RU189632U1 - Ion beam aperture - Google Patents

Ion beam aperture Download PDF

Info

Publication number
RU189632U1
RU189632U1 RU2019106610U RU2019106610U RU189632U1 RU 189632 U1 RU189632 U1 RU 189632U1 RU 2019106610 U RU2019106610 U RU 2019106610U RU 2019106610 U RU2019106610 U RU 2019106610U RU 189632 U1 RU189632 U1 RU 189632U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
ion
plates
ion beam
irradiation
overlap
Prior art date
Application number
RU2019106610U
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Константин Владиславович Шаломов
Владимир Владимирович Овчинников
Сеиф Османович Чолах
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук filed Critical Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук
Priority to RU2019106610U priority Critical patent/RU189632U1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU189632U1 publication Critical patent/RU189632U1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B9/00Exposure-making shutters; Diaphragms
    • G03B9/08Shutters
    • G03B9/10Blade or disc rotating or pivoting about axis normal to its plane
    • G03B9/26Blade or disc rotating or pivoting about axis normal to its plane incorporating cover blade or blades

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Abstract

Полезная модель относится к ионно-пучковой обработке и может быть использована в конструкциях ионных имплантеров, а также других установках для ионного облучения. Диафрагма ионного пучка состоит из двух пластин из вакуумных материалов, в каждой из которых выполнено отверстие, расположенных плоскопараллельно друг над другом так, что их отверстия не перекрываются в начальный момент времени, причем одна из пластин приводится в движение соленоидами, с сердечниками которых она соединена, при подаче на них регулируемых по длительности и величине импульсов напряжения с блока управления, таким образом, что отверстия обеих пластин перекрываются на требуемый в зависимости от задачи временной интервал и величину дозы облучения. Технический результат - повышение долговечности диафрагмы ионного пучка в условиях вакуума и высоких температур, обеспечение равномерности облучения и уменьшение дозы ионного облучения, отсутствие вибраций при работе. 2 ил.The invention relates to ion-beam processing and can be used in the construction of ion implanters, as well as other installations for ion irradiation. The ion beam aperture consists of two plates of vacuum materials, each of which has an opening, are arranged parallel to each other so that their openings do not overlap at the initial time, and one of the plates is driven by solenoids, with the cores of which it is connected, when applied to them adjustable in duration and magnitude of voltage pulses from the control unit, so that the openings of both plates overlap by the required time interval depending on the task and radiation dose pattern. The technical result is an increase in the durability of the ion beam diaphragm under vacuum and high temperatures, ensuring uniformity of irradiation and reducing the dose of ion irradiation, and the absence of vibrations during operation. 2 Il.

Description

Полезная модель относится к ионно-пучковой обработке и может быть использована в конструкциях ионных имплантеров, а также других установках для ионного облучения.The invention relates to ion-beam processing and can be used in the construction of ion implanters, as well as other installations for ion irradiation.

Уровень техникиThe level of technology

Из уровня техники известно устройство электромагнитного затвора [Патент РФ №2103709, МПК G 03 B 9/14 27.01.1998г]. Устройство содержит два лепестка затвора, кольцо установки экспозиции, поворачиваемое импульсным шаговым двигателем, кулачок установки экспозиции для открытия лепестков, прилив и спусковой кулачок, и фокусировочное кольцо, пружину обратного хода для обеспечения обратного хода фокусировочного кольца, деблокирующие средства для блокировки фокусировочного кольца, контактор, центральный процессор для управления поворотом импульсного шагового двигателя в соответствии с сигналом, поступившим со схемы определения освещенности и расстояния до объекта. The prior art device electromagnetic closure [RF Patent №2103709, IPC G 03 B 9/14 27.01.1998g]. The device contains two shutter lobes, an exposure adjustment ring, rotated by a pulsed stepper motor, an exposure adjustment cam for opening the petals, a tide and a trigger cam, and a focusing ring, a reverse spring for reversing the focusing ring, unlocking means for locking the focusing ring, a contactor, CPU to control the rotation of the pulse stepper motor in accordance with the signal received from the scheme for determining the illumination and distance tions to the subject.

Однако этот затвор имеет сложную конструкцию с большим количеством движущихся частей, которые не обеспечивают одинаковую дозу для каждой точки облучаемого объекта.However, this shutter has a complex structure with a large number of moving parts that do not provide the same dose for each point of the irradiated object.

Наиболее близким аналогом (прототипом) является шторный затвор, имеющий независимое движение шторок, электронное управление выдержки и электромагнит, управляющий закрывающей шторкой, в котором механизм компенсации временной задержки движения шторок выполнен в виде двух соосно размещенных рычагов, на одном из которых установлен эксцентрик, управляющий шторками затвора и кинематически связанный через рычаг спускового механизма с регулируемыми микровинтом контактами включения схемы электромагнита [Авторское свидетельство СССР 318008, МПК G 03 B 9/13, публ. 19.10.1971г.].The closest analogue (prototype) is a curtain shutter having independent shutter movement, electronic control of exposure and an electromagnet controlling the closing shutter, in which the compensation mechanism for the time delay of the shutter movement is made in the form of two coaxially placed levers, one of which has an eccentric that controls the shutters the shutter and kinematically connected through the lever of the trigger mechanism with adjustable micro-screw contacts enable the electromagnet circuit [USSR Author's certificate 318008, M For G 03 B 9/13, publ. 10.19.1971].

