RU1815251C - Method for manufacture of flexible suspension from quartz glass - Google Patents
Method for manufacture of flexible suspension from quartz glassInfo
- Publication number
- RU1815251C RU1815251C SU4893676A RU1815251C RU 1815251 C RU1815251 C RU 1815251C SU 4893676 A SU4893676 A SU 4893676A RU 1815251 C RU1815251 C RU 1815251C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- etching
- working
- jumpers
- suspension
- grooves
- Prior art date
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к технологии изготовлени кварцевых подвесов акселерометров размерным травлением. Сущность изобретени заключаетс в том, что селективное травление кварца провод т в два этапа: на первом с обеих сторон заготовки одновременно в зоне паза подвеса формируют канавки на глубину, суммарную величину которых назначают равной номинальной толщине рабочих перемычек, затем на втором этапе одновременно трав т канавки и рабочие перемычки до момента соприкосновени в процессе травлени смежных стенок канавок паза, причем в процессе, формировани рабочих перемычек увеличивают дискретно зону травлени рабочих перемычек пропорционально глубине травлени .The invention relates to a technology for manufacturing quartz accelerometer suspensions of dimensional etching. The essence of the invention lies in the fact that selective etching of quartz is carried out in two stages: on the first on both sides of the workpiece, grooves are formed simultaneously in the suspension groove zone to a depth, the total value of which is set equal to the nominal thickness of the working jumpers, then, in the second stage, the grooves are etched simultaneously and working jumpers until they touch in the process of etching adjacent walls of the grooves, and in the process of forming working jumpers, the etching zone of working jumpers increases discretely in proportion to the etching depth.
Description
рых равна номинальной толщине рабочей перемычки подвеса.rykh is equal to the nominal thickness of the working jumper of the suspension.
Этот признак позвол ет предварительно задать окончательную толщину рабочей перемычки с обеспечением ее контрол простыми технологическими средствами - микрометром . Кроме того, формирование паза и .рабочих перемычек одновременно в течение времени сквозного протрава паза позвол ет обеспечить точность получени заданной толщины рабочей перемычки и упрощает технологию получени подвеса.This feature allows you to pre-set the final thickness of the working jumper with its control by simple technological means - a micrometer. In addition, the formation of the groove and the working jumpers simultaneously during the time of the through etching of the groove allows the accuracy of obtaining a given thickness of the working bridge and ensures the simplification of the technology for producing the suspension.
Формирование рабочей перемычки подвеса с плавным утонением при .переходе от массивной части подвеса к рабочей части перемычки за счет дискретного увеличени зоны травлени в направлении длины рабочей перемычки пропорционально глубине травлени позвол ет повысить механическую прочность ма тника за счет исключени концентраторов напр жени , исключает обрывы токопровод щей пленки напыл емой на рабочие перемычки и одновременно понижает подтравы за счет последовательного применени селективного травлени с различными масками.The formation of the suspension working bridge with smooth thinning during the transition from the massive part of the suspension to the working part of the bridge due to the discrete increase in the etching zone in the direction of the length of the working bridge in proportion to the etching depth allows to increase the mechanical strength of the pendulum by eliminating voltage concentrators, eliminating breaks in the conductive film sprayed onto the working jumpers and at the same time reduces ghosting due to the successive application of selective etching with various masks.
Сообщение в процессе травлени заготовке кварца возвратно-поступательного винтообразного движени в направлении наименьшего гидродинамического сопротивлени заготовки в услови х ламинарного обтекани травителем заготовки обеспечивает достижение равномерного травлени заготовки кварца в том числе, рабочих перемычек за счет эффективного удалени продуктов травлени из зоны травлени и . доступа в зону травлени травител . Винтообразные возвратно-поступательные движени заготовки в ламинарном режиме в отличие от вращательного слабо измен ют тепловое поле жидкости травител и в то же врем эффективно удал ют продукты травлени из зоны травлени .The message during the etching of the quartz precursor of the reciprocating helical movement in the direction of the least hydrodynamic resistance of the preform under conditions of laminar flow around the preform with the etchant ensures uniform etching of the quartz preform including the working jumpers by effectively removing etching products from the etching zone and. access to the etching zone of the etchant. The helical reciprocating movements of the workpiece in the laminar mode, unlike the rotational one, slightly change the thermal field of the etchant liquid and at the same time effectively remove the etched products from the etched zone.
