RU187355U1 - Вакуумная установка магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку - Google Patents
Вакуумная установка магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку Download PDFInfo
- Publication number
- RU187355U1 RU187355U1 RU2018117393U RU2018117393U RU187355U1 RU 187355 U1 RU187355 U1 RU 187355U1 RU 2018117393 U RU2018117393 U RU 2018117393U RU 2018117393 U RU2018117393 U RU 2018117393U RU 187355 U1 RU187355 U1 RU 187355U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- conveyor
- substrate
- along
- vacuum chamber
- vacuum
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 238000009434 installation Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 238000005507 spraying Methods 0.000 title abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 18
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims abstract description 7
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 abstract description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000004148 curcumin Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000002121 nanofiber Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Полезная модель относится к области плазменной техники, в частности к устройствам магнетронного распыления тонких пленок на поверхность движущейся подложки. Техническая задача - расширение функциональной возможности установки за счет использования в качестве подложки рулонного материала и напыления на него равномерной тонкой пленки заданной толщины. Вакуумная установка магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку содержит систему откачки и напуска рабочего газа в вакуумную камеру, вдоль которой расположены магнетронные распылительные устройства с плоским катодом -мишенью и магнитной системой, расположенные над конвейером перемещения подложки вдоль вакуумной камеры. Конвейер закреплен на основании в виде рамы и имеет привод с частотным регулятором, соединенный через узлы передачи вращения в виде звездочек с приводными валами передачи поступательного движения конвейера, установленными с двух сторон основания. На валах с помощью звездочек установлен цепной транспортер. Цепи транспортера перемещаются по закрепленным на основании поддерживающим и прижимным звездочкам и соединены стержнями-перемычками, установленными параллельно валам на определенном равном расстоянии вдоль цепного транспортера. По стержням-перемычкам натянут и закреплен рулонный материал подложки, многократно перемещающейся вместе с цепным транспортером вдоль вакуумной камеры. Кроме этого, стержни-перемычки в виде трубок, имеющих прямоугольное сечение, закреплены на цепях цепного транспортера с помощью дугообразных скоб, жестко соединенных с цепями цепного транспортера. Расстояние между стержнями-перемычками определено структурой материала рулонной подложки и длиной звена цепи транспортера. На раме закреплены герконовые датчики перемещения подложки, расположенные над магнитами, установленными на цепях цепного транспортера. 5 з.п. ф-лы, 5 ил.
Description
Полезная модель относится к области плазменной техники, в частности к устройствам магнетронного распыления, и может быть использована для вакуумного ионно-плазменного напыления тонких пленок на поверхность ленточной движущейся подложки для получения функциональных покрытий при производстве материалов электронной техники, а именно для конденсаторов, суперконденсаторов, аккумуляторов и подобных изделий.
При нанесении пленок на ленточные подложки используют планарные магнетронные распылительные системы (МРС) с плоскими мишенями. Для равномерного распыления используют протяженную вакуумную камеру, внутри которой перемещается подложка из листового материала. (Данилин Б.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. - М.: Радио и связь, 1982, с. 11, 57). Подложка выполнена с возможностью перемещения относительно катодов для того, чтобы обеспечить пространственную равномерность толщины наносимых покрытий.
Транспортировка подложек в вакуумной камере может производиться многими способами, например при помощи роликов, ременных приводов или линейных систем с двигателем (например, патент US 5170714, опубл. 15.12.1992). Ориентация подложек может быть вертикальной, или горизонтальной, или наклонной под определенным углом. Во многих сферах применения предпочтительным является размещение подложек на носителях во время их транспортировки. Транспортная линия может быть линейной (односторонней) или линейной двусторонней (вперед и назад по одному и тому же пути) либо, альтернативно, с отдельной возвратной линией. Упомянутые прямая и возвратная линии могут быть расположены рядом друг с другом или в многоярусной компоновке одна над другой, как, например, (патент US 5658114, опубл. 19.08.1997). Для загрузки и выгрузки подложек, а также для входа/выхода из среды вакуума может быть предусмотрены отдельные загрузочно-разгрузочная шлюзовые камеры. Подобным образом вход/выход транспортной линии в/из вакуума может происходить без влияния на условия вакуума в технологических камерах. В самом общем виде такая установка содержит вакуумную рабочую камеру (зону обработки), в которой расположена МРС, систему питания МРС, систему вакуумирования, систему напуска газа для создания рабочей газовой среды в зоне обработки, систему подачи образцов в зону обработки в виде шлюзовых камер на входе и выходе рабочей камеры и механизмов перемещения подложек, загрузочных устройств и др. (Данилин Б.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. М.: Радио и связь, 1982, с. 56).