К недостаткам описанного приспособления следует отнести так же невозможность обеспечения одинаковой дозы каждой точки облучаемого объекта и невозможность обеспечить надежность использования конструкции в вакууме и при высоких температурах в процессе облучения.The disadvantages of the described device should also include the inability to ensure the same dose of each point of the irradiated object and the inability to ensure the reliability of the use of the structure in vacuum and at high temperatures during irradiation.

Раскрытие сущности полезной моделиDisclosure of the essence of the utility model

Задачей предлагаемой полезной модели является создание диафрагмы для уменьшения времени нахождения образца под ионным пучком с повышенными эксплуатационными характеристиками в условиях вакуума, а также безопасность работы других частей вакуумной камеры (отсутствие вибраций и ударов при работе диафрагмы).The objective of the proposed utility model is to create a diaphragm to reduce the residence time of the sample under the ion beam with enhanced performance under vacuum conditions, as well as the safety of other parts of the vacuum chamber (no vibrations and shocks when the diaphragm is working).

Технический результат - повышение долговечности диафрагмы ионного пучка в условиях вакуума и высоких температур, обеспечение равномерности облучения и уменьшение дозы ионного облучения, отсутствие вибраций при работе.The technical result is an increase in the durability of the ion beam diaphragm under vacuum and high temperatures, ensuring uniformity of irradiation and reducing the dose of ion irradiation, and the absence of vibrations during operation.

Предлагаемое устройство диафрагмы ионного пучка иллюстрируется графическими изображениями:The proposed device aperture of the ion beam is illustrated by graphic images:

Фиг.1 – вид сверху, где 1 и 2 – соленоиды, 3 и 4 – пластины с отверстиями, 5 – источник ионного пучка.Figure 1 is a top view, where 1 and 2 are solenoids, 3 and 4 are plates with holes, 5 is an ion beam source.

Фиг.2 – сечение А-А фиг.1Figure 2 - section aa of figure 1

Пластины 3 и 4 из вакуумного материала (например, нержавеющая сталь), в каждой из которых выполнено отверстие, располагают плоскопараллельно друг над другом так, что их отверстия не перекрываются в начальный момент времени, таким образом, пучки ионов (от источника 5) не попадают на образец. Пластина 3 приводится в движение соленоидами 1 и 2, с сердечниками которых она соединена. При подаче напряжения на соленоиды пластина 3 смещается, таким образом, что отверстия пластин 3 и 4 перекрываются, образуя сквозное отверстие и открывая тем самым на время область над образцом, каждая точка которого получает одну и ту же дозу облучения. Пластина 3 соединена с сердечниками соленоидов 1 и 2 так, что можно проводить неограниченное количество перемещений пластины, поочередно подавая напряжение на соленоиды. Регулируя количество экспозиций и ширину сквозного отверстия, можно контролировать дозу облучения. Plates 3 and 4 of vacuum material (for example, stainless steel), in each of which a hole is made, are arranged parallel to one another so that their holes do not overlap at the initial time, thus ion beams (from source 5) do not fall on the sample. Plate 3 is driven by solenoids 1 and 2, with the cores of which it is connected. When voltage is applied to the solenoids, plate 3 is displaced, so that the openings of plates 3 and 4 overlap, forming a through hole and thereby opening up the area above the sample, each point of which receives the same radiation dose. Plate 3 is connected to the cores of the solenoids 1 and 2 so that it is possible to carry out an unlimited number of movements of the plate, alternately applying voltage to the solenoids. By adjusting the number of exposures and the width of the through-hole, you can control the dose of radiation.

Работа системы осуществляется следующим образом.The operation of the system is as follows.

Блок управления подает импульс напряжения на соленоид 1 до перекрытия отверстий пластин 3 и 4. Для завершения движения пластины 3 подается импульс на противоположный соленоид 2, который полностью её останавливает. При необходимости процесс повторяется в обратном порядке. Контроль с помощью блока управления перемещения пластины 3 позволяет исключить возможные столкновения частей диафрагмы внутри вакуумной камеры. Регулируя блоком управления время подачи и длительность импульсов напряжения, осуществляется настройка системы с учетом конструктивных особенностей.The control unit applies a voltage pulse to the solenoid 1 to cover the holes of the plates 3 and 4. To complete the movement of the plate 3, a pulse is applied to the opposite solenoid 2, which stops it completely. If necessary, the process is repeated in reverse order. Control using the control unit of the movement of the plate 3 eliminates possible collisions of parts of the diaphragm inside the vacuum chamber. By adjusting the supply time and the duration of the voltage pulses by the control unit, the system is adjusted to the design features.

