RU2007490C1 - Resistive alloy - Google Patents

Resistive alloy Download PDF

Info

Publication number
RU2007490C1
RU2007490C1 SU4952416A RU2007490C1 RU 2007490 C1 RU2007490 C1 RU 2007490C1 SU 4952416 A SU4952416 A SU 4952416A RU 2007490 C1 RU2007490 C1 RU 2007490C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
resistive alloy
cobalt
alloy
resistance
germanium
Prior art date
Application number
Other languages
Russian (ru)
Inventor
В.А. Юрьев
А.С. Иванов
Original Assignee
Опытный завод микроэлектроники "Риф"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Опытный завод микроэлектроники "Риф" filed Critical Опытный завод микроэлектроники "Риф"
Priority to SU4952416 priority Critical patent/RU2007490C1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2007490C1 publication Critical patent/RU2007490C1/en

Links

Images

Landscapes

  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)

Abstract

FIELD: electrical engineering. SUBSTANCE: the cobalt-containing resistive alloy forms an intermetallic compound CoGe, the ratio of the components being as follows ( wt % ): 50 cobalt; 50 germanium. EFFECT: improved properties of the resistive alloy. 1 dwg

Description

Изобретение относится к электротехнике, радиотехнике, микроэлектронике и может быть использовано для изготовления пленочных резисторов. The invention relates to electrical engineering, radio engineering, microelectronics and can be used for the manufacture of film resistors.

Известен резистивный сплав на основе кобальт-кремний (мас. % Co 27-29; Si 67-71; Cr 2-4) /1/. Known resistive alloy based on cobalt-silicon (wt.% Co 27-29; Si 67-71; Cr 2-4) / 1 /.

Недостатком этого сплава является высокое удельное поверхностное сопротивление пленки ( ρs) и высокое значение отрицательного температурного коэффициента сопротивления (ТКС). The disadvantage of this alloy is the high specific surface resistance of the film (ρs) and the high value of the negative temperature coefficient of resistance (TCR).

Наиболее близким по технической сущности к заявляемому сплаву является резистивный сплав, содержащий кобальт (мас. % 57-61), хром (мас. % 9-13), остальное кремний /2/. The closest in technical essence to the claimed alloy is a resistive alloy containing cobalt (wt.% 57-61), chromium (wt.% 9-13), the rest is silicon / 2 /.

Недостатком известного резистивного сплава является сравнительно большой отрицательный температурный коэффициент сопротивления (ТКС 10-3, 10-4) в температурном интервале от -60 до 125оС, а также относительно высокая температура стабилизирующего отжига (350оС).The disadvantage of the resistive alloy is a relatively large negative temperature coefficient of resistance (TCR 10 -3, 10 -4) in the temperature range from -60 to 125 ° C and a relatively high temperature stabilizing annealing (350 ° C).

Целью изобретения является снижение и стабилизация температурного коэффициента сопротивления в широком интервале номиналов поверхностного сопротивления. The aim of the invention is to reduce and stabilize the temperature coefficient of resistance in a wide range of values of surface resistance.

На чертеже представлены температурные зависимости относительного сопротивления ΔR/R для сплавов РС-3710 и предла- гаемого после предварительного нагрева до 500оС.The drawing shows the temperature dependence of the relative resistance ΔR / R for alloys RS-3710 and proposed after pre-heating up to 500 about C.

Сплав согласно изобретению изготавливают следующим образом. The alloy according to the invention is made as follows.

Исходные составляющие берут в разных весовых соотношениях (кобальт - мас. % 50, германий - мас. % 50) и подвергают плавлению в электровакуумной печи "Редмет 201" при температуре 1200-1250оС в условиях вакуума не ниже 10-3 Т.The starting components taken in different weight ratios (cobalt -. 50% by weight, germanium -. 50 wt%), and was molten in an electric vacuum furnace "Redmet 201" at a temperature of 1200-1250 ° C under vacuum is not lower than 10 -3 T.

Расплав заливают в графитовую форму и в процессе затвердевания происходит синтез с образованием интерметаллида представляющий собой фазу Лавеса с моноклинной безоцентрированной решеткой. The melt is poured into a graphite form and, during solidification, synthesis takes place with the formation of an intermetallic compound, which is the Laves phase with a monoclinic centerless lattice.

Полученная отливка (мишень) имеет форму диска ⌀ 200 мм толщиной 7-10 мм. Контроль состава мишени осуществляется методом рентгеновского фазового анализа на дифрактометре ДРОН-2. Дополнительная механическая обработка поверхности не требуется. The resulting casting (target) has a disk shape of ⌀ 200 mm with a thickness of 7-10 mm. The composition of the target is controlled by x-ray phase analysis on a DRON-2 diffractometer. Additional mechanical surface treatment is not required.

Получение пленочного резистора осуществляется магнетронным методом на установке вакуумного напыления УВН 75П-1. Obtaining a film resistor is carried out by the magnetron method at the UVN 75P-1 vacuum deposition unit.