Известно устройство вакуумного нанесения различных покрытий на поверхность диэлектрических материалов (патент RU №2138094, опубл. 20.09.1999), преимущественно листовых, с большой площадью поверхности. Установка содержит вакуумную рабочую камеру, в которой расположена магнетронная распылительная система МРС, система питания МРС, система вакуумирования, система напуска газа. Вакуумная камера разделена диафрагмами на отдельные отсеки, каждый из которых снабжен отдельной системой напуска газа. Через отсеки вакуумной камеры перемещается обрабатываемый образец, на который осаждается распыляемый материал. На входе и выходе рабочей камеры через шлюзовые затворы подсоединены входная и выходная шлюзовые камеры. Все камеры через вакуумные вентили подключены к вакуумной системе. Обрабатываемый материал расположен на подложках, которые перемещаются вдоль рабочей камеры механизмом перемещения с помощью рольганга этого механизма.
Недостатком данной установки является то, что скорость осаждения покрытий при работе магнетронов в разных зонах распыления рабочей камеры различна. Следовательно, возникает проблема пространственной однородности покрытий. Также необходим процесс вакуумирования входной, выходной и промежуточных шлюзовых камер, что усложняет весь процесс напыления и увеличивает затраты энергии. Также данная установка не может быть использована для подложки из рулонного материала.
Известно устройство вакуумного нанесения покрытий на рулонные материалы (патент RU №2521939, опубл. 10.07.2014). Устройство содержит модуль напыления с системой испарения и механизмом подачи испаряемого материала, систему перемотки, систему откачки, пневмосистему, систему охлаждения, систему управления и устройство перемещения, выполненное с возможностью стыковки-расстыковки с модулем напыления. Система перемещения подложки выполнена в виде жесткого блока, состоящего из двух плит, передней и задней, скрепленных между собой опорами, и содержит водоохлаждаемые направляющие ролики, неохлаждаемые отклоняющие ролики и ролики натяжения. Жесткий блок крепится задней плитой к внешней плите, расположенной на устройстве перемещения посредством крепящих блоков с обеспечением независимости от прогиба внешней плиты. Для передачи вращения от приводов и исполнительных механизмов на водоохлаждаемые направляющие установлен магнитожидкостной ввод вращения с обеспечением компенсации прогиба внешней плиты, который надевают на водоохлаждаемый направляющий ролик.
Недостатком данного устройства является то, что при напылении используют систему испарения и существует проблема охлаждения рулонного материала. Материал подложки во время напыления испытывает очень большую тепловую нагрузку из-за конденсации напыляемого материала.
Известна также установка для нанесения покрытий на ленточную подложку (патент RU №2167955, опубл. 27.05.2001). Установка содержит вакуумную камеру, по меньшей мере один магнетронный распылитель, системы эвакуации, подачи и регулирования расхода газа, устройство для перемещения ленты с одного барабана на другой. Устройство для перемещения ленты выполнено в виде платформы, имеющей возможность вращения, с установленными на периферии пассивными направляющими роликами. На платформе установлены съемные барабаны с возможностью реверсивного вращения, автономными приводами и тормозными устройствами.
Данная установка, является сложной в изготовлении и не может быть использована для подложки из рулонного материала.
