RU2002112341A - Grinding wheel and method of its manufacture - Google Patents

Grinding wheel and method of its manufacture

Info

Publication number
RU2002112341A
RU2002112341A RU2002112341/02A RU2002112341A RU2002112341A RU 2002112341 A RU2002112341 A RU 2002112341A RU 2002112341/02 A RU2002112341/02 A RU 2002112341/02A RU 2002112341 A RU2002112341 A RU 2002112341A RU 2002112341 A RU2002112341 A RU 2002112341A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
grain
deposition
zone
circle
grinding wheel
Prior art date
Application number
RU2002112341/02A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2226461C2 (en
Inventor
Оливьер Леон-Мари Фернанд ГИСЕЛИН
Original Assignee
Сент-Гобэн Абразивз, Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US09/433,439 external-priority patent/US6257973B1/en
Application filed by Сент-Гобэн Абразивз, Инк. filed Critical Сент-Гобэн Абразивз, Инк.
Publication of RU2002112341A publication Critical patent/RU2002112341A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2226461C2 publication Critical patent/RU2226461C2/en

Links

Claims (12)

1. Шлифовальный круг, который имеет первую и вторую основные поверхности, причем указанная первая поверхность имеет первичную абразивную зону, которая имеет главным образом однородный слой сцепленных с ней абразивных частиц и занимает внешний периферический участок первой поверхности, который простирается от периферии до точки, которая находится на радиальном расстоянии от центра круга, составляющем по меньшей мере от 10% до 50% полного радиуса, а также центральную зону, которая занимает остальную часть первой поверхности.1. A grinding wheel that has a first and second main surface, said first surface having a primary abrasive zone, which has a substantially uniform layer of abrasive particles adhered to it and occupies an external peripheral portion of the first surface, which extends from the periphery to the point that is at a radial distance from the center of the circle, comprising at least 10% to 50% of the total radius, as well as the central zone, which occupies the rest of the first surface. 2. Шлифовальный круг по п.1, отличающийся тем, что центральная зона содержит абразивный материал худшего качества, чем абразивный материал, осажденный в первичной абразивной зоне.2. The grinding wheel according to claim 1, characterized in that the Central zone contains an abrasive material of lower quality than the abrasive material deposited in the primary abrasive zone. 3. Шлифовальный круг по п.1, отличающийся тем, что центральная зона имеет меньший объем зерна на единицу площади, чем первичная абразивная зона.3. The grinding wheel according to claim 1, characterized in that the central zone has a smaller grain volume per unit area than the primary abrasive zone. 4. Шлифовальный круг по п.1, отличающийся тем, что центральная зона содержит по меньшей мере две концентрические кольцевые зоны с различной степенью ухудшения качества абразивного материала по сравнению с первичной абразивной зоной, причем эта степень ухудшения качества возрастает при увеличении расстояния от периферии круга.4. The grinding wheel according to claim 1, characterized in that the central zone contains at least two concentric annular zones with a different degree of deterioration of the quality of the abrasive material compared to the primary abrasive zone, and this degree of deterioration increases with increasing distance from the periphery of the circle. 5. Шлифовальный круг по п.1, отличающийся тем, что по меньшей мере часть центральной зоны, ближайшая к центру круга, по существу не содержит абразивного материала.5. The grinding wheel according to claim 1, characterized in that at least part of the Central zone closest to the center of the circle, essentially does not contain abrasive material. 6. Способ изготовления шлифовального круга, который имеет периферическую первичную абразивную поверхность, которая простирается на 10-50% расстояния от периферии до центра круга, отличающийся тем, что он предусматривает подачу абразивного зерна на поверхность осаждения зерна над внешней поверхностью конуса осаждения, продольная ось которого перпендикулярна к поверхности осаждения зерна и расположена над поверхностью осаждения зерна, таким образом, что на поверхность осаждения зерно осаждают в виде кольцевой зоны зерна, и электростатическое осаждение зерна с указанной поверхности осаждения на материал основы круга.6. A method of manufacturing a grinding wheel, which has a peripheral primary abrasive surface, which extends 10-50% of the distance from the periphery to the center of the wheel, characterized in that it involves the supply of abrasive grain to the deposition surface of the grain above the outer surface of the deposition cone, the longitudinal axis of which perpendicular to the grain deposition surface and is located above the grain deposition surface, so that the grain is deposited on the deposition surface in the form of an annular grain zone, and electrostatically grain deposition from the indicated deposition surface onto the base material of a circle. 