronics, chemical industries, aviation, etc.

В качестве аналога предлагаемого способа может быть рассмотрен известный способ Степанова, позволяющий получать продукцию в виде пластин или тонкостенных профилей и заключающийся в том, что изделие вытягивают из расплава через фильеру (или без фильеры) со скоростью его затвердевания от затравки. As an analogue of the proposed method, the well-known Stepanov method can be considered, which allows to obtain products in the form of plates or thin-walled profiles and consisting in the fact that the product is pulled out of the melt through a die (or without a die) with a speed of its solidification from seed.

Существенными недостатками этого способа являются: его низкая производительность, а также то, что толщина ленточного кристалла очень чувствительна к колебаниям высоты фронта кристаллизации связанным с изменением температуры расплава и скорости вытягивания из него кристалла. Например, при выращивании ленточных кристаллов кремния скорость роста обычно не превышает 1-2 мм/мин при ± 0,5оС для температуры и ± 0,01 мм/мин для скорости вытягивания и при этом не удавалось снизить колебания толщины ленточного кристалла ниже значения 0,1 мм. Как правило, вблизи затравления имеется участок монокристаллической структуры, а затем монокристалличность нарушается.Significant disadvantages of this method are: its low productivity, as well as the fact that the thickness of the ribbon crystal is very sensitive to fluctuations in the height of the crystallization front associated with changes in the temperature of the melt and the speed of drawing the crystal out of it. For example, when growing silicon ribbon crystal growth rate is typically less than 2.1 mm / min at ± 0,5 ° C for the temperature and ± 0,01 mm / min pulling rate and thus not able to reduce fluctuations in the thickness of the belt below the crystal 0.1 mm As a rule, there is a region of a single-crystal structure near the seed, and then the single-crystal structure is violated.

В качестве прототипа предлагаемого способа, обеспечивающего высокую скорость роста кристалла (до 100-300 мм/мин), предлагается, например, способ вытягивания из расплава дендритных лент из германия и кремния. Кристаллизацию дендритов от затравки этим способом осуществляют благодаря переохлаждению расплава (иногда до 30оС, но оптимально 3-5оС) перед фронтом кристаллизации. Переохлаждение расплава, находящегося в тигле, обычно осуществляют в локальной зоне там, где в него погружают затравку, за счет теплоизлучения со свободной поверхности расплава, путем обдува ее охлажденным инертным газом или путем охлаждения фильеры, через которую вытягивают ленту из расплава.As a prototype of the proposed method, providing a high crystal growth rate (up to 100-300 mm / min), for example, a method for drawing dendritic tapes from germanium and silicon from a melt is proposed. Crystallization of dendrites from seed by this method is carried out due to the melt supercooling (sometimes up to 30 ° C, but optimally 3-5 ° C) before the crystallization front. Subcooling of the melt in the crucible is usually carried out in the local zone where the seed is immersed in it, due to heat radiation from the free surface of the melt, by blowing it with cooled inert gas or by cooling the die through which the tape is pulled from the melt.

Недостатком прототипа является то, что при его осуществлении не устраняются затруднения, связанные с регулированием температурного поля в расплаве и скорости вытягивания растущего кристалла из расплава. The disadvantage of the prototype is that its implementation does not eliminate the difficulties associated with the regulation of the temperature field in the melt and the speed of drawing a growing crystal from the melt.

Целью изобретения является ускорение процесса кристаллизации при одновременном улучшении качества изделия. The aim of the invention is to accelerate the crystallization process while improving product quality.

Поставленная цель достигается тем, что формирование изделия из расплава, переохлаждение расплава до заданной температуры и его кристаллизацию от затравки осуществляют поочередно: помещают расплав в форму из несмачиваемого им материала, обеспечивают контакт расплава с термостатированной затравкой, погружают форму в жидкий охладитель с заданной температурой переохлаждения расплава на заданную глубину и выдерживают ее в охладителе до переохлаждения расплава во всем объеме и до последующей его спонтанной кристаллизации от затравки. This goal is achieved in that the formation of the product from the melt, the melt to be cooled to a predetermined temperature and its crystallization from the seed is carried out alternately: the melt is placed in a mold made of a material not wettable by it, the melt is in contact with a thermostatically controlled seed, the mold is immersed in a liquid cooler with a given melt supercooling temperature to a predetermined depth and keep it in the cooler until the melt is supercooled in the entire volume and until its subsequent spontaneous crystallization from the seed.

При такой последовательности технологических операций цель изобретения достигается тем, что процесс кристаллизации осуществляют при неподвижной затравке и неподвижном переохлажденном расплаве, а переохлаждение расплава снизу вверх и термостатирование затравки предотвращают преждевременное начало этого процесса. With this sequence of technological operations, the purpose of the invention is achieved in that the crystallization process is carried out with a stationary seed and a stationary supercooled melt, and the melt undercooling from the bottom up and thermostatting of the seed prevent this process from starting prematurely.