В качестве прототипа можно выбрать вакуумную установку магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку УВНМ.Э-100/125-003 «Магна 2М», представленную в учебном пособии («Технология интегральной электроники», под общ. ред. А.П. Достанко и Л.И. Гурского. - Минск: «Интегралполиграф», 2009, стр 179-182, 190-192). Установка включает вакуумную камеру с системой откачки и напуска рабочего газа, вдоль которой расположены плоские катоды-мишени и магнитная система магнетронных распылительных устройств, расположенных над конвейером перемещения подложки вдоль рабочей камеры. «Магна-2М» предназначена для нанесения одно- и многослойных пленок из алюминия и его сплавов на кремниевые подложки диаметром 76, 100 и 125 мм магнетронным распылением. Установка имеет две шлюзовых камеры с кассетами для подачи подложек на конвейер и систему транспортировки конвейера для перемещения полупроводниковых подложек между кассетами, а также микропроцессорную систему управления с дисплеем. Конвейер закреплен на основании и имеет привод, соединенный через узлы передачи вращения с приводными валами передачи поступательного движения конвейера, установленными с двух сторон основания.
Недостатком данной установки является то, что она предназначена для нанесения многослойных пленок из алюминия и его сплавов на кремниевые подложки и не обеспечивает напыление на рулонную подложку. Данная установка является сложной, состоящей из трех вакуумных камер - рабочей камеры и двух камер загрузки и выгрузки подложек.
Технической задачей данного технического решения является расширение функциональной возможности установки за счет использования в качестве подложки рулонного материала и получения на нем равномерного покрытия тонкой пленки заданной толщины при упрощении конструкции установки.
Поставленная задача достигается тем, что вакуумная установка магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку содержит систему откачки и напуска рабочего газа в вакуумную камеру, вдоль которой расположены магнетронные распылительные устройства с плоским катодом-мишенью и магнитной системой, расположенные над конвейером перемещения подложки вдоль вакуумной камеры. Конвейер закреплен на основании и имеет привод, соединенный через узлы передачи вращения с приводными валами передачи поступательного движения конвейера, установленными с двух сторон основания. Новым является то, что на приводных валах конвейера через узлы передачи вращения в виде звездочек установлен цепной транспортер. Цепи транспортера перемещаются по закрепленным на основании поддерживающим и прижимным звездочкам. Цепи транспортера соединены стержнями-перемычками, установленными параллельно валам на определенном равном расстоянии вдоль цепного транспортера и закрепленными на его цепях. По стержням-перемычкам натянут и закреплен рулонный материал подложки, многократно перемещающейся вместе с цепным транспортером вдоль вакуумной камеры. Кроме этого стержни-перемычки закреплены на цепях цепного транспортера с помощью дугообразных скоб, жестко соединенных с цепями цепного транспортера. Стержни-перемычки выполнены в виде трубок, имеющих прямоугольное сечение. Расстояние между стержнями-перемычками определено структурой материала рулонной подложки и длиной звеньев цепи транспортера. Основание конвейера выполнено в виде прямоугольной рамы, закрепленной по периметру корпуса вакуумной камеры. На раме закреплены герконовые датчики перемещения подложки, расположенные над магнитами, установленными на цепях цепного транспортера. К электромотору привода конвейера подключен частотный регулятор.
Полезная модель поясняется чертежами, где на фиг. 1 представлен общий вид установки, на фиг. 2 представлена кинематическая схема конвейера, на фиг. 3 - общий вид цепного транспортера конвейера, на фиг. 4 - стержни-перемычки со скобами, на фиг. 5 - полученный материал с покрытием определенной толщины.
