RU2008117190A - Способ нанесения покрытия из оксида алюминия на подложку, покрытую карбидом кремния - Google Patents

Способ нанесения покрытия из оксида алюминия на подложку, покрытую карбидом кремния Download PDF

Info

Publication number
RU2008117190A
RU2008117190A RU2008117190/02A RU2008117190A RU2008117190A RU 2008117190 A RU2008117190 A RU 2008117190A RU 2008117190/02 A RU2008117190/02 A RU 2008117190/02A RU 2008117190 A RU2008117190 A RU 2008117190A RU 2008117190 A RU2008117190 A RU 2008117190A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
coating
silicon carbide
thermal spraying
sic
strain gauge
Prior art date
Application number
RU2008117190/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2468361C2 (ru
Inventor
Пьер БЕРТРАН (FR)
Пьер БЕРТРАН
Кристиан КОДДЕ (FR)
Кристиан КОДДЕ
Софи КОСТИЛЬ (FR)
Софи КОСТИЛЬ
Фредерик ЛЕМАН (FR)
Фредерик ЛЕМАН
Себастьен ЛЮКА (FR)
Себастьен ЛЮКА
Original Assignee
Снекма (Fr)
Снекма
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Снекма (Fr), Снекма filed Critical Снекма (Fr)
Publication of RU2008117190A publication Critical patent/RU2008117190A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2468361C2 publication Critical patent/RU2468361C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/01—Selective coating, e.g. pattern coating, without pre-treatment of the material to be coated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/16—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. by resistance strain gauge
    • G01B7/18—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. by resistance strain gauge using change in resistance
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/041—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
    • C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
    • C04B2111/00982—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 as construction elements for space vehicles or aeroplanes
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/96—Porous semiconductor
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/42—Piezoelectric device making
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002—Electrical device making
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002—Electrical device making
    • Y10T29/49004—Electrical device making including measuring or testing of device or component part
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002—Electrical device making
    • Y10T29/49007—Indicating transducer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)

Abstract

1. Способ изготовления устройства для измерения деформации, отличающийся тем, что он включает в себя следующие стадии: ! а) нанесение на SiC-ю поверхность детали, образованной подложкой (10), покрытой слоем (12) карбида кремния (SiC), нанесенным химическим осаждением из паровой фазы, адгезионного подслоя (20) кремния вакуумным плазменным напылением; ! б) нанесение на упомянутый адгезионный подслой (20) кремния покрытия (30) из оксида алюминия атмосферным термическим напылением; ! в) размещение тензометрического датчика (40) со свободной нитью на упомянутом покрытии (30), причем этот датчик удерживается на его опоре (43), и упомянутая опора имеет отверстия (44); ! г) нанесение второго покрытия (50) из оксида алюминия на упомянутый тензометрический датчик (40) и на упомянутое покрытие (30) атмосферным термическим напылением через упомянутые отверстия (44); ! д) удаление упомянутой опоры (43); и ! е) нанесение третьего покрытия (60) из оксида алюминия атмосферным термическим напылением на упомянутое первое покрытие (30), на упомянутое второе покрытие (50) и на упомянутый тензометрический датчик (40). ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что адгезионный подслой имеет толщину от 50 до 70 мкм. ! 3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что атмосферное термическое напыление выбирают между плазменным напылением и пламенным напылением. ! 4. Способ по п.1, отличающийся тем, что упомянутую подложку (10) выбирают между композиционным материалом, имеющим матрицу из карбида кремния (SiC), и композиционным материалом, имеющим самозалечивающуюся керамическую матрицу. ! 5. Устройство для измерения деформации детали, образованной подложкой (10), покрытой слоем (12) карбида кремния (SiC),

Claims (5)

1. Способ изготовления устройства для измерения деформации, отличающийся тем, что он включает в себя следующие стадии:
а) нанесение на SiC-ю поверхность детали, образованной подложкой (10), покрытой слоем (12) карбида кремния (SiC), нанесенным химическим осаждением из паровой фазы, адгезионного подслоя (20) кремния вакуумным плазменным напылением;
б) нанесение на упомянутый адгезионный подслой (20) кремния покрытия (30) из оксида алюминия атмосферным термическим напылением;
в) размещение тензометрического датчика (40) со свободной нитью на упомянутом покрытии (30), причем этот датчик удерживается на его опоре (43), и упомянутая опора имеет отверстия (44);
г) нанесение второго покрытия (50) из оксида алюминия на упомянутый тензометрический датчик (40) и на упомянутое покрытие (30) атмосферным термическим напылением через упомянутые отверстия (44);
д) удаление упомянутой опоры (43); и
е) нанесение третьего покрытия (60) из оксида алюминия атмосферным термическим напылением на упомянутое первое покрытие (30), на упомянутое второе покрытие (50) и на упомянутый тензометрический датчик (40).
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что адгезионный подслой имеет толщину от 50 до 70 мкм.
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что атмосферное термическое напыление выбирают между плазменным напылением и пламенным напылением.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что упомянутую подложку (10) выбирают между композиционным материалом, имеющим матрицу из карбида кремния (SiC), и композиционным материалом, имеющим самозалечивающуюся керамическую матрицу.
5. Устройство для измерения деформации детали, образованной подложкой (10), покрытой слоем (12) карбида кремния (SiC), нанесенным химическим осаждением из паровой фазы, отличающееся тем, что оно включает в себя первое покрытие (30) из оксида алюминия, нанесенное атмосферным термическим напылением на адгезионный подслой (20) кремния, нанесенный на упомянутый слой карбида кремния вакуумным плазменным напылением, тензометрический датчик (40) со свободной нитью, размещенный на упомянутом первом покрытии (30), и дополнительное покрытие из оксида алюминия, нанесенное атмосферным термическим напылением на упомянутый тензометрический датчик.
RU2008117190/02A 2007-04-30 2008-04-29 Способ нанесения покрытия из оксида алюминия на подложку, покрытую карбидом кремния RU2468361C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0754789A FR2915494B1 (fr) 2007-04-30 2007-04-30 Procede pour realiser un depot d'alumine sur un substrat recouvert de sic
FR0754789 2007-04-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008117190A true RU2008117190A (ru) 2009-11-10
RU2468361C2 RU2468361C2 (ru) 2012-11-27

