RU2001972C1 - Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени - Google Patents
Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарениInfo
- Publication number
- RU2001972C1 RU2001972C1 SU5002318A RU2001972C1 RU 2001972 C1 RU2001972 C1 RU 2001972C1 SU 5002318 A SU5002318 A SU 5002318A RU 2001972 C1 RU2001972 C1 RU 2001972C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- holder
- cathode
- chamber
- electrodes
- installation
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Использование: при нанесении металлсодержащих упрочн ющих покрытий, преимущественно в машиностроении при нанесении покрытий различного назначени на детали машин и режущий инструмент . Сущность изобретени : установка содержит вакуумную камеру и расположенные о ней средства возбуждени двухступенчатого вакуумнодугового разр да с вращающимс держателем дл установки изделий. Изделие устанавливаетс на держателе так, что ограничиваетс зона пр мой видимости положительно зар женного электрода ва- куумно-дугового разр да со стороны катода, те. изделие выполн ет функцию экрана Это позвол ет обеспечить возбуждение в вакуумной камере двухступенчатого разр да. Последний позвол ет повысить качество покрыти за счет уменьшени в нем доли капельной фазы при увеличении атомарного компонента в осаждаемом на поверхности издели потоке. Предусмотрен вариант исполнени установки дл обработки нескольких расположенных по окружное) и изделий, а также вариант с дополнительным поворотным экраном 2 с и 3 эпф-лы. 5 ил
Description
IS
Изобретение относитс к технике нанесени металлосодержащих покрытий (чисто металлических и соединений металлов с различными газами) и может быть использовано в машиностроении при нанесении покрытий различного назначени .
Известны установки, в которых покрыти получают с помощью распылительных устройств магнетронного типа. Покрыти , полученные в установках такого типа, обладают высоким качеством, однако они конструктивно сложны (из-за наличи магнитных систем) и не образуют плазму с высокой степенью ионизации в зоне обрабатываемого издели .
Наиболее близким к за вл емому по технической сущности и достигаемому результату вл етс установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени Пуск. Установка содержит вакуумную камеру с размещенным в ней катодом из испар емого металла, установленным напротив вращающегос приспособлени дл установки издели . При возбуждении электрической дуги с поверхности катода происходит испарение металла , который осаждаетс на издели х, установленных напротив катода на вращающемс приспособлении дл установки изделий . Недостатком известной установки вл етс наличие макрочастиц в наносимом покрытии, обусловленное характерной дл электродугового испарител капельной эрозией поверхности испарени катода. Продукты эрозии материала катода представл ют ионизированные пары металла и металлические капли, размеры которых могут быть до 10 мкм.
Цель изобретени - повышение качества покрыти за счет уменьшени в нем доли капельной фазы при увеличении атомарного компонента в осаждаемом на поверхности издели потоке.
Цель реализуетс посредством того, что установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени , содержаща вакуумную камеру с системами высоковакуумной откачки и подачи рабочего газа, катод электродугового испарител , выполненный из напыл емого металла и установленный в центральной части камеры с возможностью вращени , держатель издели с установочным участком дл последнего, анод, источник питани электродугового испарител , снабжена источником питани двухступенчатого вэкуум- но-дугового разр да, изолированными от камеры и размещенными внутри нее электродами , один из которых расположен диаметрально противоположно катоду и
соединен с положительным полюсом источника двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, а два других соединены с отрицательным полюсом собственного источника
питани , выполнены из распыл емого металла в виде прот женных вдоль периферии установочного участка держател издели дугообразных элементов, расположенных с радиальным зазором относительно держател и противоположно относительно друг друга по разные стороны от плоскости расположени продольных осей симметрии катода и первого изолированного электрода, при этом установочный участок держател
расположен симметрично относительно оси
вращени держател с обеспечением возможности ограничени зоны пр мой видимости поверхности испарени катода со стороны противоположно расположенного
0 изолированного электрода при установке в держатель издели .
Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени может быть также снабжена источником
5 питани двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, изолированными от камеры и размещенными внутри нее электродами, один из которых расположен диаметрально противоположно катоду и соединен с поло0 жительным полюсом источника двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, два других соединены с отрицательным полюсом собственного источника питани , выполнены из распыл емого металла в виде
5 прот женных вдоль периферии держател дугообразных элементов, расположенных с радиальным зазором относительно держател и противоположно относительно друг друга по разные стороны от плоскости рас0 положени продольных осей симметрии катода и противолежащего ему изолированного электрода, установочные участки дл изделий размещены по периферии держател . При этом установка снабже5 на экранирующим цилиндрическим элементом, закрепленным в центральной части держател с возможностью ограничени зоны пр мой видимости поверхности испарени катода со стороны противопо0 ложно расположенного изолированного электрода через радиальный зазор между взаимно обращенными поверхност ми экранирующего цилиндрического элемента и противоположно расположенных злектро5 дов дугообразной формы.
