RU2001972C1 - Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени - Google Patents

Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени

Info

Publication number
RU2001972C1
RU2001972C1 SU5002318A RU2001972C1 RU 2001972 C1 RU2001972 C1 RU 2001972C1 SU 5002318 A SU5002318 A SU 5002318A RU 2001972 C1 RU2001972 C1 RU 2001972C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
holder
cathode
chamber
electrodes
installation
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Леонид Павлович Саблев (н/п)
Анатолий Афанасьевич Андреев (н/п)
Сергей Николаевич Григорьев (н/п)
Original Assignee
Научно-производственное предпри тие "Новатех"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Научно-производственное предпри тие "Новатех" filed Critical Научно-производственное предпри тие "Новатех"
Priority to SU5002318 priority Critical patent/RU2001972C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2001972C1 publication Critical patent/RU2001972C1/ru

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Использование: при нанесении металлсодержащих упрочн ющих покрытий, преимущественно в машиностроении при нанесении покрытий различного назначени  на детали машин и режущий инструмент . Сущность изобретени : установка содержит вакуумную камеру и расположенные о ней средства возбуждени  двухступенчатого вакуумнодугового разр да с вращающимс  держателем дл  установки изделий. Изделие устанавливаетс  на держателе так, что ограничиваетс  зона пр мой видимости положительно зар женного электрода ва- куумно-дугового разр да со стороны катода, те. изделие выполн ет функцию экрана Это позвол ет обеспечить возбуждение в вакуумной камере двухступенчатого разр да. Последний позвол ет повысить качество покрыти  за счет уменьшени  в нем доли капельной фазы при увеличении атомарного компонента в осаждаемом на поверхности издели  потоке. Предусмотрен вариант исполнени  установки дл  обработки нескольких расположенных по окружное) и изделий, а также вариант с дополнительным поворотным экраном 2 с и 3 эпф-лы. 5 ил