Family

ID=38670025

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008117190/02A RU2468361C2 (ru) 2007-04-30 2008-04-29 Способ нанесения покрытия из оксида алюминия на подложку, покрытую карбидом кремния

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7607213B2 (ru)
EP (1) EP1990633B1 (ru)
JP (1) JP5451984B2 (ru)
CA (1) CA2630121C (ru)
FR (1) FR2915494B1 (ru)
RU (1) RU2468361C2 (ru)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8673163B2 (en) 2008-06-27 2014-03-18 Apple Inc. Method for fabricating thin sheets of glass
US7810355B2 (en) 2008-06-30 2010-10-12 Apple Inc. Full perimeter chemical strengthening of substrates
CN102388003B (zh) 2009-03-02 2014-11-19 苹果公司 用于强化用于便携式电子设备的玻璃盖的技术
US9778685B2 (en) 2011-05-04 2017-10-03 Apple Inc. Housing for portable electronic device with reduced border region
US9213451B2 (en) 2010-06-04 2015-12-15 Apple Inc. Thin glass for touch panel sensors and methods therefor
US8923693B2 (en) 2010-07-30 2014-12-30 Apple Inc. Electronic device having selectively strengthened cover glass
US10189743B2 (en) 2010-08-18 2019-01-29 Apple Inc. Enhanced strengthening of glass
US8873028B2 (en) 2010-08-26 2014-10-28 Apple Inc. Non-destructive stress profile determination in chemically tempered glass
US8824140B2 (en) 2010-09-17 2014-09-02 Apple Inc. Glass enclosure
US9725359B2 (en) 2011-03-16 2017-08-08 Apple Inc. Electronic device having selectively strengthened glass
US10781135B2 (en) 2011-03-16 2020-09-22 Apple Inc. Strengthening variable thickness glass
US9128666B2 (en) 2011-05-04 2015-09-08 Apple Inc. Housing for portable electronic device with reduced border region
US9944554B2 (en) 2011-09-15 2018-04-17 Apple Inc. Perforated mother sheet for partial edge chemical strengthening and method therefor
US9516149B2 (en) 2011-09-29 2016-12-06 Apple Inc. Multi-layer transparent structures for electronic device housings
US10144669B2 (en) 2011-11-21 2018-12-04 Apple Inc. Self-optimizing chemical strengthening bath for glass
US10133156B2 (en) 2012-01-10 2018-11-20 Apple Inc. Fused opaque and clear glass for camera or display window
US8684613B2 (en) 2012-01-10 2014-04-01 Apple Inc. Integrated camera window
US8773848B2 (en) 2012-01-25 2014-07-08 Apple Inc. Fused glass device housings
US9946302B2 (en) 2012-09-19 2018-04-17 Apple Inc. Exposed glass article with inner recessed area for portable electronic device housing
WO2014138108A1 (en) * 2013-03-05 2014-09-12 General Electric Company High temperature tolerant ceramic matrix composites and environmental barrier coatings
US9459661B2 (en) 2013-06-19 2016-10-04 Apple Inc. Camouflaged openings in electronic device housings
US9886062B2 (en) 2014-02-28 2018-02-06 Apple Inc. Exposed glass article with enhanced stiffness for portable electronic device housing
DE102015100441A1 (de) * 2015-01-13 2016-07-14 Airbus Defence and Space GmbH Struktur oder Bauteil für Hochtemperaturanwendungen sowie Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung derselben
US20170038266A1 (en) * 2015-08-05 2017-02-09 General Electric Company Strain gauge
FR3095818B1 (fr) 2019-05-09 2021-04-23 Safran Aircraft Engines Procédé de réalisation d'un dispositif de mesure de déformations sur une pièce en composite à matrice céramique et pièce correspondante.
FR3116339B1 (fr) * 2020-11-16 2022-11-11 Commissariat Energie Atomique Jauge d’extensométrie inorganique
CN114322740A (zh) * 2021-12-03 2022-04-12 电子科技大学长三角研究院(湖州) 一种基于磁控溅射的复合薄膜应变计及其制备方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB893571A (en) * 1957-04-26 1962-04-11 British Iron Steel Research Improvements in or relating to composite refractory bodies
JPS5510993B1 (ru) * 1969-08-07 1980-03-21
US4309686A (en) * 1980-01-28 1982-01-05 Russell John D Carbon strain gage
DE3669047D1 (de) * 1985-06-10 1990-03-22 Interatom Hochtemperaturbestaendige dehnungsmesssysteme aus keramischen materialien.
JPH0695002B2 (ja) * 1986-05-15 1994-11-24 株式会社共和電業 高温用ひずみゲ−ジの添着構造および添着方法
FR2635773B1 (fr) * 1988-08-31 1992-02-14 Aerospatiale Materiau composite a fibres de renforcement en carbone et son procede de fabrication
DE4015666A1 (de) * 1990-05-16 1991-11-28 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Kraftaufnehmer
JPH06137806A (ja) * 1992-10-27 1994-05-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd ひずみセンサ
JPH0827199B2 (ja) * 1993-03-12 1996-03-21 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ センサ・デカル、及びセンサを作成する方法
JP3475540B2 (ja) * 1995-01-23 2003-12-08 石川島播磨重工業株式会社 ひずみゲージ貼付け用補助材
JPH09159170A (ja) * 1995-12-04 1997-06-20 Tokyo Gas Co Ltd セラミックグロープラグ
US5867886A (en) * 1997-10-20 1999-02-09 Delco Electronics Corp. Method of making a thick film pressure sensor
RU2137249C1 (ru) * 1998-03-31 1999-09-10 Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет Способ изготовления микромеханических приборов
US6299988B1 (en) * 1998-04-27 2001-10-09 General Electric Company Ceramic with preferential oxygen reactive layer
RU2170993C2 (ru) * 1999-09-02 2001-07-20 Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет Микромеханический прибор и способ его изготовления
JP3826064B2 (ja) * 2002-04-12 2006-09-27 トーカロ株式会社 複合サーメット被覆部材およびその製造方法
JP4057924B2 (ja) * 2003-01-24 2008-03-05 京セラ株式会社 センサ付き切削工具
JP2005170729A (ja) * 2003-12-10 2005-06-30 Toshiba Ceramics Co Ltd 焼成用容器
US7360437B2 (en) * 2005-06-28 2008-04-22 General Electric Company Devices for evaluating material properties, and related processes
US7442444B2 (en) * 2005-06-13 2008-10-28 General Electric Company Bond coat for silicon-containing substrate for EBC and processes for preparing same