Кроме того, установка снабжена поворотным экраном, расположенным между катодом и наружной поверхностью держател дл установки изделий, Цилиндрический элемент выполнен в виде обечайки из материала наносимого покрыти и соединен с отрицательным полюсом источником питани электродов дугообразной формы. Установочные участки дл изделий расположены на автономных элементах, ус- тановленных на держателе с возможностью планетарного вращени относительно его оси.
Сравнительный анализ показал, что предложенное техническое решение по сравнению с известными соответствует критери м патентноспособности. поскольку за вленные признаки, отраженные в формуле изобретени , как в отдельности, так и их совокупности не были обнаружены в данной и смежных област х науки и техники дл решени поставленной задачи.
На фиг. 1 представлена установка с одним изделием, укрепленным на приспособлении дл установки изделий; на фиг.2 - электродна система установки, изображенной на фиг.1, в аксонометрии; на фиг.З - установка, в которой достигаетс высокое качество покрыти за счет полного отсутстви капельной фазы в наносимом покрытии; на фиг.4-установка дл обработки нескольких изделий, установленных на периферии приспособлени дл установки изделий; на фиг,5 - установка с дополнительным внутренним распыл емым электродом.
Установка, изображенна на фиг.1 содержит вакуумную камеру 1, в которой уста- новлены катод 2 электродугового испарител из распыл емого металла, приспособление 3 с вращающимс держателем (на фиг.1 не показан) дл установки изделий 4, источник 5 питани электродугового испарител металлов, электрод 6, изолированный от камеры, источник 7 питани двухступенчатого вакуумно-дугового разр - да, электроды 8 из распыл емого материала , охватывающие с двух сторон держатель дл установки изделий и изделие 4. установленные в пространстве вакуумной камеры 1 между катодом 2 и электродом 6. Электро- питание распыл емых электродов осуществл етс от источника 9 питани . Вакуумна камера снабжена системой 10 подачи рабочего газа. В зазоре между электродами 8 и изделием: две разнородные в физическом отношении области: область 11, заполненна металлогазовой плазмой, и область 12, заполненна чисто газовой плазмой.
На фиг.2 электроды показаны о аксонометрии .
На фиг.4 изображен вариант исполнени с вращающимс держателем 13 дл установки изделий 14, расположенных по лериферии держател 13. В центральной части держател 13 установлен цилиндр 15,
ограничивающий зону пр мой видимости между катодом 2 и электродом 6. Цилиндр 15 формирует щелевой зазор между катодом 2 и электродом 6.
На фиг.5 распыл емый цилиндр 16 изготовлен из материала покрытий.
На фиг.З дополнительный подвижный экран 17 установлен между катодом и держателем дл установки изделий и изделием 4.
Установка, изображенна на фиг.1 работает следующим образом.
Камера 1 откачиваетс системой высоковакуумной откачки и в нее производитс напуск рабочего газа (например, аргона) до дзвпени 8 10 Па. При включении источников 5 и 7 питани между катодом 2 и электродом б возбуждаетс двухступенчатый вакуумно-дуговой разр д. Двухступенчатый вакуумно-дуговой разр д характеризуетс наличием двух различных в физическом отношении областей; области 11, заполненной металлогазовой плазмой, и области 12 заполненной чисто газовой плазмой. Эти области заполн ют щелевой зазор между изделием 4 и электродами 8. Область металлогазовой плазмы ограничена пределами пр мой видимости со стороны расположени электрода 6 поверхности напр жени катода 2 через щелевой зазор. Ионы металлической плазмы, генерируемой катодом, не проникают в остальное пространство щелевого зазора, поскольку распростран ютс от катода по пр молинейным траектори м.
При подаче высоковольтного отрицательною потенциала между камерой 1 и электродами 8 ионы металлогазовой плазмы из области 11 и ионы газовой плазмы из области 12 бомбардируют поверхность электрода 8 и распыл ют ее. Распыленный в атомарном состо нии металл в щелевом зазоре ионизируетс и осаждаетс на изде- пие 4 Скорость распылени в результате ионной бомбардировки определ етс как
Р-0,037 AS, г/ч,(1)
где А - атсмный вес вещества;
S - коэффициент самораспылени , завис щий от рода распыл емого металла и бомбардирующего газа, энергии бомбардирующего иона (напр жени на распыл е- ;-,о- ,/лектроде);
I - ионный ток на распыл емый электрод .
.(2)
где j плотность ионного тока;
F - площадь рабочей поверхности распредел емого электрода.