П р име р. Заготовку кварцевого стекла КУ 1 в виде брусков 50x50 режут на бруски квадратного сечени с припуском дл обточки по диаметру дл формировани пластин заготовок в размер 025, толщиной 0,7 мм. После щлифовки, доводки и полировки заготовок получают пластины 025, ,500 мм с классом шероховатости R2 0,050.P r. A quartz glass blank KU 1 in the form of 50x50 bars is cut into square bars with an allowance for turning in diameter to form blanks of 025 size, 0.7 mm thick. After grinding, finishing and polishing the workpieces, plates of 025,, 500 mm with a roughness class of R2 0.050 are obtained.
Затем поочередно на обе поверхности пластин заготовок формируют защиту и провод т селективное травление,Then, alternately, protection is formed on both surfaces of the workpiece plates and selective etching is carried out,
В кварцевой заготовке толщиной 500 мм селективным травлением формируют паз в виде канавок одинаковой глубины, суммарна величина которых равна 1,2-1,3 номинальной толщине рабочей перемычкеIn a quartz billet with a thickness of 500 mm by selective etching, a groove is formed in the form of grooves of the same depth, the total value of which is 1.2-1.3 nominal thickness of the working jumper
подвеса. В качестве травител используют бифторид аммони , в качестве защитной маски хром-медь-хром толщиной 1,5-2 мкм - структуру напыл емую на обе поверхностиsuspension. Ammonium bifluoride is used as an etchant, and a structure of 1.5–2 µm thick is used as a protective mask — chromium-copper-chromium — a structure sprayed onto both surfaces
кварцевой заготовки.quartz billet.
Селективное травление провод т в биф- ториде аммони в течение 20 мин, поэтому в технологии изготовлени предусмотрено гальваническое наращивание сло медиSelective etching is carried out in ammonium bifluoride for 20 min; therefore, the manufacturing technology provides for galvanic build-up of a copper layer
0 толщиной 12 мкм на напыленный предварительно слой Сг-Cu-Cr. Гальваническое наращивание меди провод т в электролите пропусканием тока, электрод подключает к ободу подвеса - неподвижной части подвеса.0 12 microns thick on a previously sprayed layer of Cr-Cu-Cr. The galvanic build-up of copper is carried out in the electrolyte by passing current, the electrode is connected to the rim of the suspension - the fixed part of the suspension.
5 При изготовлении подвеса дл исключени поломок рабочих перемычек предусмотрено формирование трех технологических перемычек между.подвижной и неподвижной част ми, удал емых после формировани схемы на5 In the manufacture of the suspension, in order to prevent breakdowns of the working jumpers, the formation of three technological jumpers between the movable and fixed parts, which are removed after the formation of the circuit on
0 подвесе электронным лучом.0 suspension by electron beam.
Номинальна толщина рабочей перемычки ма тника 20 мкм. Затем, удал ют защитный слой травлением в растворах сол ной, серной, азотной кислот в воде.The nominal thickness of the working bridge of the pendulum is 20 microns. Then, the protective layer is removed by etching in solutions of hydrochloric, sulfuric, nitric acids in water.
5 Вновь формируют защитный слой и провод т селективное травление канавок под рабочие перемычки подвеса и дальнейшее травление канавок образующих паз подвеса . При травлении канавки под перемычку5 The protective layer is again formed and selective etching of the grooves for the working jumpers of the suspension and further etching of the grooves forming the groove of the suspension are carried out. When etching a jumper groove
0 примен ют вначале селективное травление с шириной шаблона равной.рабочей длине перемычки, затем дискретно, путем смены шаблона увеличивают ширину окна шаблона в направлении длины перемычки и снова0 first apply selective etching with a pattern width equal to the working length of the jumper, then discretely, by changing the pattern, increase the width of the window of the pattern in the direction of the length of the jumper and again
5 провод т травление канавок паза и перемычек . Глубину травлени на каждом шаге травлени выбирают из услови заданной кривизны поверхности перехода зоны перемычки предназначенной под напыление то0 копровод щей дорожки. Дл перемычек с толщиной 20 мкм и при толщине заготовки 500 мкм достаточно применени трех фотошаблонов с шириной окна 1,5; 2,0 и 2,5 мм при номинальной длине рабочей перемыч5 ки, равной 1,5 мм.5 etch grooves and jumpers. The etching depth at each etching step is selected from the condition of a given curvature of the transition surface of the jumper zone of the conductive track to be sprayed. For jumpers with a thickness of 20 microns and with a workpiece thickness of 500 microns, it is sufficient to use three photomasks with a window width of 1.5; 2.0 and 2.5 mm with a nominal length of the working jumper 5 equal to 1.5 mm.
