RU2008143568A - Способ получения анодной фольги - Google Patents
Способ получения анодной фольги Download PDFInfo
- Publication number
- RU2008143568A RU2008143568A RU2008143568/02A RU2008143568A RU2008143568A RU 2008143568 A RU2008143568 A RU 2008143568A RU 2008143568/02 A RU2008143568/02 A RU 2008143568/02A RU 2008143568 A RU2008143568 A RU 2008143568A RU 2008143568 A RU2008143568 A RU 2008143568A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- vacuum chamber
- plasma
- aluminum base
- metal nitride
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Способ получения анодной фольги, включающий нанесение в вакуумной камере на обе стороны алюминиевой основы пористого слоя нитрида вентильного металла и последующее окисление полученного слоя, отличающийся тем, что нанесение слоя нитрида вентильного металла осуществляют на непрерывно перемещающуюся алюминиевую основу путем электронно-лучевого испарения металла в вакуумной камере в атмосфере азота или в смеси азота с инертными газами, а последующее окисление полученного слоя осуществляют в плазме стационарного или импульсного магнетронного разряда, и/или в плазме высокочастотного разряда с плотностью плазмы от 109 до 1015 см-3 до образования оксидного слоя толщиной не более 10 мкм.
Claims (1)
- Способ получения анодной фольги, включающий нанесение в вакуумной камере на обе стороны алюминиевой основы пористого слоя нитрида вентильного металла и последующее окисление полученного слоя, отличающийся тем, что нанесение слоя нитрида вентильного металла осуществляют на непрерывно перемещающуюся алюминиевую основу путем электронно-лучевого испарения металла в вакуумной камере в атмосфере азота или в смеси азота с инертными газами, а последующее окисление полученного слоя осуществляют в плазме стационарного или импульсного магнетронного разряда, и/или в плазме высокочастотного разряда с плотностью плазмы от 109 до 1015 см-3 до образования оксидного слоя толщиной не более 10 мкм.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2008143568/02A RU2391442C1 (ru) | 2008-11-06 | 2008-11-06 | Способ получения анодной фольги |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2008143568/02A RU2391442C1 (ru) | 2008-11-06 | 2008-11-06 | Способ получения анодной фольги |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2008143568A true RU2008143568A (ru) | 2010-05-20 |
RU2391442C1 RU2391442C1 (ru) | 2010-06-10 |
Family
ID=42675559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2008143568/02A RU2391442C1 (ru) | 2008-11-06 | 2008-11-06 | Способ получения анодной фольги |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2391442C1 (ru) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2525825C1 (ru) * | 2012-11-02 | 2014-08-20 | Владимир Владимирович Слепцов | Пленочный конденсатор |
RU2705819C2 (ru) * | 2017-12-27 | 2019-11-12 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН") | Способ формирования интерметаллидных покрытий системы Ti-Al на поверхностях из алюминиевых сплавов |
-
2008
- 2008-11-06 RU RU2008143568/02A patent/RU2391442C1/ru active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2391442C1 (ru) | 2010-06-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7750574B2 (en) | Method of generating discharge plasma | |
WO2006083778A3 (en) | Selective plasma re-oxidation process using pulsed rf source power | |
ITMI20050585A1 (it) | Apparato e processo per la generazione accelerazione e propagazione di fasci di elettroni e plasma | |
WO2006083858A3 (en) | Plasma gate oxidation process using pulsed rf source power | |
RU2008143568A (ru) | Способ получения анодной фольги | |
JP2007092108A5 (ru) | ||
KR102438638B1 (ko) | 플라즈마 에칭 방법 | |
US7808169B2 (en) | Electron emitting device and electromagnetic wave generating device using the same | |
RU2006119559A (ru) | Способ получения покрытий на деталях из металлов и сплавов в режиме компрессионного микродугового оксидирования и устройство для его осуществления | |
WO2003046255A8 (en) | Field emission device and method of fabricating same | |
JP2009256747A (ja) | マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 | |
Masalov et al. | Liquid-metal field electron source based on porous GaP | |
RU2013119014A (ru) | Способ синтеза полых наночастиц гамма-al2o3 | |
JP2007510311A5 (ru) | ||
Tang et al. | Surface oxidation of multicrystalline silicon using atmospheric pressure plasma jet driven by radio frequency of 2.0 MHz | |
JP2007214117A (ja) | 電子放出装置及びこれを用いた電磁波発生装置 | |
RU2581610C1 (ru) | Способ создания анодной окисной плёнки холодного катода газового лазера в тлеющем разряде постоянного тока | |
EA201390092A1 (ru) | Способ нанесения покрытий на подложку с помощью электрической дуги | |
RU2011138040A (ru) | Способ получения катодной обкладки оксидно-полупроводникового конденсатора | |
Tarasenko et al. | About the formation of a barrier discharge in a KrCl excilamp | |
RU2013133581A (ru) | Способ получения интерметаллического антиэмиссионного покрытия на сеточных электродах генераторных ламп | |
Perrone et al. | Ablated Mg films with a graphite cover as photocathodes | |
TWI438897B (zh) | The Method and Structure of Surface Oxidation Treatment of Nitride Heterogeneous Surface Field Effect Transistor by Hydrogen Peroxide | |
CN109346518B (zh) | 一种微腔等离子体晶体管及其制备方法 | |
Park et al. | Stable microplasmas in air generated with a silicon inverted pyramid plasma cathode |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PC41 | Official registration of the transfer of exclusive right |
Effective date: 20140507 |