На фиг. 1 схематически показаны основные элементы устройства, необходимого для реализации способа; на фиг.2-4 - основные стадии технологического процесса. In FIG. 1 schematically shows the main elements of the device necessary for implementing the method; figure 2-4 - the main stages of the process.

Предлагаемый способ пригоден для получения изделий из различных кристаллических материалов и их сплавов, образующих расплавы при нагревании выше определенной температуры. Полученная этим способом упорядоченная структура материала не обязательно должна быть однородным монокристаллом, это могут быть ориентированные дендритные структуры или ориентированные зерна в материале, чем достигается улучшение свойств изделия. The proposed method is suitable for producing products from various crystalline materials and their alloys, forming melts when heated above a certain temperature. The ordered structure of the material obtained in this way does not have to be a homogeneous single crystal, it can be oriented dendritic structures or oriented grains in the material, thereby improving product properties.

В качестве конкретного примера осуществления способа может быть рассмотрен технологический процесс получения пластин или профилей постоянной толщины и формы из сплавов германий-кремний, образующих жидкие и твердые растворы этих материалов, например из сплава Ge0,2SiO,8.
По диаграмме состояний сплавов германий-кремний температура плавления выбранного сплава составляет 1370оС, а интервал его кристаллизации около 100оС, следовательно, для получения однородной монокристаллической структуры данного сплава необходимо переохлаждение его расплава до 1270оС. Это условие технологического процесса позволяет задать температуру жидкости - охладителя формы в интервале 1200-1270оС.
As a specific example of the method, the technological process for producing plates or profiles of constant thickness and shape from germanium-silicon alloys forming liquid and solid solutions of these materials, for example, from an alloy of Ge 0.2 Si O, 8, can be considered .
According to the state diagram of germanium-silicon alloys selected alloy melting temperature is 1370 C and the crystallization interval of about 100 ° C, thus to obtain a homogeneous single crystal structure of this alloy it is necessary to melt supercooling to 1270 C. This condition allows to set process temperature liquid - form cooler in the range of 1200-1270 about C.

Для осуществления способа может быть применена вакуумная печь сопротивления, включающая следующее основное оборудование (см. фиг.1): нагреватели 1, литейную форму 2, держатель затравки 3, оборудованный вакуумными экранами 4, тигель 5 для расплава германий-кремний и емкость 6 для жидкого охладителя. При этом, приводят ли затравку в контакт с расплавом, или расплавляют исходный материал уже в контакте с затравкой, принципиального значения для осуществления предлагаемого способа это не имеет, как и то, погружают ли форму 2 в расплав, или перемещают емкость 6 с охладителем, поэтому необходимые для этой цели приводы на схеме не показаны. To implement the method, a vacuum resistance furnace can be applied, including the following basic equipment (see FIG. 1): heaters 1, mold 2, seed holder 3 equipped with vacuum screens 4, crucible 5 for a germanium-silicon melt and a vessel 6 for liquid cooler. In this case, whether the seed is brought into contact with the melt, or the starting material is melted already in contact with the seed, this is not of fundamental importance for the implementation of the proposed method, nor is it whether the mold 2 is immersed in the melt or the container 6 is moved with a cooler, therefore the drives necessary for this purpose are not shown in the diagram.

Для сплава с преобладанием кремния форма может быть изготовлена из графита с обязательным покрытием внутренних ее поверхностей нитридом кремния, как материалом несмачиваемым расплавом кремния. For an alloy with a predominance of silicon, the form can be made of graphite with the obligatory coating of its internal surfaces with silicon nitride, as a non-wettable silicon melt material.

На начальном этапе технологического процесса (см. фиг.2) исходный материал расплавляют с применением нагревателей 1 в тигле 5, после чего расплав заполняет форму 2. Затем затравку приводят в контакт с расплавом в форме 2 путем перемещения держателя затравки 3 вместе с экранами 4 в тигель 5 (см. фиг. 3), чем обеспечивается ее термостатирование в этих условиях при температуре 1200-1250оС.At the initial stage of the technological process (see Fig. 2), the starting material is melted using heaters 1 in the crucible 5, after which the melt fills the mold 2. Then the seed is brought into contact with the melt in the mold 2 by moving the seed holder 3 together with the screens 4 in crucible 5 (see Fig. 3), which ensures its thermostating under these conditions at a temperature of 1200-1250 about C.

Охлаждение формы 2 с расплавом до 1270оС осуществляют путем погружения формы 2 на глубину h (см. фиг.4) в жидкий охладитель, например расплав олова, алюминия и т.д., при температуре ≈1200оС.Cooling mold 2 with the melt to 1270 ° C is carried out by immersing the mold 2 at a depth h (see FIG. 4) into a liquid coolant, such as molten tin, aluminum, etc., at a temperature of ≈1200 ° C.