Напыление производится на холодную ситаловую подложку марки СТ-60, температура стабилизирующего отжига напыляемой марки составляет 250-300оС в течение 30 мин в среде инертного газа или вакууме.Spraying is carried out on a cold CT-60 ceramic glass substrate, the temperature of the stabilizing annealing of the sprayed brand is 250-300 о С for 30 minutes in an inert gas or vacuum.

Поскольку напыление в производстве производится магнетронным методом на установке вакуумного напыления УВН 75П-1 или любым известным методом напыления, то диссоциация химсоединения исключается. Since the spraying in production is carried out by the magnetron method at the UVN 75P-1 vacuum spraying unit or by any known spraying method, dissociation of the chemical compound is excluded.

Предлагаемый резистивный сплав позволяет получить любым известным методом напыления пленки резисторы со следующими характеристиками: при толщине пленки от 1,8 до 0,1 мкм, удельное поверхностное сопротивление от 0,1 до 1 кОм/кВ, температурный коэффициент сопротивления (ТКС) 1˙10-5, в температурном интервале от -60 до +125оС, при этом температура отжига напыляемой пленки составляет 250-300оС в течение 30 мин в среде инертного газа или в вакууме, что по сравнению с прототипом на 50оС ниже и на 3,5 ч короче технологический цикл. (56) ГОСТ 23774-79 (Сплав РС-2802М).The proposed resistive alloy allows one to obtain resistors with the following characteristics by any known method of film deposition: with a film thickness of 1.8 to 0.1 μm, specific surface resistance from 0.1 to 1 kΩ / kV, temperature coefficient of resistance (TCR) 1 )10 -5, in a temperature range from -60 to +125 C, and the annealing temperature of the deposited film is 250-300 ° C for 30 minutes in an inert gas atmosphere or in a vacuum, that in comparison with the prototype at 50 ° C and below 3.5 hours shorter production cycle. (56) GOST 23774-79 (Alloy RS-2802M).

ГОСТ 23774-79 (Сплав РС-6012).  GOST 23774-79 (Alloy RS-6012).

Claims (1)

РЕЗИСТИВНЫЙ СПЛАВ, содержащий кобальт, отличающийся тем, что, с целью снижения и стабилизации температурного коэффициента сопротивления в широком интервале номиналов поверхностного сопротивления, он дополнительно содержит германий при следующем соотношении компонентов, мас. % :
Кобальт 50
Германий 50
при этом компоненты образуют интерметаллид CoGe.
RESISTIVE ALLOY containing cobalt, characterized in that, in order to reduce and stabilize the temperature coefficient of resistance in a wide range of surface resistance values, it additionally contains germanium in the following ratio of components, wt. %:
Cobalt 50
Germanium 50
wherein the components form the CoGe intermetallic compound.
SU4952416 1991-07-28 1991-07-28 Resistive alloy RU2007490C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4952416 RU2007490C1 (en) 1991-07-28 1991-07-28 Resistive alloy

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4952416 RU2007490C1 (en) 1991-07-28 1991-07-28 Resistive alloy

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2007490C1 true RU2007490C1 (en) 1994-02-15

Family

ID=21582947

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4952416 RU2007490C1 (en) 1991-07-28 1991-07-28 Resistive alloy

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2007490C1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI641705B (en) Soft magnetic alloy for magnetic recording and sputtering target, and magnetic recording medium
US4172718A (en) Ta-containing amorphous alloy layers and process for producing the same
EP1108796B1 (en) Nickel based article containing chromium, boron and silicon and production process
JP2545913B2 (en) Ni-based alloy powder for forming amorphous sprayed coating with excellent corrosion resistance
ES2206370T3 (en) PROCEDURE FOR THE PREPARATION OF A COATING ON A REFRACTORY CONSTRUCTION ELEMENT.
EP0573484B1 (en) Titanium-based alloy produced by vapour quenching
RU2007490C1 (en) Resistive alloy
JPH0146570B2 (en)
US4906431A (en) Method of producing a heat insulating separation wall
US3588028A (en) Coated metal mold
JP2867624B2 (en) Manufacturing method of cast soft magnetic ferrite
JPH05105979A (en) High density sintered zn-ni alloy and its production
JP3852446B2 (en) Resistance thin film material and method of manufacturing resistance thin film using the same
US4338131A (en) Nickel-boron binary amorphous alloys
JPH10265917A (en) High hardness glassy alloy, and high hardness tool using same
JP2527666B2 (en) Glassy carbon coated article
JP2001240473A (en) Paste resistant molybdenum disilicide type material
Gleason Jr et al. Ferrite films prepared by pyrohydrolytic deposition
JPH0430451B2 (en)
SU953672A1 (en) Resistive material
JPH036974B2 (en)
JP2005294612A5 (en)
RU2005103C1 (en) Method of making of films based on chalcogenide glass-like semiconductors
SU894803A1 (en) Resistive material
SU1109814A1 (en) Process for manufacturing film cylindrical resistors