Использование: дл подачи порошковых материалов при наплавке. Сущность изобретени : устройство содержит бункер с Изобретение относитс к устройствам дл подачи порошковых материалов при наплавке . Цель изобретени -повышение качества наплавленной поверхности путем повышени равномерности подачи порошка. На фиг. 1 показан общий вид устройства; на фиг.2 - узел I на фиг.1 в увеличенном масштабе. Устройство дл подачи порошковых материалов при наплавке содержит: бункер 1 с каналом дл подачи порошка 2, корпус 3 с основным газотранспортирующим каналом 4, дополнительным газотранспортирующим каналом 5 и сменным соплом 6 с диаметром равным 1,4-1,6 диаметра основного газо- транспортирующего канала 4. Дополнительный газотранспортирую- щий канал 5 выполнен с диаметром отверсти равным 0,4-0,6 диаметра основного газотранспортирующего канала 4, при этом ось дополнительного газотранспортирующего канала 5 расположена под углом 40каналом подачи порошка, корпус с основным газотранспортирующим каналом и сменное сопло с диаметром, равным 1,4-1.6 диаметра основного газотранспортирующего канала. Устройство снабжено дополнительным газотранспортирующим каналом с диаметром 0,4-0,6 диаметра основного газотранспортирующего канала. Ось дополнительного газотранспортирующего канала расположена под углом 40-60° к оси основного газотранспортирующего канала и перпендикул рно к оси канала дл подачи порошка и направлена в ближайшую к соплу точку пересечени канала дл подачи порошка с основным газотранспортирующим узлом-каналом. 2 ил. Ј 60 к оси основного газотрэнспортирующе- го канала 4 и перпендикул рно к оси канала 2 дл подачи порошка и направлена в ближайшую к соплу 6 точку пересечени 7 канала 2 .дл подачи порошка с основным газотранспортирующим каналом 4. Устройство работает следующим образом . В исходном положении производ т подачу порошка в бункер 1 и подключение к корпусу устройства магистрали подачи транспортирующего газа (не показана). Далее идет процесс подачи порошка из бункера 1 транспортирующим газом в зону наплавки. При этом движение потока газа через дополнительный транспортирующий канал 5 осуществл ет закрутку потока порошка в основном газотранспортирующем канале, что исключает образование в нем застойных зон и св занных с ними пульсаций в процессе подачи порошка. Введение в устройство дополнительного газотранспортирующего канала 5 с диаUse: for feeding powder materials during surfacing. SUMMARY OF THE INVENTION: The device comprises a hopper. The invention relates to devices for feeding powder materials for surfacing. The purpose of the invention is to improve the quality of the deposited surface by increasing the uniformity of the flow of powder. In FIG. 1 shows a general view of the device; figure 2 - node I in figure 1 on an enlarged scale. The device for supplying powder materials for surfacing contains: a hopper 1 with a channel for feeding powder 2, a housing 3 with a main gas transporting channel 4, an additional gas transporting channel 5 and a replaceable nozzle 6 with a diameter equal to 1.4-1.6 of the diameter of the main gas transporting channel 4. The additional gas transport channel 5 is made with an opening diameter equal to 0.4-0.6 of the diameter of the main gas transport channel 4, while the axis of the additional gas transport channel 5 is located at an angle of 40 and powder, the body with the main channel and the exchangeable gazotransportiruyuschim nozzle with a diameter equal to the diameter of the main 1,4-1.6 gazotransportiruyuschego channel. The device is equipped with an additional gas transport channel with a diameter of 0.4-0.6 of the diameter of the main gas transport channel. The axis of the additional gas transmission channel is located at an angle of 40-60 ° to the axis of the main gas transmission channel and perpendicular to the axis of the powder supply channel and is directed to the point of intersection of the powder supply channel with the main gas transporting node channel closest to the nozzle. 2 ill. Ј 60 to the axis of the main gas transporting channel 4 and perpendicular to the axis of the channel 2 for supplying powder and is directed to the point of intersection 7 of channel 2 closest to the nozzle 6. For supplying powder with the main gas transporting channel 4. The device operates as follows. In the initial position, the powder is fed into the hopper 1 and the carrier gas supply line (not shown) is connected to the housing of the device. Next is the process of supplying powder from the hopper 1 with a transporting gas to the surfacing zone. In this case, the movement of the gas flow through the additional transport channel 5 swirls the powder flow in the main gas transport channel, which eliminates the formation of stagnant zones and associated pulsations in the process of feeding the powder. Introduction to the device additional gas transport channel 5 with dia