Вакуумная установка магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку содержит (фиг. 1) рабочую вакуумную камеру 1, соединенную с системой откачки 2 и системой напуска 3 рабочего газа. В качестве рабочего газа может быть использован, например, аргон, кислород, азот. В средней части вакуумной камеры расположены магнетронные распылительные устройства (МРУ) 4, которые расположены последовательно вдоль рабочей камеры и закреплены на верхней части вакуумной камеры через изолирующий кожух. Каждое магнетронное распылительное устройство включают плоский катод-мишень и магнитную систему. Анод соединен и примыкает к верхней части кожуха вакуумной камеры. МРУ подключены к источнику питания постоянным током 5 и имеют систему охлаждения 6. Под магнетронными распылительными устройствами 4 установлен конвейер 7 перемещения подложки вдоль рабочей камеры 1, который предназначен для передачи возвратно-поступательного движения и протяжки рулонного материала подложки через рабочую зону вакуумной камеры для получения одностороннего покрытия на материале подложки. Конвейер 7 перемещения подложки закреплен на основании, выполненном в виде прямоугольной металлической рамы 8, при этом рама расположена по периметру рабочей вакуумной камеры 1 и через изоляторы закреплена на корпусе камеры. Выполнение основания в виде прямоугольной рамы обеспечивает удобство расположения на ней элементов конвейера и дальнейшее их обслуживание. Конвейер 7 имеет (фиг. 2) привод в виде электромотора 10 с редуктором 11, например, червячного типа. К электромотору подключен частотный регулятор 9. Электромотор соединен через переходную муфту 12 и подшипник 13 с узлами передачи вращения - ведущей 14 и ведомой 15 звездочками вакуумного ввода. Ведомая 15 звездочка передает вращение на приводной ведущий вал 16 конвейера, который установлен и закреплен с одной стороны рамы 8. С другой стороны рамы 8 закреплен ведомый приводной вал 17 передачи поступательного движения конвейера. На концах приводных валов 16 и 17 расположены узлы передачи вращения в виде звездочек 18, на которых установлены и перемещаются вдоль рабочей камеры в прямом и обратном направлении цепи 19 цепного транспортера (фиг. 3). Цепи 19 цепного транспортера перемещаются по поддерживающим 20 и прижимным 21 звездочкам, которые последовательно установлены вдоль цепей и закреплены на раме 8. При этом поддерживающие звездочки 20 расположены между перемещающейся в прямом и обратном направлении цепью 19 и между рамой 8 и цепью, а прижимные 21 - над цепью 19 транспортера. Может быть установлено, например, 16 звездочек (по 8 на каждой цепи). Звездочки выполняют функцию закрепления и фиксации цепей транспортера в определенном положении над рамой, предотвращают провисание цепей и задают равномерное перемещение цепного транспортера вдоль рабочей камеры 1. Цепи 19 транспортера соединены между собой стержнями-перемычками 22, которые установлены параллельно приводным валам на определенном равном расстоянии (с определенным шагом) вдоль цепного транспортера. Стержни-перемычки 22 могут быть выполнены в виде полых металлических трубок, имеющих прямоугольное сечение. Стержни-перемычки закреплены на цепях 19 цепного транспортера с помощью дугообразных скоб 23 (фиг. 4). Скобы закреплены (приварены) своей средней замкнутой частью к цепи 19 цепного транспортера на расстоянии, заданном шагом расположения стержней-перемычек 22. Разомкнутая часть скоб 23 вставлена с двух сторон в отверстия трубок стержней-перемычек 22 в распор. При этом их можно легко снимать и снова устанавливать. Концы скоб могут быть закреплены на стержнях-перемычках сваркой. Это создает более надежное крепление стержней-перемычек к цепям цепного транспортера. Шаг расположения стержней-перемычек вдоль цепей транспортера может быть определен длиной звена цепи транспортера. При этом минимальный шаг - это длина звена цепи (в нашем примере составляет 12,7 мм). Шаг расположения стержней-перемычек определен также структурой материала рулонной подложки. Мягкий материал подложки требует меньшего шага для исключения провисания материала, а для более жесткого материал шаг может быть увеличен и будет равен длине нескольких звеньев цепи транспортера. В нашем примере шаг составляет 4 звена цепи для подложки, выполненной из нетканого нановолокнистого фторопластного материала плотностью 27 г/м2. При этом стержни-перемычки 22 должны быть установлены с равным шагом вдоль всей цепи 19 транспортера. На стержнях-перемычках 22 натянут, закреплен и перемещается в прямом и обратном направлении вдоль рабочей камеры материал подложки 24 в виде рулона нетканого волокнистого или эластичного материала. Стержни-перемычки 22, установленные с определенным равным шагом вдоль цепного транспортера позволяют равномерно расположить материал рулонной подложки. Конструкция конвейера позволяет несколько раз перемещать рулонный материал подложки 24 вдоль рабочей камеры 1 под магнетронными распылительными устройствами 4 в прямом и обратном направлении, т.е. выполнять возвратно-поступательные движения под мишенями магнетронов для получения на рулонном материале подложки равномерного напыляемого слоя заданной толщины. Для определения количества оборотов подложки на цепном транспортере установлены датчики перемещения подложки, например, герконовые датчики 25, которые жестко закреплены на раме 8. На цепях цепного транспортира при этом закреплены магниты 26. Магниты могут быть закреплены на скобах 23 стержней-перемычек. При расположении датчиков 25 по краям рамы используют 4 герконовых датчика, которые показывают количество оборотов конвейера и позиционируют конечные точки подложки.