Description

IS
Изобретение относитс  к технике нанесени  металлосодержащих покрытий (чисто металлических и соединений металлов с различными газами) и может быть использовано в машиностроении при нанесении покрытий различного назначени .
Известны установки, в которых покрыти  получают с помощью распылительных устройств магнетронного типа. Покрыти , полученные в установках такого типа, обладают высоким качеством, однако они конструктивно сложны (из-за наличи  магнитных систем) и не образуют плазму с высокой степенью ионизации в зоне обрабатываемого издели .
Наиболее близким к за вл емому по технической сущности и достигаемому результату  вл етс  установка дл  нанесени  упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени  Пуск. Установка содержит вакуумную камеру с размещенным в ней катодом из испар емого металла, установленным напротив вращающегос  приспособлени  дл  установки издели . При возбуждении электрической дуги с поверхности катода происходит испарение металла , который осаждаетс  на издели х, установленных напротив катода на вращающемс  приспособлении дл  установки изделий . Недостатком известной установки  вл етс  наличие макрочастиц в наносимом покрытии, обусловленное характерной дл  электродугового испарител  капельной эрозией поверхности испарени  катода. Продукты эрозии материала катода представл ют ионизированные пары металла и металлические капли, размеры которых могут быть до 10 мкм.
Цель изобретени  - повышение качества покрыти  за счет уменьшени  в нем доли капельной фазы при увеличении атомарного компонента в осаждаемом на поверхности издели  потоке.
Цель реализуетс  посредством того, что установка дл  нанесени  упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени , содержаща  вакуумную камеру с системами высоковакуумной откачки и подачи рабочего газа, катод электродугового испарител , выполненный из напыл емого металла и установленный в центральной части камеры с возможностью вращени , держатель издели  с установочным участком дл  последнего, анод, источник питани  электродугового испарител , снабжена источником питани  двухступенчатого вэкуум- но-дугового разр да, изолированными от камеры и размещенными внутри нее электродами , один из которых расположен диаметрально противоположно катоду и
соединен с положительным полюсом источника двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, а два других соединены с отрицательным полюсом собственного источника
питани , выполнены из распыл емого металла в виде прот женных вдоль периферии установочного участка держател  издели  дугообразных элементов, расположенных с радиальным зазором относительно держател  и противоположно относительно друг друга по разные стороны от плоскости расположени  продольных осей симметрии катода и первого изолированного электрода, при этом установочный участок держател 
расположен симметрично относительно оси
вращени  держател  с обеспечением возможности ограничени  зоны пр мой видимости поверхности испарени  катода со стороны противоположно расположенного
0 изолированного электрода при установке в держатель издели .
Установка дл  нанесени  упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени  может быть также снабжена источником
5 питани  двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, изолированными от камеры и размещенными внутри нее электродами, один из которых расположен диаметрально противоположно катоду и соединен с поло0 жительным полюсом источника двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, два других соединены с отрицательным полюсом собственного источника питани , выполнены из распыл емого металла в виде
5 прот женных вдоль периферии держател  дугообразных элементов, расположенных с радиальным зазором относительно держател  и противоположно относительно друг друга по разные стороны от плоскости рас0 положени  продольных осей симметрии катода и противолежащего ему изолированного электрода, установочные участки дл  изделий размещены по периферии держател . При этом установка снабже5 на экранирующим цилиндрическим элементом, закрепленным в центральной части держател  с возможностью ограничени  зоны пр мой видимости поверхности испарени  катода со стороны противопо0 ложно расположенного изолированного электрода через радиальный зазор между взаимно обращенными поверхност ми экранирующего цилиндрического элемента и противоположно расположенных злектро5 дов дугообразной формы.
Кроме того, установка снабжена поворотным экраном, расположенным между катодом и наружной поверхностью держател  дл  установки изделий, Цилиндрический элемент выполнен в виде обечайки из материала наносимого покрыти  и соединен с отрицательным полюсом источником питани  электродов дугообразной формы. Установочные участки дл  изделий расположены на автономных элементах, ус- тановленных на держателе с возможностью планетарного вращени  относительно его оси.
Сравнительный анализ показал, что предложенное техническое решение по сравнению с известными соответствует критери м патентноспособности. поскольку за вленные признаки, отраженные в формуле изобретени , как в отдельности, так и их совокупности не были обнаружены в данной и смежных област х науки и техники дл  решени  поставленной задачи.
На фиг. 1 представлена установка с одним изделием, укрепленным на приспособлении дл  установки изделий; на фиг.2 - электродна  система установки, изображенной на фиг.1, в аксонометрии; на фиг.З - установка, в которой достигаетс  высокое качество покрыти  за счет полного отсутстви  капельной фазы в наносимом покрытии; на фиг.4-установка дл  обработки нескольких изделий, установленных на периферии приспособлени  дл  установки изделий; на фиг,5 - установка с дополнительным внутренним распыл емым электродом.
Установка, изображенна  на фиг.1 содержит вакуумную камеру 1, в которой уста- новлены катод 2 электродугового испарител  из распыл емого металла, приспособление 3 с вращающимс  держателем (на фиг.1 не показан) дл  установки изделий 4, источник 5 питани  электродугового испарител  металлов, электрод 6, изолированный от камеры, источник 7 питани  двухступенчатого вакуумно-дугового разр - да, электроды 8 из распыл емого материала , охватывающие с двух сторон держатель дл  установки изделий и изделие 4. установленные в пространстве вакуумной камеры 1 между катодом 2 и электродом 6. Электро- питание распыл емых электродов осуществл етс  от источника 9 питани . Вакуумна  камера снабжена системой 10 подачи рабочего газа. В зазоре между электродами 8 и изделием: две разнородные в физическом отношении области: область 11, заполненна  металлогазовой плазмой, и область 12, заполненна  чисто газовой плазмой.
