RU2012134214A

RU2012134214A - Композиции на основе перекиси водорода и чистящие составы, приготовленные из них

Info

Publication number: RU2012134214A
Application number: RU2012134214/05A
Authority: RU
Inventors: Шуй-Пин ЧЖУ; Стефен В. КАРСОН; Кит Р. ДЖЕНКО
Original assignee: Аркема Инк.
Priority date: 2010-01-12
Filing date: 2010-12-21
Publication date: 2014-02-20
Also published as: EP2523900A4; ES2819029T3; CA2786573A1; RU2533485C2; CA2786573C; EP2523900A1; WO2011087786A1; CN102712473A; US20120288570A1; EP2523900B1

Abstract

1. Композиция на основе перекиси водорода, содержащая:перекись водорода;стабилизирующую систему, содержащую коллоидный станнат; ипо меньшей мере одно подкисляющее средство или его соль, выбранное из группы, состоящей из серосодержащих подкисляющих средств, азотной кислоты и их смесей и солей.2. Композиция по п.1, где стабилизирующая система присутствует в количестве приблизительно 0,5-20000 ч./млн.3. Композиция по п.1, где по меньшей мере одно подкисляющее средство присутствует в количестве приблизительно 0,5-20000 ч./млн.4. Композиция по п.1, где коллоидный станнат выбран из группы, состоящей из станната натрия, станната калия, станната цинка, диоксида олова и их смесей.5. Композиция по п.1, где стабилизирующая система дополнительно содержит фосфоновую кислоту, салициловую кислоту или их соль.6. Композиция по п.1, где серосодержащее подкисляющее средство выбрано из группы, состоящей из сульфоновых кислот, серной кислоты, бисульфатов щелочных металлов и их смесей.7. Композиция по п.1, где серосодержащее подкисляющее средство выбрано из группы, состоящей из алкилсульфоновых кислот формулы RSOH, где R имеет 10 или меньше атомов углерода; алкиларилсульфоновых кислот формулы RCHSOH, где Rимеет 7 или меньше атомов углерода; диалкиларилсульфоновых кислот формулы R(R)CHSOH, где Rи Rвместе имеют 7 или меньше атомов углерода; сульфоновых кислот, содержащих несколько ароматических колец с несколькими алкильными группами, с общим количеством атомов углерода 20 или меньше; и их смесей, где каждый из R, R, Rи Rпредставляет собой отдельно линейные или разветвленные, насыщенные или ненасыщенные, замещенные или незамещенные алкильные группы.8. Композиция по �

Claims

1. Композиция на основе перекиси водорода, содержащая:

перекись водорода;

стабилизирующую систему, содержащую коллоидный станнат; и

по меньшей мере одно подкисляющее средство или его соль, выбранное из группы, состоящей из серосодержащих подкисляющих средств, азотной кислоты и их смесей и солей.

2. Композиция по п.1, где стабилизирующая система присутствует в количестве приблизительно 0,5-20000 ч./млн.

3. Композиция по п.1, где по меньшей мере одно подкисляющее средство присутствует в количестве приблизительно 0,5-20000 ч./млн.

4. Композиция по п.1, где коллоидный станнат выбран из группы, состоящей из станната натрия, станната калия, станната цинка, диоксида олова и их смесей.

5. Композиция по п.1, где стабилизирующая система дополнительно содержит фосфоновую кислоту, салициловую кислоту или их соль.

6. Композиция по п.1, где серосодержащее подкисляющее средство выбрано из группы, состоящей из сульфоновых кислот, серной кислоты, бисульфатов щелочных металлов и их смесей.

7. Композиция по п.1, где серосодержащее подкисляющее средство выбрано из группы, состоящей из алкилсульфоновых кислот формулы RSO₃H, где R имеет 10 или меньше атомов углерода; алкиларилсульфоновых кислот формулы R₁C₆H₄SO₃H, где R₁ имеет 7 или меньше атомов углерода; диалкиларилсульфоновых кислот формулы R₂(R₃)C₆H₃SO₃H, где R₂ и R₃ вместе имеют 7 или меньше атомов углерода; сульфоновых кислот, содержащих несколько ароматических колец с несколькими алкильными группами, с общим количеством атомов углерода 20 или меньше; и их смесей, где каждый из R, R₁, R₂ и R₃представляет собой отдельно линейные или разветвленные, насыщенные или ненасыщенные, замещенные или незамещенные алкильные группы.

