RU1834868C - Decorative glass - Google Patents
Decorative glassInfo
- Publication number
- RU1834868C RU1834868C SU904896448A SU4896448A RU1834868C RU 1834868 C RU1834868 C RU 1834868C SU 904896448 A SU904896448 A SU 904896448A SU 4896448 A SU4896448 A SU 4896448A RU 1834868 C RU1834868 C RU 1834868C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- glass
- photomask
- decorative
- semiconductor devices
- bright
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
Abstract
Использование: дл декоративных светильников , зеркал, мебели. Сущность изобретени : декоративное стекло содержит фотошаблон, маскирующее покрытие которого составл ет не менее 50% площади пластины с шагом 2-12 мкм. Фотошаблон может не иметь светлопольных изображений структуры полупроводниковых приборов или микросхем, или содержать повтор ющиес светлопольные изображени элементов топологии полупроводниковых приборов. Фотошаблон подлежит утилизации из-за дефектов покрыти и/или стекл нной пластины или из-за истечени ресурса работы. 3 з. п. ф-лы, 3 ил.Use: for decorative lamps, mirrors, furniture. SUMMARY OF THE INVENTION: A decorative glass contains a photomask, the masking coating of which constitutes at least 50% of the area of the plate in increments of 2-12 microns. The photomask may not have bright-field images of the structure of semiconductor devices or microcircuits, or contain repeated bright-field images of the topology elements of semiconductor devices. The mask should be disposed of due to defects in the coating and / or glass plate or due to the expiration of the service life. 3 s P. f-ly, 3 ill.
Description
Изобретение относитс к производству изделий бытового назначени и может быть использовано в декоративных светильниках , зеркалах, мебели и других предметах бытовой техники.The invention relates to the production of household products and can be used in decorative lamps, mirrors, furniture and other household appliances.
Целью изобретени вл етс повышение декоративного эффекта и улучшение потребительских свойств.The aim of the invention is to increase the decorative effect and improve consumer properties.
Поставленна цель достигаетс тем, что в качестве стекл нной основы дл получени дифракционной решетки использован стекл нный фотошаблон, подлежащий утилизации , причем необходимо, чтобы маскирующее покрытие составл ло не менее 50% площади пластины.The goal is achieved in that the glass mask used to be disposed of is used as a glass base for obtaining a diffraction grating, and it is necessary that the masking coating comprise at least 50% of the plate area.
Дл получени декоративного стекла могут быть также использованы стекл нные шаблонные заготовки, имеющие брак по стеклу (включени , пузырьки) или брак маскирующего покрыти (разнотолщинность, несплошность, проколы и т.д.). Кроме того, могут быть использованы фотошаблоны, отработавшие свой ресурс в производстве микросхем, в которых за счет большего числа проведенных процессов образовались дефекты (проколы от пылинок, отслаивание и микрошелушение и пр.), вызывающие брак в производстве полупроводниковых приборов или микросхем. Дл получени декоративного стекла могут также использоватьс фотошаблоны, забракованные на стадии их производства из-за нечеткого кра рисунка, ухода размеров при вытравливании рисунка и т.п.To produce decorative glass, glass template blanks having glass scrap (inclusions, bubbles) or masking coating scrap (thickness thickness, discontinuity, punctures, etc.) can also be used. In addition, photo masks that have worked out their resources in the manufacture of microcircuits can be used, in which defects due to a larger number of processes are formed (punctures from dust particles, peeling and micro peeling, etc.), causing defects in the production of semiconductor devices or microcircuits. Photo masks rejected at the stage of their production due to the fuzzy edge of the pattern, size overshoot during etching of the pattern, and the like can also be used to produce decorative glass.