Показано, что в двухступенчатом ваку- умно-дуговом разр де
J-O.OIb.(3)
где Эп - плотность электронного тока сквозь сечение разр да.5
Ьл
V
(4)
где 1р - ток разр да;
F р - сечение разр да.
Использу вышеприведенные соотношени , можно показать, что в установке дл нанесени покрытий потоки металла от испарител и распыл емых электродов соизмеримы при напр жени х на электродах в несколько сот вольт, если при качестве рабочего газа примен ть аргон. При необходимости получени соединени металла с газами в рабочий газ ввод т примесь легирующего газа на уровне 10-15 % от содер- жани аргона.
В установке, изображенной на фиг.4, применен цилиндр 15, установленный на приспособлении дл установки изделий. Этот цилиндр экранирует катод 2 от элект- рода 6 (анода). В результате формируетс оптически непрозрачный щелевой зазор между катодом 2 и электродом 6. Без применени цилиндра не обеспечиваетс оптическа изол ци анода от катода и, как следствие, не возбуждаетс двухступенчатый вакуумно-дуговой разр д.
В установке на фиг.5 с целью увеличени производительности цилиндр изготовлен в виде обечайки из материала покрыти и на него и на распыл емые электроды 8 подаетс высоковольтный отрицательный потенциал. В результате возрастает суммарна площадь рабочей поверхности распыл емых электродов, за счет чего возрастает новый ток и, как следствие, производительность и качество покрыти , так как увеличиваетс дол бескапельного атомарного компонента в покрытии.
В установке на фиг.З полностью исклю- чаетс капельна фаза за счет размещени между катодом 2 и изделием 4 подвижного экрана 17. Если экран 17 перекрывает катод (как это изображено на фиг.5), то на изделие не попадает поток металла, генерируемый с поверхности испарени катода 2. При отводе экрана от катода работа установки ничем не отличаетс от работы установки, изображенной на фиг.1. При работе установки с перекрытым экраном ее производитель ность падает примерно в два раза.
Экспериментальна установка дл проверки предложенного принципа была построена по схеме, изображенной на фиг.З. Размеры: диаметр вакуумной камеры 650 мм, длина катода из титана 800 мм, длина вакуумной камеры 1000 мм, радиус распыл емых электродов 8 из титана 300 мм, длина одного электрода по окружности 300 мм, высота электрода 800 мм. Зазор между электродом и изделием, дл имитации которого применена обечайка из стали 1 х 18Н10Т, составл л 30 мм (диаметр издели 540 мм). Ток разр да испарител 200 А , напр жение на распыл емых электродах 600 В.
Проведены экспериментальные напылени на отполированные образцы из фольги , установленные вдоль образующей обечайки. При нанесении покрыти в течение 1 ч толщина покрыти на образце размером 20 х 20, установленном в центре обечайки, одним электродуговым испарителем без подачи напр жени на распыл емый электрод составила 3,3 мкм, только с распыл емых электродов (подвижный экран в положении, изображенном на фиг.З) составила 3,5 мкм, совместно от катода электродугового испарител и распыл емых электродов (подвижный экран 17 отведен от катода) составила 7 мкм.
Качество покрытий определ лось визуально по блеску покрыти . По блеску покрыти располагались в следующем пор дке 2-3-1.
Таким образом, происходит повышение качества покрыти , визуально про вл ющеес в увеличении блеска (коэффициента отражени покрыти ) при нанесении покрыти в предлагаемой установке, чем достигаетс цель изобретени .
(56) Марахтанов М.К. Плазменные ускорители и ионные инжекторы. М.: Наука, 1984, с. 264.
Mostra delle tecnologie sovletlche, Genova, Badla S. Andrea, 12/16giugno, 1989, p. 99.
Claims (5)
1. УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ УПРОЧНЯЮЩИХ ПОКРЫТИЙ МЕТОДОМ ЭЛЕКТРОДУГОВОГО ИСПАРЕНИЯ, содержаща вакуумную камеру с системами высоковакуумной откачки и подачи рабочего газа, расположенный в камере катод электродугового испарител , выполненный из напыл емого металла, установленный в центральной части камеры с возможностью вращени держатель с размещенным на нем установочным участком дл издели , анод, источник питани электродугового испарител , отличающа с тем, что
она снабжена источником питани двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, изолированными от камеры и размещенными в ней электродами, первый из которыхрасположендиаметрально противоположно катоду и соединен с положительным полюсом источника двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, два других электрода соединены с отрицательным полюсом собственного источника питани , выполнены из распыл емого металла в виде прот женных вдоль периферии установочного участка держател издели дугообразных элементов, расположенных с радиальным зазором относительно держател и противоположно друг другу по разные стороны от плоскости расположени продольных осей симметрии катода и первого изолированного электрода , при этом установочный участок держател расположенсимметрично относительно оси вращени держател с обеспечением возможности ограничени зоны пр мой видимости поверхности испарени катода со стороны противоположно расположенного изолированного электрода при установке в держатель издели .
2. Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени , содержаща вакуумную камеру с системами высоковакуумной откачки и подачи рабочего газа, расположенные в камере катод электродугового испарител , выполненный из напыл емого металла, установленный в центральной части камеры с возможностью вращени держатель с размещенными на нем установочными участками дл изделий, источник питани электродугового испарител , отличающа с тем, что она снабжена источником питани двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, изолированными от камеры и размещенными в ней электродами, первый из которых расположен диаметрально противоположно катоду и соединен с положительнымполюсомисточника двухступенчатого вакуумно-дугового разр да , два других электрода соединены с отрицательным полюсом собственного источника питани , выполнены из распыл емого металла в виде прот женных вдоль периферии держател дугообразных элементов , расположенных с радиальным заQ зором относительно держател и противоположно друг другу по разные стороны от плоскости расположени продольных осей симметрии катода и противолежащего ему изолированного
5 электрода, установочные участки дл изделий размещены по периферии держател . при этом установка снабжена экранирующим цилиндрическим элементом, закрепленным в центральной части держател с
0 возможностью ограничени зоны пр мой видимости поверхности испарени катода со стороны противоположно расположенного изолированного электрода через радиальныйзазормежду
5 взаимообращенными поверхност ми экранирующего цилиндрического элемента и противоположно расположенных электродов дугообразной формы.
3. Установка по п.1 или 2, отличающа 0 С тем, что она снабжена поворотным экраном , расположенным между катодом и наружной поверхностью держател дл установки изделий.
с- 4. Установка по п.2, отличающа с тем, что цилиндрический элемент выполнен в виде обечайки из материала наносимого покрыти и соединен с отрицательным полюсом источника питани электродов дуго0 образной формы.
5. Установка по п.2, отличающа с тем, что установочные участки дл изделий расположены на автономных элементах, установленных на держателе с возможностью
5 планетарного сращени относительно его оси.
fff
cpt/e.1
ff
8
Ј ЗПСЬ
I
at
ZblGOZ
fO
s ia
фиа5
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU5002318 RU2001972C1 (ru) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU5002318 RU2001972C1 (ru) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2001972C1 true RU2001972C1 (ru) | 1993-10-30 |
Family
ID=21585223
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU5002318 RU2001972C1 (ru) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2001972C1 (ru) |
-
1991
- 1991-09-11 RU SU5002318 patent/RU2001972C1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6214183B1 (en) | Combined ion-source and target-sputtering magnetron and a method for sputtering conductive and nonconductive materials | |
CA1321772C (en) | Apparatus for the application of thin layers to a substrate by means of cathode sputtering | |
JP5160730B2 (ja) | ビーム状プラズマ源 | |
US5317235A (en) | Magnetically-filtered cathodic arc plasma apparatus | |
US6635156B1 (en) | Producing electric arc plasma in a curvilinear plasmaguide and substrate coating | |
KR100559285B1 (ko) | 캐소우드아크증착장치 | |
US5972185A (en) | Cathodic arc vapor deposition apparatus (annular cathode) | |
WO2002086937A1 (en) | Dipole ion source | |
JPH10509833A (ja) | プラズマ処理用線形アーク放電発生装置 | |
Shugurov et al. | QUINTA equipment for ion-plasma modification of materials and products surface and vacuum arc plasma-assisted deposition of coatings | |
KR20130121078A (ko) | 지정된 전기장을 갖는 아크 증착 소스 | |
US7023128B2 (en) | Dipole ion source | |
US6756596B2 (en) | Filtered ion source | |
US6009829A (en) | Apparatus for driving the arc in a cathodic arc coater | |
RU2001972C1 (ru) | Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени | |
JP6619921B2 (ja) | 蒸発源 | |
US6770178B2 (en) | Cathodic arc disposable sting shielding | |
US8241468B2 (en) | Method and apparatus for cathodic arc deposition of materials on a substrate | |
KR20010021341A (ko) | 아크형 이온 플레이팅 장치 | |
RU2155242C2 (ru) | Устройство для нанесения покрытий в вакууме | |
EP0899773B1 (en) | Cathodic arc coater with an apparatus for driving the arc | |
RU2173911C2 (ru) | Получение электродуговой плазмы в криволинейном плазмоводе и нанесение покрытия на подложку | |
RU2214477C2 (ru) | Установка для напыления покрытий | |
RU2096520C1 (ru) | Электродуговой испаритель | |
RU2037561C1 (ru) | Устройство для упрочняющей поверхностной обработки |