RU2006125846A - METHOD FOR CONTROLING SURFACE Roughness DIELECTRIC SUBSTRATES - Google Patents

METHOD FOR CONTROLING SURFACE Roughness DIELECTRIC SUBSTRATES Download PDF

Info

Publication number
RU2006125846A
RU2006125846A RU2006125846/28A RU2006125846A RU2006125846A RU 2006125846 A RU2006125846 A RU 2006125846A RU 2006125846/28 A RU2006125846/28 A RU 2006125846/28A RU 2006125846 A RU2006125846 A RU 2006125846A RU 2006125846 A RU2006125846 A RU 2006125846A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate
surface roughness
liquid
dielectric substrates
controling
Prior art date
Application number
RU2006125846/28A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2331870C2 (en
Inventor
Николай Львович Казанский (RU)
Николай Львович Казанский
Алексей Васильевич Волков (RU)
Алексей Васильевич Волков
Сергей Александрович Бородин (RU)
Сергей Александрович Бородин
Original Assignee
Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) (RU)
Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) (RU), Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) filed Critical Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) (RU)
Priority to RU2006125846/28A priority Critical patent/RU2331870C2/en
Publication of RU2006125846A publication Critical patent/RU2006125846A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2331870C2 publication Critical patent/RU2331870C2/en

Links

Claims (1)

Способ контроля шероховатости поверхности диэлектрических подложек, заключающийся в том, что исследуемую поверхность подложки очищают плазмохимическим травлением в среде инертного газа при режимах, не допускающих распыление материала подложки, сразу после очистки на поверхность наносят жидкость, отличающийся тем, что на подложку наносят жидкость в виде капли фиксированного объема и измеряют время растекания капли жидкости по поверхности, а шероховатость поверхности подложки определяют путем сопоставления полученного значения времени растекания капли жидкости по поверхности исследуемой подложки с предварительно замеренной калибровочной зависимостью.A method for controlling the surface roughness of dielectric substrates, namely, that the investigated surface of the substrate is cleaned by plasma-chemical etching in an inert gas medium under conditions that prevent spraying of the substrate material, immediately after cleaning, a liquid is applied to the surface, characterized in that a liquid is applied to the substrate in the form of a drop fixed volume and measure the spreading time of a liquid drop on the surface, and the surface roughness of the substrate is determined by comparing the obtained value of time the liquid droplet spreading over the surface of the investigated substrate with a previously measured calibration dependence.
RU2006125846/28A 2006-07-17 2006-07-17 Method of surface finish control for dielectric substrates RU2331870C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2006125846/28A RU2331870C2 (en) 2006-07-17 2006-07-17 Method of surface finish control for dielectric substrates

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2006125846/28A RU2331870C2 (en) 2006-07-17 2006-07-17 Method of surface finish control for dielectric substrates

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2006125846A true RU2006125846A (en) 2008-01-27
RU2331870C2 RU2331870C2 (en) 2008-08-20

Family

ID=39109451

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2006125846/28A RU2331870C2 (en) 2006-07-17 2006-07-17 Method of surface finish control for dielectric substrates

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2331870C2 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2448341C1 (en) * 2010-11-29 2012-04-20 Российская академия наук Учреждение Российской академии наук Институт систем обработки изображений РАН (ИСОИ РАН) Device to control roughness of dielectric substrate surfaces
RU2601531C2 (en) * 2014-11-28 2016-11-10 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) Method for fractal control of surface roughness
RU2702925C2 (en) * 2016-03-24 2019-10-14 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) Method for fractal monitoring of surface roughness
RU2710483C2 (en) * 2016-03-25 2019-12-26 Федеральное государственное учреждение "Федеральный научно-исследовательский центр "Кристаллография и фотоника" Российской академии наук Method for fractal monitoring of surface roughness
RU2630177C1 (en) * 2016-07-05 2017-09-05 Акционерное общество "Конструкторское бюро химавтоматики" Method of controlling product quality and device for its implementation
RU2672788C1 (en) * 2017-08-24 2018-11-19 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Самарский национальный исследовательский университет имени академика С.П. Королёва" Hydrophobic surface roughness contactless fractal control method

Also Published As

Publication number Publication date
RU2331870C2 (en) 2008-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2006125846A (en) METHOD FOR CONTROLING SURFACE Roughness DIELECTRIC SUBSTRATES
US10946407B2 (en) Apparatus and method for atomization of fluid
TW200610582A (en) Inkjet spray method and display device manufacturing method
JP2009007674A5 (en)
TWI265100B (en) Liquid discharge head manufacturing method, and liquid discharge head obtained using this method
EP1598120A3 (en) Devices and methods for forming a film, manufacturing a color filter and manufacturing a display device
WO2010002679A3 (en) Method of forming a microstructure
TW200604023A (en) Liquid discharge head manufacturing method, and liquid discharge head obtained using this method
WO2005118160A3 (en) Droplet dispensing in imprint lithography
WO2007130257A3 (en) Methods and devices for coating stent
WO2004085064A3 (en) Methods and apparata for precisely dispensing microvolumes of fluids
Ely et al. Patterning quality control of inkjet printed PEDOT: PSS films by wetting properties
WO2009031566A1 (en) Method for manufacturing gas supply structure in electrostatic chuck apparatus, gas supply structure in electrostatic chuck apparatus, and electrostatic chuck apparatus
WO2006020708A3 (en) Biologically-active adhesive articles and methods of manufacture
WO2002085538A3 (en) Variable electrostatic spray coating apparatus and method
JP2005334864A5 (en)
WO2007075354A3 (en) Device to measure the solidification properties of a liquid film and method therefor
WO2010141836A3 (en) Silicon pen nanolithography
CN111604234B (en) Substrate with polymer nanocoating and method of forming polymer nanocoating
JP5123374B2 (en) Cleaning bonded silicon electrodes
EA201071147A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR COVERING THE PRODUCT BY SPRAYING METHOD
CN106229259B (en) A kind of preparation method that thin film transistor (TFT) prints electrode
TW200641443A (en) Film formation method, electro-optical device manufacturing method, and electronic apparatus
WO2008091571A3 (en) High-throughput apparatus for patterning flexible substrates and method of using the same
JP2014156086A (en) Gravure coating apparatus provided with cleaning function

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20170718