На указанные выше фотошаблоны или заготовки фотошаблонов наноситс дифракционна решетка путем использовани метода фотолитографии, содержащего следующие основныеоперации: отмывка, нанесение фоторезиста, термообработка, про вление фоторезиста, травление маскирующего сло , удаление фоторезиста, сушка . Экспонирование провод т через специально изготовленный фотошаблон сA diffraction grating is applied to the above photomasks or blanks of photomasks by using the photolithography method, which contains the following basic operations: washing, applying a photoresist, heat treatment, developing a photoresist, etching the masking layer, removing the photoresist, and drying. Exposure is carried out through a specially made photo mask with
fefe
0000
со with
00 Os 0000 Os 00
соwith
шагом сетки (дифракционной решетки) от 2-3 мкм до 10-12 мкм. В конечном счете декоративное стекло состоит из темных полей , т.е. содержащих маскирующий слой, в которых сформирована дифракционна ре- шетка, и светлых полей с полностью отсутствующим маскирующим покрытием, в которых дифракционной решетки нет,grid spacing (diffraction grating) from 2-3 microns to 10-12 microns. Ultimately, decorative glass consists of dark fields, i.e. containing a masking layer in which a diffraction grating is formed, and bright fields with a completely absent masking coating, in which there is no diffraction grating,
Декоративный эффект повышаетс за счет хорошего качества (четкого кра ) диф- ракционной решетки, большой разницы в пропускании в области маскирующего сло и там, где маскирующий слой удален (светлые и темные области дифракционной решетки ). Улучшенные потребительские свойства получаютс за счет устойчивости рисунка на шаблонах с хромовым или же лезоокисным покрытием к температуре (до 400°С), истиранию (стекла можно протирать и мыть в гор чей воде в отличие от лакового покрыти ).The decorative effect is enhanced by the good quality (clear edge) of the diffraction grating, the large difference in transmission in the region of the mask layer and where the mask layer is removed (light and dark regions of the diffraction grating). Improved consumer properties are obtained due to the resistance of the pattern on the templates with chrome or lesooxide coating to temperature (up to 400 ° C), abrasion (glass can be wiped and washed in hot water, unlike varnish coating).
Себестоимость декоративного стекла на основе шаблона, подлежащего утилизации , определ етс только стоимостью обработки, св занной с нанесением диф- ракционной решетки.The cost of decorative glass based on the template to be disposed of is determined only by the processing cost associated with applying the diffraction grating.
Первоначально дл получени декоративных стекол производ т отбор годных из подлежащих утилизации шаблонов. Могут быть использованы шаблонные заготовки, имеющие брак стекла или маскирующего сло , темнопольные фотошаблоны со светлыми элементами структуры микросхем, отработавшие ресурс в производстве или забракованные по несоответствиютребова- ни м, предъ вл емым к рабочим шаблонам . Отработанные шаблоны проход т весь цикл фотолитографии с получением по выбору дифракционной решетки с шагом от 2,0-3,0 мкм до 10-12 мкм. Оформи- рованное декоративное стекло отмывают, разрезают при необходимости на элементы требуемых размеров, притупл ют острые кромки или снимают фаску.Initially, suitable glass templates are selected for decorative glass to be recycled. Template blanks having a defective glass or masking layer, dark-field photo masks with light elements of the microcircuit structure, spent resources in production, or rejected for non-compliance with the requirements for working templates can be used. The worked-out templates go through the entire photolithography cycle to obtain an optionally diffraction grating in steps of 2.0-3.0 microns to 10-12 microns. The formed decorative glass is washed, cut, if necessary, into elements of the required size, blunt edges are blunted or chamfered.
При выходе за указанные пределы деко- ративный эффект ухудшаетс , причем, если в сторону уменьшени периода, то из-за усложнени условий фотолитографии и по влени областей непропечатки дифракциIf you go beyond these limits, the decorative effect worsens, and if in the direction of decreasing the period, then due to the complication of the conditions of photolithography and the appearance of areas of diffraction overprint
онной решетки, а если в сторону увеличени периода, то из-за ослаблени разделени цвета дифракционной решеткой, так как бытовые источники освещени (лампы накалиgrating, and if in the direction of increasing the period, then due to the weakening of the color separation of the diffraction grating, as household light sources (incandescent
0 5 0 0 5 0
5 5
0 5 0 0 5 0
5 5
00
вани ) имеют прот женный источник света (нить накаливани ), привод щий к смешению цвета при дифракции.vani) have an extended light source (incandescent filament), resulting in color mixing during diffraction.
