Claims (10)
1. Сырье для получения наноразмерного диоксида кремния, включающий кремнеземсодержащее органическое вещество рисовую шелуху, отличающийся тем, что в качестве кремнийсодержащего вещества используется скопление молочно-белого опалового кремнезема (тибошир), отложенное в перегородках бамбука.1. Raw materials for the production of nanosized silicon dioxide, including silica-containing organic matter, rice husk, characterized in that as a silicon-containing substance, an accumulation of milky white opal silica (tiboshir) deposited in bamboo partitions is used.
2. Способ получения наноразмерного диоксида кремния из кремнийсодержащего органического вещества, заключающийся в том, что промывают водой, сушат, предварительно обжигают, размалывают и окончательно обжигают, отличающийся тем, что бамбуковые перегородки вырезают, сушат, предварительно обжигают термоударом, промывают, повторно сушат и размалывают, гидратируют, окончательно обжигают в токе водяного пара или водорода в динамическом режиме, наночастицы диоксида кремния транспортируют в уловители.2. A method of producing nanosized silicon dioxide from a silicon-containing organic substance, which consists in washing with water, drying, pre-calcining, grinding and finally calcining, characterized in that the bamboo partitions are cut, dried, pre-calcining by heat shock, washed, re-dried and ground , hydrate, finally burn in a stream of water vapor or hydrogen in a dynamic mode, silicon dioxide nanoparticles are transported to traps.
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что бамбуковые перегородки вырезают и высушивание до постоянной массы осуществляют при 105°C.3. The method according to claim 2, characterized in that the bamboo partitions are cut out and drying to constant weight is carried out at 105 ° C.
4. Способ по п.2, отличающийся тем, что предварительный обжиг ведут термоударом при 300-350°C в течение 1,5-2 ч.4. The method according to claim 2, characterized in that the preliminary firing is carried out by thermal shock at 300-350 ° C for 1.5-2 hours
5. Способ по п.2, отличающийся тем, что для удаления сажи промывание ведут в воде с температурой 90-100°C.5. The method according to claim 2, characterized in that to remove soot, the washing is carried out in water with a temperature of 90-100 ° C.
6. Способ по п.2, отличающийся тем, что после удаления сажи опаловый кремнезем повторно сушат при 105°C и затем размалывают в атриторе до тонкости 1-140 мкм в окислительной среде.6. The method according to claim 2, characterized in that after the removal of soot, opal silica is re-dried at 105 ° C and then ground in an atmosphere to a fineness of 1-140 microns in an oxidizing environment.
7. Способ по п.2, отличающийся тем, что тонкомолотый опаловый кремнезем гидратируют, помещают в трубчатую кварцевую печь, нагревают до 600°C при давлении 0,1-0,17 атм.7. The method according to claim 2, characterized in that the finely ground opal silica is hydrated, placed in a tubular quartz furnace, heated to 600 ° C at a pressure of 0.1-0.17 atm.
8. Способ по п.2, отличающийся тем, что обжиг ведут в токе острого водяного пара или водорода.8. The method according to claim 2, characterized in that the firing is carried out in a stream of sharp water vapor or hydrogen.
9. Способ по п.2, отличающийся тем, что ток паров воды или водорода транспортирует частицы SiO2 из опалового кремнезема в барбатер и в конденсатоотводчик.9. The method according to claim 2, characterized in that a stream of water vapor or hydrogen transports particles of SiO 2 from opal silica to the bubbler and to the steam trap.
10. Устройство для получения наноразмерного диоксида кремния, включающее нагреватель из пучков электронов ускорителя, охладитель, пылеуловитель, отличающееся тем, что в качестве нагревателя оно содержит трубчатую печь с кварцевой трубкой, соединенной с системой подачи потока водяного пара или водорода и для улавливания наночастиц диоксида кремния с охладителем, конденсатоотводчиком и барбатером, при этом для улавливания газового потока с наночастицами диоксида кремния используются барбатеры, заполненные или биомассой, или чистой водой, или жидкими препаратами для смазывания кожи, или техническим маслом, или специальные подложки в специальных емкостях.
10. A device for producing nanosized silicon dioxide, comprising a heater from accelerator electron beams, a cooler, a dust collector, characterized in that it comprises a tubular furnace with a quartz tube connected to a water vapor or hydrogen flow supply system and for collecting silicon dioxide nanoparticles as a heater with a cooler, a steam trap and a barbator, while barbators filled with either biomass or clean water are used to capture the gas stream with silicon dioxide nanoparticles th, or with liquid preparations for lubricating the skin, or with technical oil, or special substrates in special containers.