Claims (1)

Диафрагма ионного пучка, состоящая из двух пластин из вакуумных материалов, в каждой из которых выполнено отверстие, расположенных плоскопараллельно друг над другом так, что их отверстия не перекрываются в начальный момент времени, причем одна из пластин приводится в движение соленоидами, с сердечниками которых она соединена, при подаче на них регулируемых по длительности и величине импульсов напряжения с блока управления, таким образом, что отверстия обеих пластин перекрываются на требуемый в зависимости от задачи временной интервал и величину дозы облучения.The ion beam aperture consisting of two plates of vacuum materials, each of which has a hole, are arranged parallel to each other so that their holes do not overlap at the initial time, and one of the plates is driven by solenoids, with the cores of which it is connected , when applying for them adjustable in duration and magnitude of voltage pulses from the control unit, so that the openings of both plates overlap by the required time interval depending on the task the magnitude of the radiation dose.
RU2019106610U 2019-03-11 2019-03-11 Ion beam aperture RU189632U1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019106610U RU189632U1 (en) 2019-03-11 2019-03-11 Ion beam aperture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019106610U RU189632U1 (en) 2019-03-11 2019-03-11 Ion beam aperture

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU189632U1 true RU189632U1 (en) 2019-05-29

Family

ID=66792824

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2019106610U RU189632U1 (en) 2019-03-11 2019-03-11 Ion beam aperture

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU189632U1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU208203U1 (en) * 2021-08-12 2021-12-08 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук Rotary ion beam shutter

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU318008A1 (en) * Красногорский Механический Завод BLIND CAP DOWN
SU458957A1 (en) * 1966-03-22 1975-01-30 Предприятие П/Я 3100 Diaphragm to form a beam of ionizing radiation
DD230021A1 (en) * 1984-12-12 1985-11-20 Werk Fernsehelektronik Veb DEVICE FOR PRODUCING MULTILAYERS THROUGH ION EXTRACTS
JP5689259B2 (en) * 2009-07-24 2015-03-25 カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy GmbH Particle beam apparatus having a diaphragm unit and method for adjusting the beam current of a particle beam apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU318008A1 (en) * Красногорский Механический Завод BLIND CAP DOWN
SU458957A1 (en) * 1966-03-22 1975-01-30 Предприятие П/Я 3100 Diaphragm to form a beam of ionizing radiation
DD230021A1 (en) * 1984-12-12 1985-11-20 Werk Fernsehelektronik Veb DEVICE FOR PRODUCING MULTILAYERS THROUGH ION EXTRACTS
JP5689259B2 (en) * 2009-07-24 2015-03-25 カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy GmbH Particle beam apparatus having a diaphragm unit and method for adjusting the beam current of a particle beam apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU208203U1 (en) * 2021-08-12 2021-12-08 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук Rotary ion beam shutter

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU189632U1 (en) Ion beam aperture
KR0183011B1 (en) Ion implanter scanning mechanism
ATE447762T1 (en) RADIATION DEVICE AND COLLIMATOR
JP2017152366A5 (en)
CN102749786A (en) Synchronous time sequence control method for turntable type mechanical shutter
JP2005236292A5 (en)
KR960001903A (en) Scanning exposure apparatus
US4020356A (en) Absorption body
DE102008016011A1 (en) Correction of optical elements by means of flatly irradiated correction light
Andrelczyk et al. Optical generation of vortices in trapped Bose-Einstein condensates
US20230126790A1 (en) System and method for particle therapy
Epstein Reduction of time-averaged irradiation speckle nonuniformity in laser-driven plasmas due to target ablation
DE2525205C2 (en) Arrangement for keeping the total beam current intensity of a charge carrier beam constant while at the same time maintaining a symmetrical current density distribution of the charge carrier beam
WO2019002082A1 (en) Method for adjusting an illumination system for microlithography
JPH01243519A (en) Aligner
JP5163366B2 (en) Frequency adjustment device
US8373847B2 (en) Polarization actuator
US3088031A (en) Adjustable collimator
Gol’denberg et al. Microbeam X-ray lithography apparatus for direct production of deep LIGA structures
RU2813848C9 (en) Betatron with adjustment of extracted electron beam
RU2813848C2 (en) Betatron with adjustment of extracted electron beam
RU2813844C2 (en) Betatron with extracted electron beam axis correction system
WO2018060126A1 (en) Projection lithography system with liquid layer for wavefront correction
Bahari et al. GeV‐acceleration of electron by a superintense ultrashort laser pulse
JPS6415604A (en) Measuring apparatus for length by electron beam

Legal Events

Date Code Title Description
MM9K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20190618

NF9K Utility model reinstated

Effective date: 20201214