На фиг.1 показано увеличенное изображение фрагмента декоративного стекла, вид сверху и разрез (1 - стекл нна подложка фотошаблона, 2 - светлопольные изображени элементов структуры полупроводниковых приборов или микросхем, 3 -двумерна дифракционна решетка, сформированна на темнопольной области фотошаблона); на фиг,2 показано увеличенное изображение, фрагмента декоративного стекла (вид сверху и разрез), не имеющего светлопольных изображений элементов, структур полупроводниковых приборов или микросхем (4 - дефекты стекла); на фиг.З показано увеличенное изображение фотошаблона, не имеющего светлопольных изображений элементов топологии полупроводниковых приборов или микросхем (5 - дефекты маскирующего покрыти ).Fig. 1 shows an enlarged image of a decorative glass fragment, a top view and a section (1 — glass substrate of a photomask, 2 — bright-field images of structural elements of semiconductor devices or microcircuits, 3 — two-dimensional diffraction grating, formed on a dark-field region of the photomask); on Fig, 2 shows an enlarged image of a fragment of decorative glass (top view and section), not having bright-field images of elements, structures of semiconductor devices or microcircuits (4 - glass defects); Fig. 3 shows an enlarged image of a photomask that does not have bright-field images of the topology elements of semiconductor devices or microcircuits (5 - masking coating defects).
Декоративные стекла могут быть использованы в качестве составной части декоративных светильников, декоративных зеркал, мебели и других изделий бытового назначени .Decorative glasses can be used as part of decorative lamps, decorative mirrors, furniture and other household products.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU904896448A RU1834868C (en) | 1990-12-29 | 1990-12-29 | Decorative glass |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU904896448A RU1834868C (en) | 1990-12-29 | 1990-12-29 | Decorative glass |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1834868C true RU1834868C (en) | 1993-08-15 |
Family
ID=21552082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU904896448A RU1834868C (en) | 1990-12-29 | 1990-12-29 | Decorative glass |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1834868C (en) |
-
1990
- 1990-12-29 RU SU904896448A patent/RU1834868C/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР Ns 1631494, кл. G 02 В 5/20, 1989. Патент ЕР №0215666, кл. F21 Р 1/02, 1987. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4174219A (en) | Method of making a negative exposure mask | |
ATE192056T1 (en) | METHOD FOR PRODUCING AN INTEGRATED BLACK MATRIX WITH COLOR FILTER ELEMENTS | |
KR970016774A (en) | Manufacturing method of half-tone phase inversion mask | |
KR940007981A (en) | Process for manufacturing defect-free printing reticles | |
KR970006927B1 (en) | Phase shift photomask and preparation process thereof | |
CN1039465C (en) | Phase shift mask | |
KR100374207B1 (en) | Embedded phase shifting photomasks and method for manufacturing same | |
US5686208A (en) | Process for generating a phase level of an alternating aperture phase shifting mask | |
JPH0446941Y2 (en) | ||
DE69515571D1 (en) | Process for producing a glass substrate coated with a finely structured Nesa glass membrane | |
RU1834868C (en) | Decorative glass | |
CN106585158A (en) | Metal mesh printing plate and preparation method thereof | |
US5556725A (en) | Method for fabricating a half-tone type phase shift mask | |
GB2286254A (en) | Phase shift mask and method for fabricating the same | |
KR950019780A (en) | Manufacturing method of color filter | |
US5637425A (en) | Method for fabricating phase shift mask comprising a polymethylmethacrylate phase shift film | |
CN2777600Y (en) | Chromium-free film layer phase shift light shade | |
JP2580473B2 (en) | Printing plate making method | |
JPS602956A (en) | Manufacture of photomask | |
KR930001346A (en) | How to form a resist mask pattern by light irradiation | |
KR950014638B1 (en) | Beauty treatment steel sheets and method for making the same | |
US6607674B2 (en) | Method of repairing a phase shifting mask | |
US5718990A (en) | Semiconductor mask and method of manufacturing the same | |
JPS60166949A (en) | Photomask | |
KR960016315B1 (en) | Removal method of bridge occured from using phase shift mask |