RU2019121883A - Устройство для отклонения и/или модуляции лазерного излучения, в частности множества лазерных лучей - Google Patents

Устройство для отклонения и/или модуляции лазерного излучения, в частности множества лазерных лучей Download PDF

Info

Publication number
RU2019121883A
RU2019121883A RU2019121883A RU2019121883A RU2019121883A RU 2019121883 A RU2019121883 A RU 2019121883A RU 2019121883 A RU2019121883 A RU 2019121883A RU 2019121883 A RU2019121883 A RU 2019121883A RU 2019121883 A RU2019121883 A RU 2019121883A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
laser
deflecting means
paragraphs
deflecting
elements
Prior art date
Application number
RU2019121883A
Other languages
English (en)
Inventor
Виталий ЛИССОЧЕНКО
Юрий МИКЛЯЕВ
Original Assignee
Лилас Гмбх
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Лилас Гмбх filed Critical Лилас Гмбх
Publication of RU2019121883A publication Critical patent/RU2019121883A/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G02B26/0858Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by piezoelectric means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/082Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/34Laser welding for purposes other than joining
    • B23K26/342Build-up welding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/20Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
    • B29C64/264Arrangements for irradiation
    • B29C64/268Arrangements for irradiation using laser beams; using electron beams [EB]
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y30/00Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0808Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more diffracting elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • G02B27/0961Lens arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10Beam splitting or combining systems
    • G02B27/14Beam splitting or combining systems operating by reflection only
    • G02B27/143Beam splitting or combining systems operating by reflection only using macroscopically faceted or segmented reflective surfaces
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S5/0071Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for beam steering, e.g. using a mirror outside the cavity to change the beam direction
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/023Mount members, e.g. sub-mount members
    • H01S5/02325Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
    • H01S5/02326Arrangements for relative positioning of laser diodes and optical components, e.g. grooves in the mount to fix optical fibres or lenses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031Edge-emitting structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4075Beam steering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4012Beam combining, e.g. by the use of fibres, gratings, polarisers, prisms

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Claims (18)