7. Способ по п.6, отличающийся тем, что конус осаждения располагают симметрично внутри цилиндрической колонны, вертикальная продольная ось которой совпадает с продольной осью конуса.7. The method according to claim 6, characterized in that the deposition cone is arranged symmetrically inside the cylindrical column, the vertical longitudinal axis of which coincides with the longitudinal axis of the cone. 8. Способ по п.6, отличающийся тем, что предусматривают множество коаксиальных конусов осаждения с различными наибольшими диаметрами предусмотрено внутри цилиндрической колонны, причем зерно подают во множество кольцевых каналов в пространствах, ограниченных поверхностями конусов, причем первое зерно лучшего качества полают в пространство между конусом с наибольшим диаметром его открытого конца и внутренней поверхностью цилиндрической колонны, а второе зерно худшего качества подают в пространство, ограниченное расположенными напротив друг друга поверхностями конуса.8. The method according to claim 6, characterized in that a plurality of coaxial deposition cones with various largest diameters are provided inside the cylindrical column, the grain being fed into a plurality of annular channels in spaces bounded by the surfaces of the cones, the first grain of better quality being poured into the space between the cone with the largest diameter of its open end and the inner surface of the cylindrical column, and the second worst quality grain is fed into the space bounded by willow each other with cone surfaces. 9. Способ по п.7, отличающийся тем, что содействуют однородному распределению зерна при ею течении вниз в колонне за счет установки решеток, установленных с промежутком по высоте колонны на всю ее ширину.9. The method according to claim 7, characterized in that they contribute to a uniform distribution of grain when it flows downward in the column by installing gratings installed with a gap along the height of the column over its entire width. 10. Способ по п.9, отличающийся тем, что он предусматривает встряхивание решеток при прохождении зерна.10. The method according to claim 9, characterized in that it provides for the shaking of the grids during the passage of grain. 11. Способ по п.6, отличающийся тем, что поверхность осаждения перемещают в положение напротив основы круга, покрытой не отвержденным формирующим полимерным слоем, при нахождении указанной поверхности и основы в зоне электростатического осаждения, и затем осаждают зерно с поверхности осаждения на поверхность основы круга, покрытую не отвержденным формирующим полимерным слоем.11. The method according to claim 6, characterized in that the deposition surface is moved to a position opposite the base of the circle covered with an uncured forming polymer layer, while the specified surface and the base are in the electrostatic deposition zone, and then grain is deposited from the deposition surface on the surface of the circle base coated with an uncured forming polymer layer. 12. Способ по п.6, отличающийся тем, что поверхность осаждения представляет собой основу круга, покрытую не отвержденным формирующим полимерным слоем.12. The method according to claim 6, characterized in that the deposition surface is the base of the circle, covered with an uncured forming polymer layer.
RU2002112341/02A 1999-11-04 2000-10-11 Grinding wheel and method for making it RU2226461C2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/433,439 US6257973B1 (en) 1999-11-04 1999-11-04 Coated abrasive discs
US09/433439 1999-11-04
US09/433,439 1999-11-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2002112341A true RU2002112341A (en) 2003-12-10
RU2226461C2 RU2226461C2 (en) 2004-04-10

Family

ID=23720143

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2002112341/02A RU2226461C2 (en) 1999-11-04 2000-10-11 Grinding wheel and method for making it

Country Status (23)