Also Published As

Publication number Publication date
CA2630121C (fr) 2014-08-05
US20080264176A1 (en) 2008-10-30
FR2915494B1 (fr) 2009-07-24
CA2630121A1 (fr) 2008-10-30
US7607213B2 (en) 2009-10-27
EP1990633A3 (fr) 2013-03-06
JP2008298769A (ja) 2008-12-11
EP1990633B1 (fr) 2014-07-16
JP5451984B2 (ja) 2014-03-26
EP1990633A2 (fr) 2008-11-12
RU2468361C2 (ru) 2012-11-27
FR2915494A1 (fr) 2008-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008117190A (ru) Способ нанесения покрытия из оксида алюминия на подложку, покрытую карбидом кремния
RU2008117189A (ru) Способ нанесения покрытия на покрытую карбидом кремния подложку
TWI748928B (zh) 稀土氧化物系抗電漿腐蝕薄膜塗層
JP4673630B2 (ja) 電気機械変換器のための防湿技術
RU2010141746A (ru) Элемент, покрытый твердым материалом
DE602006014291D1 (de) Herstellungsverfahren für eine Membran und mit einer solchen Membran versehener Gegenstand
DE602005015049D1 (de) Turbinenkomponenten mit Wärmedämmschichten
JP2016502276A (ja) 耐プラズマ保護層を有する基板支持アセンブリ
WO2009129194A3 (en) Large-area single- and few-layer graphene on arbitrary substrates
KR101221925B1 (ko) 플라즈마 저항성 세라믹 피막 및 그 제조 방법
TW201138537A (en) Mask
JP2017166065A5 (ru)
TW201241886A (en) Apparatus for forming dielectric thin film and method for forming thin film
TWI709189B (zh) 靜電卡盤裝置
KR20170021255A (ko) 세라믹 링잉
TWI773681B (zh) 黏著性構造體
JP2011146506A5 (ru)
JP2007224348A5 (ru)
EP3231835B1 (en) Organic matrix composite thermal barrier coating
RU2008106682A (ru) Способ изготовления микросхем
JPS62222137A (ja) 圧力センサ用ダイヤフラム
JP5663120B2 (ja) 圧力検出装置
BRPI0605463A (pt) método para aplicar uma camada adesiva e uma cobertura de barreira térmica sobre uma superfìcie de alumìnio
TWI774894B (zh) 基板用保護具以及附膜基板的製造方法
JP2007194393A (ja) 静電チャック

Legal Events

Date Code Title Description
PD4A Correction of name of patent owner