RU2014152394A - GAS RIPPING TARGET - Google Patents

GAS RIPPING TARGET Download PDF

Info

Publication number
RU2014152394A
RU2014152394A RU2014152394A RU2014152394A RU2014152394A RU 2014152394 A RU2014152394 A RU 2014152394A RU 2014152394 A RU2014152394 A RU 2014152394A RU 2014152394 A RU2014152394 A RU 2014152394A RU 2014152394 A RU2014152394 A RU 2014152394A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
target
gas
stripping
ripping
magnetic field
Prior art date
Application number
RU2014152394A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2595785C2 (en
Inventor
Павел Дмитриевич Воблый
Александр Николаевич Макаров
Юрий Михайлович Остреинов
Сергей Юрьевич Таскаев
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН) filed Critical Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН)
Priority to RU2014152394/07A priority Critical patent/RU2595785C2/en
Publication of RU2014152394A publication Critical patent/RU2014152394A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2595785C2 publication Critical patent/RU2595785C2/en

Links

Abstract

1. Газовая обдирочная мишень для обдирки пучка отрицательных ионов, содержащая обдирочную трубку, систему подвода газа и газовый источник, отличающаяся тем, что перед входом в мишень и после выхода из нее расположены магниты, создающие поперечное магнитное поле.2. Газовая обдирочная мишень по п. 1, отличающаяся тем, что мишень параллельно смещена относительно оси ускорительного тракта пучка заряженных частиц.1. A gas stripping target for stripping a beam of negative ions, containing a stripping tube, a gas supply system and a gas source, characterized in that before entering the target and after exiting it there are magnets that create a transverse magnetic field. The gas stripping target according to claim 1, characterized in that the target is parallel offset from the axis of the accelerating path of the charged particle beam.

Claims (2)

1. Газовая обдирочная мишень для обдирки пучка отрицательных ионов, содержащая обдирочную трубку, систему подвода газа и газовый источник, отличающаяся тем, что перед входом в мишень и после выхода из нее расположены магниты, создающие поперечное магнитное поле.1. A gas stripping target for stripping a negative ion beam, comprising a stripping tube, a gas supply system and a gas source, characterized in that magnets creating a transverse magnetic field are located before and after entering the target. 2. Газовая обдирочная мишень по п. 1, отличающаяся тем, что мишень параллельно смещена относительно оси ускорительного тракта пучка заряженных частиц. 2. The gas stripping target according to claim 1, characterized in that the target is parallel offset from the axis of the accelerating path of the charged particle beam.
RU2014152394/07A 2014-12-23 2014-12-23 Gas stripping target RU2595785C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2014152394/07A RU2595785C2 (en) 2014-12-23 2014-12-23 Gas stripping target

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2014152394/07A RU2595785C2 (en) 2014-12-23 2014-12-23 Gas stripping target

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2014152394A true RU2014152394A (en) 2016-07-20
RU2595785C2 RU2595785C2 (en) 2016-08-27

Family

ID=56413153

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2014152394/07A RU2595785C2 (en) 2014-12-23 2014-12-23 Gas stripping target

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2595785C2 (en)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2795906B1 (en) * 1999-07-01 2001-08-17 Commissariat Energie Atomique PROCESS AND DEVICE FOR PLASMA DEPOSIT AT THE ELECTRONIC CYCLOTRON RESONANCE OF LAYERS OF CARBON NONOFIBRES TISSUES AND LAYERS OF TISSUES THUS OBTAINED
US6803585B2 (en) * 2000-01-03 2004-10-12 Yuri Glukhoy Electron-cyclotron resonance type ion beam source for ion implanter
RU2360315C2 (en) * 2007-05-28 2009-06-27 Институт ядерной физики им.Г.И.Будкера Сибирского отделения Российской академии наук Compression gas target
RU2558384C2 (en) * 2013-09-02 2015-08-10 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН) Gas stripping target

Also Published As

Publication number Publication date
RU2595785C2 (en) 2016-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CY1125123T1 (en) BEAM INJECTOR BASED ON NEGATIVE IONS
AU2020201465A1 (en) Using truncated guide rnas (tru-grnas) to increase specificity for rna-guided genome editing
MA38821B1 (en) System for storing and discharging electrical energy
EA201790940A1 (en) SYSTEMS AND METHODS OF FORMING AND MAINTAINING A HIGHLY EFFICIENT CONFIGURATION WITH A TURNED FIELD
EA201891791A1 (en) RELIABLY ATTACHING CARTRIDGES FOR EXEMPLARY DEVICES
HK1248925A1 (en) Electrolte system for high voltage lithium ion battery
EA201690643A1 (en) SYSTEMS AND METHODS OF FORMING AND MAINTAINING A HIGHLY EFFICIENT CONFIGURATION WITH A TURNED FIELD
SG10201600291PA (en) Boron-containing dopant compositions, systems and methods of use thereof for improving ion beam current and performance during boron ion implantation
SG11201609845VA (en) Single- and/or multi-charged gas ion beam treatment method for producing an anti-glare sapphire material
ZA201905413B (en) High power ion beam generator systems and methods
GB201521498D0 (en) Ion source for soft electron ionization and related systems and methods
SG11201710396UA (en) Repeller for ion implanter, cathode, chamber wall, slit member, and ion generating device comprising same
WO2014140546A3 (en) Toroidal trapping geometry pulsed ion source
MY167718A (en) Evaporated fuel processing device
FR3029016B1 (en) METHOD FOR ENRICHING AN ELECTRODE OF AN ELECTROCHEMICAL DEVICE IN ION SPECIES
RU2013140568A (en) GAS RIPPING TARGET
GB201400727D0 (en) Beam focusing and accelerating system
DK3668596T3 (en) Surgically Placed Neutron-Flux-Activated High-Energy Therapeutic Charged Particle Generation System
GB2538075B (en) Method and apparatus for injection of ions into an electrostatic ion trap
RU2014152394A (en) GAS RIPPING TARGET
FR3020718B1 (en) METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING ION FLOWS IN RF PLASMA
PH12019501640A1 (en) Particle acceleration system and particle acceleration system adjustment method
WO2018187222A3 (en) Systems and methods for ionizing a surface
MY170965A (en) An apparatus for treating water using magnetic field
RU2014100159A (en) METHOD FOR ACCELERATING CHARGED PARTICLES