1. Устройство для отклонения и/или модуляции лазерного излучения (31), в частности, множества лазерных лучей (2), содержащее
множество отклоняющих средств (33, 38, 39),
средства перемещения, выполненные с возможностью перемещения указанного множества отклоняющих средств (33, 38, 39) по отдельности или группами, отличающееся тем, что указанные средства перемещения содержат по меньшей мере один исполнительный элемент, предпочтительно, множество исполнительных элементов, в частности, по меньшей мере один пьезоактюатор (5), который или которые выполнены с возможностью осуществления поступательного движения.
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что каждому отклоняющему средству (33, 38, 39) соответствует один исполнительный элемент, который способен передвигать относящееся к нему отклоняющее средство (33, 38, 39).
3. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что отклоняющие средства (33, 38, 39) выполнены с возможностью перемещения и/или поворота вокруг оси (4).
4. Устройство по любому из пп. 1-3, отличающееся тем, что отклоняющие средства выполнены в виде зеркальных элементов (1, 25, 26, 46, 47).
5. Устройство по любому из пп. 1-4, отличающееся тем, что отклоняющие средства выполнены в виде прозрачного конструктивного элемента (13, 16, 17), через который проходит отклоняемое лазерное излучение (31), в частности, отклоняемый лазерный луч (2).
6. Устройство по п. 5, отличающееся тем, что конструктивный элемент (13) представляет собой плоскопараллельную пластину.
7. Устройство по п. 5, отличающееся тем, что конструктивный элемент представляет собой линзу (10) или сегмент (11, 12) линзы.
8. Устройство по любому из пп. 1-7, отличающееся тем, что каждое из отклоняющих средств содержит два находящихся напротив друг друга прозрачных конструктивных элемента (16, 17), через которые проходит отклоняемое лазерное излучение (31), в частности, отклоняемый лазерный луч (2), причем оба конструктивных элемента (16, 17) выполнены с возможностью перемещаться относительно друг друга, в частности, в направлении, перпендикулярном к направлению распространения лазерного излучения (31), в частности, лазерного луча (2).
9. Устройство по п. 8, отличающееся тем, что конструктивные элементы (16, 17) имеют соответствующие друг другу контуры (18, 19), в частности, на находящихся напротив друг друга сторонах указанных конструктивных элементов (16, 17).
10. Устройство по любому из пп. 1-9, отличающееся тем, что отклоняющие средства (33, 38, 39) расположены рядом друг с другом, в частности, в направлении перпендикулярном к направлению распространения лазерного излучения (31), в частности, лазерных лучей (2).
11. Устройство по любому из пп. 1-10, отличающееся тем, что лазерное излучение (31), в частности, лазерные лучи (2), выходят из линейки (8) лазерных диодов, в частности, каждый из эмиттеров (7) линейки (8) лазерных диодов излучает один из лазерных лучей (2).
12. Устройство по любому из пп. 1-10, отличающееся тем, что оно может быть использовано для компенсации изгиба линейки (8) лазерных диодов.
13. Устройство по любому из пп. 1-10, отличающееся тем, что отклоняющие средства содержат зеркальные элементы (46, 47), расположенные так, что при использовании устройства от каждого из двух зеркальных элементов (46, 47) соответственно отражается часть лазерного луча (2), причем второй из зеркальных элементов (46, 47) выполнен с возможностью перемещаться исполнительным элементом относительно первого из зеркальных элементов (46, 47), так что при подходящем расположении зеркальных элементов (46, 47) относительно друг друга уменьшается интенсивность лазерного луча (2) в рабочей плоскости за счет деструктивной интерференции.
14. Способ компенсации изгиба линейки (8) лазерных диодов, характеризующийся тем, что множество отклоняющих средств (33, 38, 39) переводят с помощью средств перемещения по отдельности или группами в такую позицию и/или положение, что в результате корректируется дугообразное искажение линейки (8) лазерных диодов.
15. Способ по п. 14, отличающийся тем, что используют устройство по любому из пп. 1-12.
16. Способ по п. 14 или 15, отличающийся тем, что множество отклоняющих средств (33, 38, 39) после перевода в компенсирующую изгиб позицию и/или положение фиксируют, с тем чтобы в дальнейшем не требовались средства перемещения.
RU2019121883A 2016-12-14 2017-12-01 Устройство для отклонения и/или модуляции лазерного излучения, в частности множества лазерных лучей RU2019121883A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016124408.2 2016-12-14
DE102016124408.2A DE102016124408A1 (de) 2016-12-14 2016-12-14 Vorrichtung zur Ablenkung und/oder Modulation einer Laserstrahlung, insbesondere einer Mehrzahl von Laserstrahlen
PCT/EP2017/081243 WO2018108583A1 (de) 2016-12-14 2017-12-01 Vorrichtung zur ablenkung und/oder modulation einer laserstrahlung, insbesondere einer mehrzahl von laserstrahlen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2019121883A true RU2019121883A (ru) 2021-01-15

Family

ID=60888359

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2019121883A RU2019121883A (ru) 2016-12-14 2017-12-01 Устройство для отклонения и/или модуляции лазерного излучения, в частности множества лазерных лучей

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10921582B2 (ru)
EP (1) EP3555687A1 (ru)
CN (1) CN110073270B (ru)
DE (1) DE102016124408A1 (ru)
RU (1) RU2019121883A (ru)
WO (1) WO2018108583A1 (ru)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018212516B4 (de) * 2018-07-26 2023-02-02 Robert Bosch Gmbh LIDAR-Sensor und Verfahren zur optischen Erfassung eines Sichtfeldes

