RU189632U1 - Ion beam aperture - Google Patents
Ion beam aperture Download PDFInfo
- Publication number
- RU189632U1 RU189632U1 RU2019106610U RU2019106610U RU189632U1 RU 189632 U1 RU189632 U1 RU 189632U1 RU 2019106610 U RU2019106610 U RU 2019106610U RU 2019106610 U RU2019106610 U RU 2019106610U RU 189632 U1 RU189632 U1 RU 189632U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- ion
- plates
- ion beam
- irradiation
- overlap
- Prior art date
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B9/00—Exposure-making shutters; Diaphragms
- G03B9/08—Shutters
- G03B9/10—Blade or disc rotating or pivoting about axis normal to its plane
- G03B9/26—Blade or disc rotating or pivoting about axis normal to its plane incorporating cover blade or blades
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
Полезная модель относится к ионно-пучковой обработке и может быть использована в конструкциях ионных имплантеров, а также других установках для ионного облучения. Диафрагма ионного пучка состоит из двух пластин из вакуумных материалов, в каждой из которых выполнено отверстие, расположенных плоскопараллельно друг над другом так, что их отверстия не перекрываются в начальный момент времени, причем одна из пластин приводится в движение соленоидами, с сердечниками которых она соединена, при подаче на них регулируемых по длительности и величине импульсов напряжения с блока управления, таким образом, что отверстия обеих пластин перекрываются на требуемый в зависимости от задачи временной интервал и величину дозы облучения. Технический результат - повышение долговечности диафрагмы ионного пучка в условиях вакуума и высоких температур, обеспечение равномерности облучения и уменьшение дозы ионного облучения, отсутствие вибраций при работе. 2 ил.The invention relates to ion-beam processing and can be used in the construction of ion implanters, as well as other installations for ion irradiation. The ion beam aperture consists of two plates of vacuum materials, each of which has an opening, are arranged parallel to each other so that their openings do not overlap at the initial time, and one of the plates is driven by solenoids, with the cores of which it is connected, when applied to them adjustable in duration and magnitude of voltage pulses from the control unit, so that the openings of both plates overlap by the required time interval depending on the task and radiation dose pattern. The technical result is an increase in the durability of the ion beam diaphragm under vacuum and high temperatures, ensuring uniformity of irradiation and reducing the dose of ion irradiation, and the absence of vibrations during operation. 2 Il.
Description
Полезная модель относится к ионно-пучковой обработке и может быть использована в конструкциях ионных имплантеров, а также других установках для ионного облучения.The invention relates to ion-beam processing and can be used in the construction of ion implanters, as well as other installations for ion irradiation.
Уровень техникиThe level of technology
Из уровня техники известно устройство электромагнитного затвора [Патент РФ №2103709, МПК G 03 B 9/14 27.01.1998г]. Устройство содержит два лепестка затвора, кольцо установки экспозиции, поворачиваемое импульсным шаговым двигателем, кулачок установки экспозиции для открытия лепестков, прилив и спусковой кулачок, и фокусировочное кольцо, пружину обратного хода для обеспечения обратного хода фокусировочного кольца, деблокирующие средства для блокировки фокусировочного кольца, контактор, центральный процессор для управления поворотом импульсного шагового двигателя в соответствии с сигналом, поступившим со схемы определения освещенности и расстояния до объекта. The prior art device electromagnetic closure [RF Patent №2103709, IPC G 03 B 9/14 27.01.1998g]. The device contains two shutter lobes, an exposure adjustment ring, rotated by a pulsed stepper motor, an exposure adjustment cam for opening the petals, a tide and a trigger cam, and a focusing ring, a reverse spring for reversing the focusing ring, unlocking means for locking the focusing ring, a contactor, CPU to control the rotation of the pulse stepper motor in accordance with the signal received from the scheme for determining the illumination and distance tions to the subject.
Однако этот затвор имеет сложную конструкцию с большим количеством движущихся частей, которые не обеспечивают одинаковую дозу для каждой точки облучаемого объекта.However, this shutter has a complex structure with a large number of moving parts that do not provide the same dose for each point of the irradiated object.