8. Композиция по п.1, где серосодержащее подкисляющее средство представляет собой метансульфоновую кислоту или ее соль.

9. Композиция по п.1, где композиция не содержит фосфорную кислоту или ее соль.

10. Композиция по п.1, где композиция на основе перекиси водорода имеет pH в диапазоне 0,1-6.

11. Композиция по п.1, где композиция на основе перекиси водорода способствует по меньшей мере одной из физической стабильности и химической стабильности в щелочной композиции.

12. Композиция на основе перекиси водорода, содержащая:

перекись водорода;

станнат;

органическую фосфоновую кислоту или ее соль;

поглотитель свободных радикалов; и

серосодержащее подкисляющее средство или его соль.

13. Композиция по п.12, где станнат выбран из группы, состоящей из станната натрия, станната калия, станната цинка, диоксида олова и их смесей.

14. Композиция по п.12, где органическая фосфоновая кислота или ее соль представляет собой аминофосфонат.

15. Композиция по п.12, где поглотитель свободных радикалов представляет собой органическое хелатообразующее средство, выбранное из группы, состоящей из салициловых кислот, хинолинов, пиридин-2-карбоновых кислот и их смесей и солей.

16. Композиция по п.12, где серосодержащее подкисляющее средство выбрано из группы, состоящей из сульфоновых кислот, серной кислоты, бисульфатов щелочных металлов и их смесей.

17. Чистящий состав, содержащий:

перекись водорода;

стабилизирующую систему, содержащую коллоидный станнат;

по меньшей мере одно подкисляющее средство или его соль, выбранное из группы, состоящей из серосодержащих подкисляющих средств, азотной кислоты и их смесей и солей; и

средство, регулирующее pH.

18. Чистящий состав по п.17, дополнительно содержащий одну или несколько добавок, выбранных из группы, состоящей из поверхностно-активных веществ, отбеливающих средств, ферментов, флуоресцентных красителей, цветных красителей, душистых веществ, загустителей, неорганических модифицирующих добавок, средств, препятствующих повторному осаждению, средств, придающих непрозрачность, средств, регулирующих пенообразование, и их смесей.

19. Чистящий состав по п.17, где чистящий состав имеет pH в диапазоне приблизительно 7-11.

20. Чистящий состав по п.17, где средство, регулирующее pH, представляет собой основание, выбранное из группы, состоящей из гидроксидов щелочных металлов и щелочноземельных металлов, гидроксида аммония, гидроксидов замещенного аммония и их смесей.

21. Способ получения состава, включающий:

смешивание перекиси водорода или ее предшественника, воды, стабилизирующей системы, содержащей коллоидный станнат, и по меньшей мере одного подкисляющего средства или его соли, выбранного из группы, состоящей из серосодержащих подкисляющих средств, азотной кислоты и их смесей и солей, с образованием композиции на основе перекиси водорода.

22. Способ по п.21, дополнительно включающий:

регулирование pH композиции на основе перекиси водорода для достижения щелочного pH.

23. Способ по п.21, дополнительно включающий:

смешивание с композицией на основе перекиси водорода по меньшей мере одной органической фосфоновой кислоты или ее соли, или поглотителя свободных радикалов.

24. Способ по п.21, дополнительно включающий:

смешивание по меньшей мере одной добавки с композицией на основе перекиси водорода, где добавку выбирают из группы, состоящей из поверхностно-активных веществ, отбеливающих средств, ферментов, флуоресцентных красителей, цветных красителей, душистых веществ, загустителей, неорганических модифицирующих добавок, средств, препятствующих повторному осаждению, средств, придающих непрозрачность и их смесей.