На фиг.2 электроды показаны о аксонометрии .
На фиг.4 изображен вариант исполнени  с вращающимс  держателем 13 дл  установки изделий 14, расположенных по лериферии держател  13. В центральной части держател  13 установлен цилиндр 15,
ограничивающий зону пр мой видимости между катодом 2 и электродом 6. Цилиндр 15 формирует щелевой зазор между катодом 2 и электродом 6.
На фиг.5 распыл емый цилиндр 16 изготовлен из материала покрытий.
На фиг.З дополнительный подвижный экран 17 установлен между катодом и держателем дл  установки изделий и изделием 4.
Установка, изображенна  на фиг.1 работает следующим образом.
Камера 1 откачиваетс  системой высоковакуумной откачки и в нее производитс  напуск рабочего газа (например, аргона) до дзвпени  8 10 Па. При включении источников 5 и 7 питани  между катодом 2 и электродом б возбуждаетс  двухступенчатый вакуумно-дуговой разр д. Двухступенчатый вакуумно-дуговой разр д характеризуетс  наличием двух различных в физическом отношении областей; области 11, заполненной металлогазовой плазмой, и области 12 заполненной чисто газовой плазмой. Эти области заполн ют щелевой зазор между изделием 4 и электродами 8. Область металлогазовой плазмы ограничена пределами пр мой видимости со стороны расположени  электрода 6 поверхности напр жени  катода 2 через щелевой зазор. Ионы металлической плазмы, генерируемой катодом, не проникают в остальное пространство щелевого зазора, поскольку распростран ютс  от катода по пр молинейным траектори м.
При подаче высоковольтного отрицательною потенциала между камерой 1 и электродами 8 ионы металлогазовой плазмы из области 11 и ионы газовой плазмы из области 12 бомбардируют поверхность электрода 8 и распыл ют ее. Распыленный в атомарном состо нии металл в щелевом зазоре ионизируетс  и осаждаетс  на изде- пие 4 Скорость распылени  в результате ионной бомбардировки определ етс  как
Р-0,037 AS, г/ч,(1)
где А - атсмный вес вещества;
S - коэффициент самораспылени , завис щий от рода распыл емого металла и бомбардирующего газа, энергии бомбардирующего иона (напр жени  на распыл е- ;-,о- ,/лектроде);
I - ионный ток на распыл емый электрод .
.(2)
где j плотность ионного тока;
F - площадь рабочей поверхности распредел емого электрода.
Показано, что в двухступенчатом ваку- умно-дуговом разр де
J-O.OIb.(3)
где Эп - плотность электронного тока сквозь сечение разр да.5
Ьл
V
(4)
где 1р - ток разр да;
F р - сечение разр да.
Использу  вышеприведенные соотношени , можно показать, что в установке дл  нанесени  покрытий потоки металла от испарител  и распыл емых электродов соизмеримы при напр жени х на электродах в несколько сот вольт, если при качестве рабочего газа примен ть аргон. При необходимости получени  соединени  металла с газами в рабочий газ ввод т примесь легирующего газа на уровне 10-15 % от содер- жани  аргона.
В установке, изображенной на фиг.4, применен цилиндр 15, установленный на приспособлении дл  установки изделий. Этот цилиндр экранирует катод 2 от элект- рода 6 (анода). В результате формируетс  оптически непрозрачный щелевой зазор между катодом 2 и электродом 6. Без применени  цилиндра не обеспечиваетс  оптическа  изол ци  анода от катода и, как следствие, не возбуждаетс  двухступенчатый вакуумно-дуговой разр д.
В установке на фиг.5 с целью увеличени  производительности цилиндр изготовлен в виде обечайки из материала покрыти  и на него и на распыл емые электроды 8 подаетс  высоковольтный отрицательный потенциал. В результате возрастает суммарна  площадь рабочей поверхности распыл емых электродов, за счет чего возрастает новый ток и, как следствие, производительность и качество покрыти , так как увеличиваетс  дол  бескапельного атомарного компонента в покрытии.
В установке на фиг.З полностью исклю- чаетс  капельна  фаза за счет размещени  между катодом 2 и изделием 4 подвижного экрана 17. Если экран 17 перекрывает катод (как это изображено на фиг.5), то на изделие не попадает поток металла, генерируемый с поверхности испарени  катода 2. При отводе экрана от катода работа установки ничем не отличаетс  от работы установки, изображенной на фиг.1. При работе установки с перекрытым экраном ее производитель ность падает примерно в два раза.
Экспериментальна  установка дл  проверки предложенного принципа была построена по схеме, изображенной на фиг.З. Размеры: диаметр вакуумной камеры 650 мм, длина катода из титана 800 мм, длина вакуумной камеры 1000 мм, радиус распыл емых электродов 8 из титана 300 мм, длина одного электрода по окружности 300 мм, высота электрода 800 мм. Зазор между электродом и изделием, дл  имитации которого применена обечайка из стали 1 х 18Н10Т, составл л 30 мм (диаметр издели  540 мм). Ток разр да испарител  200 А , напр жение на распыл емых электродах 600 В.
Проведены экспериментальные напылени  на отполированные образцы из фольги , установленные вдоль образующей обечайки. При нанесении покрыти  в течение 1 ч толщина покрыти  на образце размером 20 х 20, установленном в центре обечайки, одним электродуговым испарителем без подачи напр жени  на распыл емый электрод составила 3,3 мкм, только с распыл емых электродов (подвижный экран в положении, изображенном на фиг.З) составила 3,5 мкм, совместно от катода электродугового испарител  и распыл емых электродов (подвижный экран 17 отведен от катода) составила 7 мкм.
Качество покрытий определ лось визуально по блеску покрыти . По блеску покрыти  располагались в следующем пор дке 2-3-1.
Таким образом, происходит повышение качества покрыти , визуально про вл ющеес  в увеличении блеска (коэффициента отражени  покрыти ) при нанесении покрыти  в предлагаемой установке, чем достигаетс  цель изобретени .
(56) Марахтанов М.К. Плазменные ускорители и ионные инжекторы. М.: Наука, 1984, с. 264.
Mostra delle tecnologie sovletlche, Genova, Badla S. Andrea, 12/16giugno, 1989, p. 99.