Травление заготовки заканчивают после сквозного протравливани паза. Момент образовани сквозного протрава в . пазе может определ тьс с помощью раз0 личных датчиков фиксирующих нарушение сплошности материала кварца в зоне травлени , например электроконтактных.Etching of the preform is completed after through etching of the groove. The instant of formation of the through etch c. the groove can be determined using various sensors detecting the discontinuity of the quartz material in the etching zone, for example, electrical contacts.
Травление заготовок кварца за вл емым способом провод т в бифторид аммони The etching of quartz preforms of the claimed method is carried out in ammonium bifluoride.
5 подогреваемым до 75 ± 1°С в динамическом режиме. Травление провод т в реакционном сосуде из фторопласта, в котором помещают фтороплзстовую кассету с заготовками, приводимую в движение в процессе селективного травлени .5 heated to 75 ± 1 ° C in dynamic mode. The etching is carried out in a fluoroplastic reaction vessel in which a fluoroplastic cassette with blanks is placed, which is driven by selective etching.
Положительным эффектом изобретени вл етс повышение качества изготовлени кварцевых подвесов, снижение трудоемкости изготовлени за счет применени групповой технологии операций нанесени защиты и травлени .A positive effect of the invention is an increase in the quality of manufacture of quartz suspensions, a reduction in the complexity of manufacturing due to the use of group technology of operations for applying protection and etching.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4893676 RU1815251C (en) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | Method for manufacture of flexible suspension from quartz glass |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4893676 RU1815251C (en) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | Method for manufacture of flexible suspension from quartz glass |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1815251C true RU1815251C (en) | 1993-05-15 |
Family
ID=21551623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4893676 RU1815251C (en) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | Method for manufacture of flexible suspension from quartz glass |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1815251C (en) |
-
1990
- 1990-11-19 RU SU4893676 patent/RU1815251C/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Способ изготовлени упругого подвеса из кварцевого оптического стекла. Сборник рефератов НИОКР, сер. XII, вып. 11, 1987. Техн. описани 4 л,14.08,87. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR950009759B1 (en) | Low-iron loss grain oriented electromagnetic steel sheet and method of producing the same | |
JPH05302200A (en) | Electrochemical micromachining method | |
RU1815251C (en) | Method for manufacture of flexible suspension from quartz glass | |
KR19990045120A (en) | Etching Base, Etching Process and Etching Products | |
JP2502144B2 (en) | Manufacturing method of electric discharge machining electrode for forming honeycomb die and method for manufacturing honeycomb die | |
JP7223481B2 (en) | Method for manufacturing fine patterns on glass substrates | |
JPS6055827B2 (en) | Photomask substrate processing method | |
CN115799795A (en) | Mass electroforming manufacturing method for terahertz metal hollow rectangular waveguide cavity | |
US6398943B1 (en) | Process for producing a porous layer by an electrochemical etching process | |
JP4369583B2 (en) | Micro-groove machining method and fluid dynamic pressure bearing manufacturing method | |
EP0189595B1 (en) | Method for etching electrode foils for an aluminium electrolytic capacitor | |
CN110562911A (en) | Micro-nano structure forming and manufacturing method using supporting layer | |
US5651871A (en) | Process for graining and anodizing a metal plate | |
RU2722539C1 (en) | Manufacturing method of quartz sensitive elements of sensors | |
JP4834891B2 (en) | Surface processing method of metal material and metal substrate using this processing method | |
JP3750268B2 (en) | Manufacturing method of tool electrode for electric discharge machining | |
Datta | Microfabrication by through-mask electrochemical micromachining | |
JP2005213647A (en) | Formation method of light reflection pattern and product with the light reflection pattern | |
CN115637432B (en) | Manufacturing method of workpiece with holes and high-aspect-ratio grooves and metal workpiece | |
DE102021131084B3 (en) | Process for fabricating a structure for microelectromechanical systems | |
JPH07319152A (en) | Production of intaglio printing plate for printing on glass-base brittle substrate | |
SU1565619A1 (en) | Method of electric discharge fitting of gear wheels | |
RU2687299C1 (en) | Method of producing relief in dielectric substrate | |
CN117817136A (en) | Micro-groove processing method | |
RU2032287C1 (en) | Printed-circuit board manufacturing process |