Установка вакуумного магнетронного напыления имеет блок управления 27 для контроля за напуском рабочего газа в зоны распыления, управления режимами работы магнетронных распылительных устройств 4, а также управления скоростью перемещения конвейера и фиксации показаний герконовых датчиков.
Вакуумная установка работает следующим образом.
Включают источники питания 5 постоянным током МРУ 4. При подаче постоянного напряжения между катодом и анодом МРУ зажигается тлеющий разряд. В рабочей камере 1 системами откачки 2 и напуска 3 предварительно производят откачку воздуха и напуск рабочего газа - аргона. Запускают электромотор 10 конвейера 7 для перемещения рулонного материала подложки 24 вдоль рабочей камеры 1. Скорость перемещения подложки задают частотным регулятором 28. Электромотор 10 через червячный редуктор 11 и узлы передачи вращения в виде звездочек 14, 15, 18, приводит в движение ведущий 16 и ведомый 17 валы вращения, а также цепной транспортер конвейера 7. Цепной транспортер с натянутой и закрепленной на его стержнях-перемычках 22 подложкой 24 в виде рулонного материала, непрерывно с постоянной скоростью многократно перематывает материал подложки вдоль рабочей камеры 1. В процессе напыления при прохождении рулонного материала подложки 24 через зону работы магнетронных распылительных устройств 4 на поверхности подложки формируют тонкий слой покрытия. При многократном перематывании рулонного материала подложки под МРУ 4 на подложке оседает слой напыляемого покрытия определенной толщины, распределяясь по всей длине рулонной подложки. За счет закрепленных на цепях 19 транспортера стержней-перемычек 22 рулонный материал равномерно без провисания и изгибов располагается на конвейере. Выполнение стержней-перемычек в виде трубок, имеющих прямоугольное сечение позволяет осуществить еще более равномерное расположение материала подложки на цепном транспортере, поскольку прямоугольные стержни повышают равномерность распределения на них материала. Поддерживающие 20 и прижимные 21 звездочки фиксируют цепи 19 конвейера в определенном положении, предотвращают его провисание, позволяя перемещать материал подложки по ровной поверхности на определенном расстоянии от МРУ 4. Поэтому на рулонной подложке формируется равномерная по толщине тонкая пленка напыляемого материала. Скорость перемещения конвейера с рулонной подложкой относительно мишеней МРУ и количество проходов подложки под мишенями определяют с помощью герконовых датчиков 25 перемещений, которые проходя над магнитами 26 показывают количество оборотов конвейера и позиционируют конечные точки подложки. Задают скорость перемещения подложки частотным генератором и определяют количество проходов, обеспечивая заданную толщину слоя покрытия. Скорость перемещения рулонного материала и другие параметры, указанные выше, контролируют блоком управления (БУ) 27. Полученный материал с равномерным покрытием определенной толщины в зависимости от числа проходов рулонного материала под МРУ представлен на (фиг. 5). Определение толщины нанесенного слоя осуществляют методом интерференции с помощью интерферометра МИИ-4.