Country Link
US (2) US6257973B1 (en)
EP (1) EP1226003B1 (en)
JP (1) JP3839718B2 (en)
KR (1) KR100466906B1 (en)
CN (1) CN1158166C (en)
AR (1) AR023286A1 (en)
AT (1) ATE243092T1 (en)
AU (1) AU759680B2 (en)
BR (1) BR0015321B1 (en)
CA (1) CA2386756C (en)
CO (1) CO5280115A1 (en)
CZ (1) CZ20021572A3 (en)
DE (1) DE60003448T2 (en)
HU (1) HUP0203544A2 (en)
MX (1) MXPA02004471A (en)
MY (1) MY124748A (en)
NO (1) NO320298B1 (en)
NZ (1) NZ518275A (en)
PL (1) PL192393B1 (en)
RU (1) RU2226461C2 (en)
TW (1) TW458857B (en)
WO (1) WO2001032364A1 (en)
ZA (1) ZA200203175B (en)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6422929B1 (en) * 2000-03-31 2002-07-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Polishing pad for a linear polisher and method for forming
US6544598B1 (en) * 2001-09-26 2003-04-08 Saint-Gobain Abrasives Technology Company Electrostatic process for depositing abrasive materials
US7704125B2 (en) 2003-03-24 2010-04-27 Nexplanar Corporation Customized polishing pads for CMP and methods of fabrication and use thereof
US8864859B2 (en) 2003-03-25 2014-10-21 Nexplanar Corporation Customized polishing pads for CMP and methods of fabrication and use thereof
US9278424B2 (en) 2003-03-25 2016-03-08 Nexplanar Corporation Customized polishing pads for CMP and methods of fabrication and use thereof
SG2012073722A (en) * 2003-06-03 2016-11-29 Nexplanar Corp Synthesis of a functionally graded pad for chemical mechanical planarization
TWI385050B (en) * 2005-02-18 2013-02-11 Nexplanar Corp Customized polishing pads for cmp and methods of fabrication and use thereof
WO2007072863A1 (en) * 2005-12-20 2007-06-28 Sintokogio, Ltd. Method of estimating projection condition information by projection machine and device thereof
US8551577B2 (en) * 2010-05-25 2013-10-08 3M Innovative Properties Company Layered particle electrostatic deposition process for making a coated abrasive article
JP5767325B2 (en) 2010-07-02 2015-08-19 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Coated abrasive article
WO2013101575A2 (en) 2011-12-29 2013-07-04 3M Innovative Properties Company Coated abrasive article
KR101423627B1 (en) * 2012-10-17 2014-07-28 주식회사 디어포스 Apparatus and method to manufacture abrasive disk
CN103567898A (en) * 2013-10-31 2014-02-12 陕西德赛新材料科技有限公司 Grinding material production equipment
WO2016044625A1 (en) 2014-09-17 2016-03-24 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Polymer impregnated backing material, abrasive articles incorporating same, and processes of making and using
US9873180B2 (en) * 2014-10-17 2018-01-23 Applied Materials, Inc. CMP pad construction with composite material properties using additive manufacturing processes
US10875153B2 (en) 2014-10-17 2020-12-29 Applied Materials, Inc. Advanced polishing pad materials and formulations
US11745302B2 (en) 2014-10-17 2023-09-05 Applied Materials, Inc. Methods and precursor formulations for forming advanced polishing pads by use of an additive manufacturing process
US10399201B2 (en) 2014-10-17 2019-09-03 Applied Materials, Inc. Advanced polishing pads having compositional gradients by use of an additive manufacturing process
US10875145B2 (en) 2014-10-17 2020-12-29 Applied Materials, Inc. Polishing pads produced by an additive manufacturing process
CN113579992A (en) 2014-10-17 2021-11-02 应用材料公司 CMP pad construction with composite material properties using additive manufacturing process
ITUB20153615A1 (en) * 2015-09-14 2017-03-14 Freni Brembo Spa METHOD TO BUILD A BRAKE DISC AND BRAKE DISC FOR DISC BRAKES
CN113103145B (en) 2015-10-30 2023-04-11 应用材料公司 Apparatus and method for forming polishing article having desired zeta potential
US10593574B2 (en) 2015-11-06 2020-03-17 Applied Materials, Inc. Techniques for combining CMP process tracking data with 3D printed CMP consumables
US10391605B2 (en) 2016-01-19 2019-08-27 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for forming porous advanced polishing pads using an additive manufacturing process
CN114986403A (en) * 2017-02-14 2022-09-02 奥古斯特吕格贝格有限及两合公司 Method for producing an abrasive tool and abrasive tool
US11471999B2 (en) 2017-07-26 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Integrated abrasive polishing pads and manufacturing methods
WO2019032286A1 (en) 2017-08-07 2019-02-14 Applied Materials, Inc. Abrasive delivery polishing pads and manufacturing methods thereof
JP6899490B2 (en) 2017-11-21 2021-07-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Coated polishing disc and its manufacturing method and usage method
CN111372728B (en) 2017-11-21 2022-08-09 3M创新有限公司 Coated abrasive disk and methods of making and using same
KR20210042171A (en) 2018-09-04 2021-04-16 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 Formulations for advanced polishing pads
CA3177371A1 (en) * 2020-04-07 2021-10-14 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Fixed abrasive buff
US11806829B2 (en) 2020-06-19 2023-11-07 Applied Materials, Inc. Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods
US11878389B2 (en) 2021-02-10 2024-01-23 Applied Materials, Inc. Structures formed using an additive manufacturing process for regenerating surface texture in situ