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5059008A (en) * 1990-03-26 1991-10-22 General Electric Company Wide angle beam steerer using translation of plural lens arrays
US5854651A (en) * 1996-05-31 1998-12-29 Eastman Kodak Company Optically correcting deviations from straightness of laser emitter arrays
EP1062538B1 (de) * 1998-03-10 2003-08-27 Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs GmbH & Co.KG Ablenkvorrichtung für elektromagnetische strahlen oder strahlbündel im optischen spektralbereich
DE10209605A1 (de) * 2001-04-07 2002-10-10 Lissotschenko Vitalij Anordnung für die Korrektur von von einer Laserlichtquelle ausgehender Laserstrahlung sowie Verfahren zur Herstellung der Anordnung
CA2358169A1 (en) * 2001-10-01 2003-04-01 Creo Products Inc. Method and apparatus for illuminating a spatial light modulator
US6975465B1 (en) * 2002-04-03 2005-12-13 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Method and apparatus for use of beam control prisms with diode laser arrays
US6763054B2 (en) * 2002-11-19 2004-07-13 The Boeing Company Optical system for improving the brightness of a stack of lensed diode lasers
US6873398B2 (en) * 2003-05-21 2005-03-29 Esko-Graphics A/S Method and apparatus for multi-track imaging using single-mode beams and diffraction-limited optics
US7521651B2 (en) * 2003-09-12 2009-04-21 Orbotech Ltd Multiple beam micro-machining system and method
US20070052619A1 (en) * 2005-09-07 2007-03-08 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Color display apparatus using two panels
DE102006031177A1 (de) * 2006-07-06 2008-01-10 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines Bildes einer dünnen Schicht eines Objekts
US20160223809A1 (en) * 2015-02-03 2016-08-04 Nissim Pilossof Correction of laser diode bar error

Also Published As

Publication number Publication date
US10921582B2 (en) 2021-02-16
WO2018108583A1 (de) 2018-06-21
DE102016124408A1 (de) 2018-06-14
EP3555687A1 (de) 2019-10-23
US20190339510A1 (en) 2019-11-07
CN110073270B (zh) 2021-11-30
CN110073270A (zh) 2019-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI643690B (zh) 模組式雷射設備
JP2021061403A5 (ru)
US11347068B2 (en) Device and method for laser material processing
JP5931985B2 (ja) 光造形装置および光造形方法
JP2018169379A5 (ru)
DE602008000099D1 (de) Multilasersystem
BR112013031745A2 (pt) aparelho de digitalização ótica, sistema de digitalização de disposição por laser e método de digitalização ótica
EA201490246A1 (ru) Устройство для маркировки с множеством лазеров и индивидуально настраиваемыми наборами отклоняющих средств
JP2009028742A5 (ru)
EA201490247A1 (ru) Устройство для маркировки с множеством газовых лазеров с резонаторными трубками и индивидуально настраиваемыми отклоняющими средствами
KR20160126153A (ko) 레이저 레이더 또는 다른 장치를 위한 광 스캐너
JP2017504175A5 (ru)
JP2013047797A5 (ru)
WO2013148218A3 (en) Illumination or pointing device comprising an array of diode lasers
RU2019121883A (ru) Устройство для отклонения и/или модуляции лазерного излучения, в частности множества лазерных лучей
CN116997433A (zh) 用于激光材料加工的组件
JP2016020929A5 (ru)
CN111712723A (zh) 用于偏转激光射束的设备
JP6695610B2 (ja) レーザ加工装置、および、レーザ加工方法
US20190294035A1 (en) Laser projection device
KR101245803B1 (ko) 레이저 다이오드를 이용한 마킹용 ic 타이틀러
DE602008006246D1 (de) Laserquelle mit einer winkelabtastvorrichtung
JP2011505253A (ja) 平行なレーザー光を用いて加工片を加工するための装置
RU2017131836A (ru) Способ обработки кромок многоканальным лазером
JP2018504761A5 (ru)

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20201202