Таким образом, предлагаемая установка позволяет получить на рулонном материале подложки равномерное нанометрическое покрытие заданной толщины. Установка имеет более простую конструкцию по сравнению с прототипом, т.к. в ней использована только одну рабочая камера, а в прототипе используют три камеры - одну рабочую и две шлюзовых камеры с кассетами для подложек, в которых необходимо создавать вакуум для подачи подложек в рабочую камеру.
Claims (6)
1. Вакуумная установка магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку, содержащая вакуумную камеру, системы откачки и напуска рабочего газа в вакуумную камеру, магнетронные распылительные устройства, расположенные в вакуумной камере, каждое из которых содержит плоский катод-мишень и магнитную систему, отличающаяся тем, что она снабжена конвейером перемещения подложки вдоль вакуумной камеры, закрепленным на ее основании и выполненным с приводом, который соединен посредством узлов передачи вращения с приводными валами передачи поступательного движения конвейера, которые установлены с двух сторон основания вакуумной камеры, и с установленным на приводных валах цепным транспортером, цепи которого расположены с возможностью перемещения по закрепленным на основании поддерживающим и прижимным звездочкам и соединены стержнями-перемычками, установленными параллельно приводным валам на равном расстоянии вдоль цепного транспортера и закрепленными на его цепях, причем упомянутые стержни-перемычки выполнены с возможностью натяжения и закрепления подложки с рулонным материалом, а цепной транспортер установлен с возможностью совместного перемещения с подложкой вдоль вакуумной камеры.
2. Вакуумная установка по п. 1, отличающаяся тем, что стержни-перемычки закреплены на цепях цепного транспортера посредством дугообразных скоб, которые жестко соединены с цепями цепного транспортера.
3. Вакуумная установка по п. 1, отличающаяся тем, что стержни-перемычки выполнены в виде трубок, которые имеют прямоугольное сечение.
4. Вакуумная установка по п. 1, отличающаяся тем, что расстояние между стержнями-перемычками равно длине звена цепи транспортера.
5. Вакуумная установка по п. 1, отличающаяся тем, что основание конвейера перемещения подложки выполнено в виде прямоугольной рамы, которая закреплена по периметру корпуса вакуумной камеры.
6. Вакуумная установка по п. 1, отличающаяся тем, что привод конвейера перемещения подложки выполнен с электромотором.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2018117393U RU187355U1 (ru) | 2018-05-10 | 2018-05-10 | Вакуумная установка магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2018117393U RU187355U1 (ru) | 2018-05-10 | 2018-05-10 | Вакуумная установка магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU187355U1 true RU187355U1 (ru) | 2019-03-01 |
Family
ID=65678936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2018117393U RU187355U1 (ru) | 2018-05-10 | 2018-05-10 | Вакуумная установка магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU187355U1 (ru) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2065889C1 (ru) * | 1991-04-19 | 1996-08-27 | Иркутский государственный педагогический институт | Установка для ионно-плазменного распыления |
US6783637B2 (en) * | 2002-10-31 | 2004-08-31 | Freescale Semiconductor, Inc. | High throughput dual ion beam deposition apparatus |
RU118311U1 (ru) * | 2011-12-01 | 2012-07-20 | Общество с ограниченной ответственностью Научно-технический Центр "ТАТА" - ООО НТЦ "ТАТА" | Магнетронная установка по производству ленты с катодным покрытием для литий-ионных источников тока |
RU163999U1 (ru) * | 2015-06-22 | 2016-08-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Владимирский государственный университет имени Александра Григорьевича и Николая Григорьевича Столетовых" (ВлГУ) | Установка для нанесения многослойных покрытий с заданной архитектурой методом магнетронно-ионного реактивного распыления |