Наиболее близким аналогом (прототипом) является шторный затвор, имеющий независимое движение шторок, электронное управление выдержки и электромагнит, управляющий закрывающей шторкой, в котором механизм компенсации временной задержки движения шторок выполнен в виде двух соосно размещенных рычагов, на одном из которых установлен эксцентрик, управляющий шторками затвора и кинематически связанный через рычаг спускового механизма с регулируемыми микровинтом контактами включения схемы электромагнита [Авторское свидетельство СССР 318008, МПК G 03 B 9/13, публ. 19.10.1971г.].The closest analogue (prototype) is a curtain shutter having independent shutter movement, electronic control of exposure and an electromagnet controlling the closing shutter, in which the compensation mechanism for the time delay of the shutter movement is made in the form of two coaxially placed levers, one of which has an eccentric that controls the shutters the shutter and kinematically connected through the lever of the trigger mechanism with adjustable micro-screw contacts enable the electromagnet circuit [USSR Author's certificate 318008, M For G 03 B 9/13, publ. 10.19.1971].
К недостаткам описанного приспособления следует отнести так же невозможность обеспечения одинаковой дозы каждой точки облучаемого объекта и невозможность обеспечить надежность использования конструкции в вакууме и при высоких температурах в процессе облучения.The disadvantages of the described device should also include the inability to ensure the same dose of each point of the irradiated object and the inability to ensure the reliability of the use of the structure in vacuum and at high temperatures during irradiation.
Раскрытие сущности полезной моделиDisclosure of the essence of the utility model
Задачей предлагаемой полезной модели является создание диафрагмы для уменьшения времени нахождения образца под ионным пучком с повышенными эксплуатационными характеристиками в условиях вакуума, а также безопасность работы других частей вакуумной камеры (отсутствие вибраций и ударов при работе диафрагмы).The objective of the proposed utility model is to create a diaphragm to reduce the residence time of the sample under the ion beam with enhanced performance under vacuum conditions, as well as the safety of other parts of the vacuum chamber (no vibrations and shocks when the diaphragm is working).
Технический результат - повышение долговечности диафрагмы ионного пучка в условиях вакуума и высоких температур, обеспечение равномерности облучения и уменьшение дозы ионного облучения, отсутствие вибраций при работе.The technical result is an increase in the durability of the ion beam diaphragm under vacuum and high temperatures, ensuring uniformity of irradiation and reducing the dose of ion irradiation, and the absence of vibrations during operation.
Предлагаемое устройство диафрагмы ионного пучка иллюстрируется графическими изображениями:The proposed device aperture of the ion beam is illustrated by graphic images:
Фиг.1 – вид сверху, где 1 и 2 – соленоиды, 3 и 4 – пластины с отверстиями, 5 – источник ионного пучка.Figure 1 is a top view, where 1 and 2 are solenoids, 3 and 4 are plates with holes, 5 is an ion beam source.
Фиг.2 – сечение А-А фиг.1Figure 2 - section aa of figure 1
Пластины 3 и 4 из вакуумного материала (например, нержавеющая сталь), в каждой из которых выполнено отверстие, располагают плоскопараллельно друг над другом так, что их отверстия не перекрываются в начальный момент времени, таким образом, пучки ионов (от источника 5) не попадают на образец. Пластина 3 приводится в движение соленоидами 1 и 2, с сердечниками которых она соединена. При подаче напряжения на соленоиды пластина 3 смещается, таким образом, что отверстия пластин 3 и 4 перекрываются, образуя сквозное отверстие и открывая тем самым на время область над образцом, каждая точка которого получает одну и ту же дозу облучения. Пластина 3 соединена с сердечниками соленоидов 1 и 2 так, что можно проводить неограниченное количество перемещений пластины, поочередно подавая напряжение на соленоиды. Регулируя количество экспозиций и ширину сквозного отверстия, можно контролировать дозу облучения.
Работа системы осуществляется следующим образом.The operation of the system is as follows.