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2137329A (en) * 1937-05-11 1938-11-22 Carborundum Co Abrasive article and its manufacture
US2137201A (en) * 1937-06-28 1938-11-15 Carborundum Co Abrasive article and its manufacture
US2309016A (en) * 1942-02-09 1943-01-19 Norton Co Composite grinding wheel
US2451295A (en) * 1944-11-08 1948-10-12 Super Cut Abrasive wheel
US2496352A (en) * 1945-04-02 1950-02-07 Super Cut Abrasive wheel
US2555001A (en) * 1947-02-04 1951-05-29 Bell Telephone Labor Inc Bonded article and method of bonding
GB833309A (en) * 1957-12-24 1960-04-21 Philips Electrical Ind Ltd Improvements in or relating to abrasive cutting discs
US3955324A (en) 1965-10-10 1976-05-11 Lindstroem Ab Olle Agglomerates of metal-coated diamonds in a continuous synthetic resinous phase
US3991527A (en) 1975-07-10 1976-11-16 Bates Abrasive Products, Inc. Coated abrasive disc
DE2918103C2 (en) 1979-05-04 1985-12-05 Sia Schweizer Schmirgel- & Schleifindustrie Ag, Frauenfeld Method for applying a base binder and apparatus for carrying out the same
DE3328209A1 (en) * 1983-08-04 1985-02-21 A. & C. Kosik GmbH, 8420 Kelheim Apparatus for the uniform charging of cylindrical shafts
US5380390B1 (en) 1991-06-10 1996-10-01 Ultimate Abras Systems Inc Patterned abrasive material and method
US5503592A (en) * 1994-02-02 1996-04-02 Turbofan Ltd. Gemstone working apparatus
EP0855948B1 (en) * 1995-10-20 2002-07-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article containing an inorganic metal orthophosphate
GB2316414B (en) * 1996-07-31 2000-10-11 Tosoh Corp Abrasive shaped article, abrasive disc and polishing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2002112341A (en) Grinding wheel and method of its manufacture
KR100466906B1 (en) Improved coated abrasive discs
CA1254720A (en) Method and apparatus for uniformly loading particulate material into cylindrical beds
KR100280064B1 (en) Abrasive products
US4972884A (en) Method and apparatus for uniformly loading particulate material into cylindrical beds
US7144360B2 (en) Centrifugal separator with a separate strip insert mounted in the bowl
JP6438610B2 (en) Chemical mechanical polishing pad conditioner and method for manufacturing the same
US5470273A (en) Grinding wheel for surface cutting of workpieces
SU692545A3 (en) Apparatus for atomizing sludges
CN1422174A (en) Floor element for a device for treating particulate material
CN112195045A (en) Material distribution device of adsorption tower and adsorption tower thereof
CN111822328A (en) Screening device and method for producing screen cage type copper-based powder
KR101989328B1 (en) Impact-Reducing Uniform-Flowing Disc and Reactor
CN112108992B (en) Ceramic small part batch grinding device
AU8008700B2 (en)
JP7334225B2 (en) Conditioner for chemical mechanical polishing pad and method for producing the same
CN213159431U (en) Centrifugal atomizing dish and atomizer
JP6974214B6 (en) Painting equipment
US3235349A (en) Apparatus for producing glass filaments having a distributor cup within centrifugal rotor
JPH0716263Y2 (en) Sanding equipment
RU2362609C1 (en) Support for chromatographic column
SU1180229A1 (en) Loading apparatus
TH4086A (en) Method and machine for evenly loading particle material into a cylindrical bed.
TH4453B (en) Method and machine for evenly loading particle material into a cylindrical bed.
TH4086EX (en) Method and machine for evenly loading particle material into a cylindrical bed.