RU2606363C2 (ru) * | 2015-05-27 | 2017-01-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (МГТУ им. Н.Э. Баумана) | Установка карусельного типа для магнетронного напыления многослойных покрытий и способ магнетронного напыления равнотолщинного нанопокрытия |
-
2018
- 2018-05-10 RU RU2018117393U patent/RU187355U1/ru active IP Right Revival
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2065889C1 (ru) * | 1991-04-19 | 1996-08-27 | Иркутский государственный педагогический институт | Установка для ионно-плазменного распыления |
US6783637B2 (en) * | 2002-10-31 | 2004-08-31 | Freescale Semiconductor, Inc. | High throughput dual ion beam deposition apparatus |
RU118311U1 (ru) * | 2011-12-01 | 2012-07-20 | Общество с ограниченной ответственностью Научно-технический Центр "ТАТА" - ООО НТЦ "ТАТА" | Магнетронная установка по производству ленты с катодным покрытием для литий-ионных источников тока |
RU2606363C2 (ru) * | 2015-05-27 | 2017-01-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (МГТУ им. Н.Э. Баумана) | Установка карусельного типа для магнетронного напыления многослойных покрытий и способ магнетронного напыления равнотолщинного нанопокрытия |
RU163999U1 (ru) * | 2015-06-22 | 2016-08-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Владимирский государственный университет имени Александра Григорьевича и Николая Григорьевича Столетовых" (ВлГУ) | Установка для нанесения многослойных покрытий с заданной архитектурой методом магнетронно-ионного реактивного распыления |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20200299842A1 (en) | Deposition platform for flexible substrates and method of operation thereof | |
US4692233A (en) | Vacuum coating apparatus | |
JP6803917B2 (ja) | 真空処理システム及び真空処理を行う方法 | |
KR100719314B1 (ko) | 기판 이송 장치 및 기판 상에 유기 박막을 증착하는 장치 | |
US10323319B2 (en) | Method and devices for controlling a vapour flow in vacuum evaporation | |
US4693803A (en) | Vacuum coating apparatus | |
US8328946B2 (en) | Conveyor assembly with removable rollers for a vapor deposition system | |
US20100080673A1 (en) | Transporting device for a vacuum processing apparatus, drive device for a component of a vacuum processing apparatus, and a vacuum processing apparatus | |
US10648072B2 (en) | Vacuum processing system and method for mounting a processing system | |
KR101245532B1 (ko) | 박막 증착 장치 | |
KR101870579B1 (ko) | 디스플레이 제조장치 및 이를 사용한 디스플레이 제조방법 | |
WO2015086602A1 (en) | Substrate spreading device for vacuum processing apparatus, vacuum processing apparatus with substrate spreading device and method for operating same | |
GB2536572A (en) | Tape-substrate coating line having a magnetron arrangement | |
RU187355U1 (ru) | Вакуумная установка магнетронного напыления тонких пленок на движущуюся подложку | |
CN110983285A (zh) | 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备 | |
EP2862956B1 (en) | Roller device for vacuum deposition arrangement, vacuum deposition arrangement with roller and method for operating a roller | |
KR102693418B1 (ko) | 캐소드 구동 유닛, 스퍼터링 캐소드 및 캐소드 구동 유닛을 조립하기 위한 방법 | |
RU182457U1 (ru) | Установка для вакуумного магнетронного напыления тонких пленок | |
US20140110225A1 (en) | Conveyor assembly with geared, removable rollers for a vapor deposition system | |
KR20180027136A (ko) | 다수의 롤을 구비하는 롤투롤 원자층 증착 장치 | |
RU2084556C1 (ru) | Установка для обработки проволоки в вакуумной камере | |
CN212247199U (zh) | 折返式补锂设备 | |
KR20120077378A (ko) | 증착장비의 기판 이송장치 | |
PL243388B1 (pl) | Segmentowa komora do realizacji próżniowych procesów technologicznych | |
TW202334472A (zh) | 用於將材料沉積到薄膜基板上的真空處理系統、用於在真空條件下傳輸薄膜基板的設備和方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM9K | Utility model has become invalid (non-payment of fees) |
Effective date: 20190511 |
|
NF9K | Utility model reinstated |
Effective date: 20200116 |