Блок управления подает импульс напряжения на соленоид 1 до перекрытия отверстий пластин 3 и 4. Для завершения движения пластины 3 подается импульс на противоположный соленоид 2, который полностью её останавливает. При необходимости процесс повторяется в обратном порядке. Контроль с помощью блока управления перемещения пластины 3 позволяет исключить возможные столкновения частей диафрагмы внутри вакуумной камеры. Регулируя блоком управления время подачи и длительность импульсов напряжения, осуществляется настройка системы с учетом конструктивных особенностей.The control unit applies a voltage pulse to the
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2019106610U RU189632U1 (en) | 2019-03-11 | 2019-03-11 | Ion beam aperture |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2019106610U RU189632U1 (en) | 2019-03-11 | 2019-03-11 | Ion beam aperture |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU189632U1 true RU189632U1 (en) | 2019-05-29 |
Family
ID=66792824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2019106610U RU189632U1 (en) | 2019-03-11 | 2019-03-11 | Ion beam aperture |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU189632U1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU208203U1 (en) * | 2021-08-12 | 2021-12-08 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук | Rotary ion beam shutter |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU318008A1 (en) * | Красногорский Механический Завод | BLIND CAP DOWN | ||
SU458957A1 (en) * | 1966-03-22 | 1975-01-30 | Предприятие П/Я 3100 | Diaphragm to form a beam of ionizing radiation |
DD230021A1 (en) * | 1984-12-12 | 1985-11-20 | Werk Fernsehelektronik Veb | DEVICE FOR PRODUCING MULTILAYERS THROUGH ION EXTRACTS |
JP5689259B2 (en) * | 2009-07-24 | 2015-03-25 | カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy GmbH | Particle beam apparatus having a diaphragm unit and method for adjusting the beam current of a particle beam apparatus |
-
2019
- 2019-03-11 RU RU2019106610U patent/RU189632U1/en active IP Right Revival
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU318008A1 (en) * | Красногорский Механический Завод | BLIND CAP DOWN | ||
SU458957A1 (en) * | 1966-03-22 | 1975-01-30 | Предприятие П/Я 3100 | Diaphragm to form a beam of ionizing radiation |
DD230021A1 (en) * | 1984-12-12 | 1985-11-20 | Werk Fernsehelektronik Veb | DEVICE FOR PRODUCING MULTILAYERS THROUGH ION EXTRACTS |
JP5689259B2 (en) * | 2009-07-24 | 2015-03-25 | カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy GmbH | Particle beam apparatus having a diaphragm unit and method for adjusting the beam current of a particle beam apparatus |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU208203U1 (en) * | 2021-08-12 | 2021-12-08 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук | Rotary ion beam shutter |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU189632U1 (en) | Ion beam aperture | |
KR0183011B1 (en) | Ion implanter scanning mechanism | |
ATE447762T1 (en) | RADIATION DEVICE AND COLLIMATOR | |
JP2017152366A5 (en) | ||
CN102749786A (en) | Synchronous time sequence control method for turntable type mechanical shutter | |
JP2005236292A5 (en) | ||
KR960001903A (en) | Scanning exposure apparatus | |
US4020356A (en) | Absorption body | |
DE102008016011A1 (en) | Correction of optical elements by means of flatly irradiated correction light | |
Andrelczyk et al. | Optical generation of vortices in trapped Bose-Einstein condensates | |
US20230126790A1 (en) | System and method for particle therapy | |
Epstein | Reduction of time-averaged irradiation speckle nonuniformity in laser-driven plasmas due to target ablation | |
DE2525205C2 (en) | Arrangement for keeping the total beam current intensity of a charge carrier beam constant while at the same time maintaining a symmetrical current density distribution of the charge carrier beam | |
WO2019002082A1 (en) | Method for adjusting an illumination system for microlithography | |
JPH01243519A (en) | Aligner | |
JP5163366B2 (en) | Frequency adjustment device | |
US8373847B2 (en) | Polarization actuator | |
US3088031A (en) | Adjustable collimator | |
Gol’denberg et al. | Microbeam X-ray lithography apparatus for direct production of deep LIGA structures | |
RU2813848C9 (en) | Betatron with adjustment of extracted electron beam | |
RU2813848C2 (en) | Betatron with adjustment of extracted electron beam | |
RU2813844C2 (en) | Betatron with extracted electron beam axis correction system | |
WO2018060126A1 (en) | Projection lithography system with liquid layer for wavefront correction | |
Bahari et al. | GeV‐acceleration of electron by a superintense ultrashort laser pulse | |
JPS6415604A (en) | Measuring apparatus for length by electron beam |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM9K | Utility model has become invalid (non-payment of fees) |
Effective date: 20190618 |
|
NF9K | Utility model reinstated |
Effective date: 20201214 |