Claims (5)

1. УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ УПРОЧНЯЮЩИХ ПОКРЫТИЙ МЕТОДОМ ЭЛЕКТРОДУГОВОГО ИСПАРЕНИЯ, содержаща  вакуумную камеру с системами высоковакуумной откачки и подачи рабочего газа, расположенный в камере катод электродугового испарител , выполненный из напыл емого металла, установленный в центральной части камеры с возможностью вращени  держатель с размещенным на нем установочным участком дл  издели , анод, источник питани  электродугового испарител , отличающа с  тем, что
она снабжена источником питани  двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, изолированными от камеры и размещенными в ней электродами, первый из которыхрасположендиаметрально противоположно катоду и соединен с положительным полюсом источника двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, два других электрода соединены с отрицательным полюсом собственного источника питани , выполнены из распыл емого металла в виде прот женных вдоль периферии установочного участка держател  издели  дугообразных элементов, расположенных с радиальным зазором относительно держател  и противоположно друг другу по разные стороны от плоскости расположени  продольных осей симметрии катода и первого изолированного электрода , при этом установочный участок держател  расположенсимметрично относительно оси вращени  держател  с обеспечением возможности ограничени  зоны пр мой видимости поверхности испарени  катода со стороны противоположно расположенного изолированного электрода при установке в держатель издели .
2. Установка дл  нанесени  упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени , содержаща  вакуумную камеру с системами высоковакуумной откачки и подачи рабочего газа, расположенные в камере катод электродугового испарител , выполненный из напыл емого металла, установленный в центральной части камеры с возможностью вращени  держатель с размещенными на нем установочными участками дл  изделий, источник питани  электродугового испарител , отличающа с  тем, что она снабжена источником питани  двухступенчатого вакуумно-дугового разр да, изолированными от камеры и размещенными в ней электродами, первый из которых расположен диаметрально противоположно катоду и соединен с положительнымполюсомисточника двухступенчатого вакуумно-дугового разр да , два других электрода соединены с отрицательным полюсом собственного источника питани , выполнены из распыл емого металла в виде прот женных вдоль периферии держател  дугообразных элементов , расположенных с радиальным заQ зором относительно держател  и противоположно друг другу по разные стороны от плоскости расположени  продольных осей симметрии катода и противолежащего ему изолированного
5 электрода, установочные участки дл  изделий размещены по периферии держател . при этом установка снабжена экранирующим цилиндрическим элементом, закрепленным в центральной части держател  с
0 возможностью ограничени  зоны пр мой видимости поверхности испарени  катода со стороны противоположно расположенного изолированного электрода через радиальныйзазормежду
5 взаимообращенными поверхност ми экранирующего цилиндрического элемента и противоположно расположенных электродов дугообразной формы.
3. Установка по п.1 или 2, отличающа 0 С  тем, что она снабжена поворотным экраном , расположенным между катодом и наружной поверхностью держател  дл  установки изделий.
с- 4. Установка по п.2, отличающа с  тем, что цилиндрический элемент выполнен в виде обечайки из материала наносимого покрыти  и соединен с отрицательным полюсом источника питани  электродов дуго0 образной формы.
5. Установка по п.2, отличающа с  тем, что установочные участки дл  изделий расположены на автономных элементах, установленных на держателе с возможностью
5 планетарного сращени  относительно его оси.
fff
cpt/e.1
ff
8
Ј ЗПСЬ
I
at
ZblGOZ
fO
s ia
фиа5
SU5002318 1991-09-11 1991-09-11 Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени RU2001972C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5002318 RU2001972C1 (ru) 1991-09-11 1991-09-11 Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5002318 RU2001972C1 (ru) 1991-09-11 1991-09-11 Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2001972C1 true RU2001972C1 (ru) 1993-10-30