Глубину погружения h формы 2 в охладитель выбирают исходя из выбранных конкретных условий, но с соблюдением основного условия технологического процесса: процесс кристаллизации расплава должен начаться только тогда, когда произойдет переохлаждение расплава в форме во всем объеме, т.е. когда зона переохлаждения расплава, распростpаняясь в нем снизу вверх, достигнет затравки. Изделие затем охлаждают в данном режиме. The immersion depth h of form 2 in the cooler is chosen on the basis of the selected specific conditions, but subject to the main conditions of the technological process: the melt crystallization process should begin only when the melt is supercooled in the mold in the entire volume, i.e. when the melt subcooling zone, propagating in it from the bottom up, reaches the seed. The product is then cooled in this mode.

Предлагаемый способ может быть применен, например, для изготовления радиаторов, лопаток для авиационных двигателей, подложек для интегральных схем, элементов для солнечных батарей, изделий из магнитных материалов, имеющих также и сложные профили поперечного сечения. Формы для получения сложных профилей можно изготовлять, например, по выплавляемым моделям. The proposed method can be used, for example, for the manufacture of radiators, blades for aircraft engines, substrates for integrated circuits, elements for solar cells, products from magnetic materials, which also have complex cross-sectional profiles. Forms for complex profiles can be manufactured, for example, by investment casting.

Claims (1)

СПОСОБ ЛИТЬЯ пластин и тонкостенных профилей с упорядоченной структурой материала, осуществляемый путем направленной кристаллизации переохлажденного расплава от затравки с применением формы из несмачиваемого расплавом материала, отличающийся тем, что формирование изделия из расплава, переохлаждение расплава до заданной температуры и его кристаллизацию от затравки осуществляют поочередно: заполняют расплавом форму, термостатируют затравку, обеспечивают ее контакт с расплавом, погружают форму в жидкий охладитель при заданной температуре переохлаждения расплава, выдерживают форму в охладителе до переохлаждения расплава во всем объеме и до последующей его спонтанной кристаллизации от затравки. METHOD FOR CASTING plates and thin-walled profiles with an ordered structure of the material, carried out by directional crystallization of the supercooled melt from the seed using a mold from non-wettable melt material, characterized in that the formation of the product from the melt, the supercooling of the melt to a predetermined temperature and its crystallization from the seed are carried out in turn: a mold, thermostat the seed, ensure its contact with the melt, immerse the mold in a liquid cooler at a given rate Aturi supercooling of the melt, is kept in the form of melt cooler to supercooling in the entire volume and to its subsequent spontaneous crystallization from the seed.
SU5033197 1992-02-07 1992-02-07 Method of casting RU2022704C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5033197 RU2022704C1 (en) 1992-02-07 1992-02-07 Method of casting

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5033197 RU2022704C1 (en) 1992-02-07 1992-02-07 Method of casting

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2022704C1 true RU2022704C1 (en) 1994-11-15

Family

ID=21599781

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU5033197 RU2022704C1 (en) 1992-02-07 1992-02-07 Method of casting

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2022704C1 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
В.Н.Масло. Выращивание профильных полупроводниковых монокристаллов. М.: Металлургия. 1988, с.201-217. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Ohno Continuous casting of single crystal ingots by the OCC process
US4382838A (en) Novel silicon crystals and process for their preparation
Billig Growth of monocrystals of germanium from an undercooled melt
US3608050A (en) Production of single crystal sapphire by carefully controlled cooling from a melt of alumina
CA1211341A (en) Control of seed melt-back during directional solidification of metals
US2872299A (en) Preparation of reactive materials in a molten non-reactive lined crucible
US4447289A (en) Process for the manufacture of coarsely crystalline to monocrystalline sheets of semiconductor material
US6969502B2 (en) Method and device for growing large-volume oriented monocrystals
US3538981A (en) Apparatus for casting directionally solidified articles
US4469161A (en) Method of and mould for making a cast single crystal
GB1369270A (en) Casting of directionally solidified articles
EP1095721B1 (en) Liquid metal cooled directional solidification process
US3700023A (en) Casting of directionally solidified articles
US2902350A (en) Method for single crystal growth
JPS63166711A (en) Production of polycrystalline silicon ingot
JP2005132671A (en) Method for producing high-quality polycrystalline silicon
US4225378A (en) Extrusion mold and method for growing monocrystalline structures
RU2022704C1 (en) Method of casting
WO2007064247A2 (en) METHOD FOR GROWING CD1-x ZnxTe (CZT) MONOCRYSTALS
RU2006336C1 (en) Device for casting plates and thin-walled shapes having ordered structure
US5785753A (en) Single crystal manufacturing method
JPH1110312A (en) Method for continuously producing single crystal
US3243320A (en) Method of producing semiconductor dendrites having both planes uniform
RU2791646C1 (en) Method of crystallization of large-sized alloyed germanium ingots in the form of disks and plates and a device for its implementation
SU768052A1 (en) Method of growing monocrystals