Family

ID=21585223

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU5002318 RU2001972C1 (ru) 1991-09-11 1991-09-11 Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2001972C1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6214183B1 (en) Combined ion-source and target-sputtering magnetron and a method for sputtering conductive and nonconductive materials
CA1321772C (en) Apparatus for the application of thin layers to a substrate by means of cathode sputtering
JP5160730B2 (ja) ビーム状プラズマ源
US5317235A (en) Magnetically-filtered cathodic arc plasma apparatus
US6635156B1 (en) Producing electric arc plasma in a curvilinear plasmaguide and substrate coating
KR100559285B1 (ko) 캐소우드아크증착장치
US5972185A (en) Cathodic arc vapor deposition apparatus (annular cathode)
WO2002086937A1 (en) Dipole ion source
JPH10509833A (ja) プラズマ処理用線形アーク放電発生装置
Shugurov et al. QUINTA equipment for ion-plasma modification of materials and products surface and vacuum arc plasma-assisted deposition of coatings
KR20130121078A (ko) 지정된 전기장을 갖는 아크 증착 소스
US7023128B2 (en) Dipole ion source
US6756596B2 (en) Filtered ion source
KR100530545B1 (ko) 캐소우드아크증착장치
RU2001972C1 (ru) Установка дл нанесени упрочн ющих покрытий методом электродугового испарени
JP6619921B2 (ja) 蒸発源
US6770178B2 (en) Cathodic arc disposable sting shielding
KR20010021341A (ko) 아크형 이온 플레이팅 장치
US20060124450A1 (en) Method and apparatus for cathodic arc deposition of materials on a substrate
RU2173911C2 (ru) Получение электродуговой плазмы в криволинейном плазмоводе и нанесение покрытия на подложку
RU2096520C1 (ru) Электродуговой испаритель
RU2037561C1 (ru) Устройство для упрочняющей поверхностной обработки
RU2098512C1 (ru) Вакуумно-дуговой источник плазмы
RU2037559C1 (ru) Способ нанесения покрытий на изделия методом ионного распыления и устройство для его осуществления
RU2180472C2 (ru) Вакуумно-дуговой источник плазмы