RU1807093C - Process for preparing amorphous alloys - Google Patents
Process for preparing amorphous alloysInfo
- Publication number
- RU1807093C RU1807093C SU4665570A RU1807093C RU 1807093 C RU1807093 C RU 1807093C SU 4665570 A SU4665570 A SU 4665570A RU 1807093 C RU1807093 C RU 1807093C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- nickel
- sulfate
- electrolyte
- chromium
- deposition
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Использование: в машиностроении, химической и других отрасл х промышленности . Сущность изобретени : осаждение ведут на импульсном переменном токе с продолжительностью пр мого импульса 0,1- 10 с и обратного - 0,05-0,2 с из электролита, содержащего, г/л: сернокислый никель 40- 60, хлористый никель 30-50, сернокислый хром 180-200, гипофосфит натри 20-40. 1 табл.Usage: in mechanical engineering, chemical and other industries. The inventive deposition is carried out on a pulsed alternating current with a direct pulse duration of 0.1-10 s and reverse - 0.05-0.2 s from an electrolyte containing, g / l: nickel sulfate 40-60, nickel chloride 30- 50, chromium sulfate 180-200, sodium hypophosphite 20-40. 1 tab.
Description
Изобретение относитс к области гальванопластики и может быть использовано в машиностроении, авиационной и химической отрасл х промышленности дл создани защитных электрохимических покрытий.The invention relates to the field of electroplating and can be used in mechanical engineering, aviation and chemical industries to create protective electrochemical coatings.
Цель изобретени - повышение коррозионной стойкости аморфного сплава на основе никел и фосфора в агрессивных средах.The purpose of the invention is to increase the corrosion resistance of an amorphous alloy based on nickel and phosphorus in aggressive environments.
- Указанна цель достигаетс тем, что в известном способе получени аморфного электролитического сплава на основе никел и фосфора, включающем осаждение током плотностью 15-25 А/дм из электролита, сбдержащего сернокислый и хлористый никель , гипофосфит натри , осаждение ведут на импульсном переменном токе с длительностью пр мого импульса 0,1-10 с и обрат- ного 0,05-0,2 с из электролита, дополнительно содержащего сернокислый хром, при следующем соотношении компонентов, г/л:- This goal is achieved by the fact that in the known method for producing an amorphous electrolytic alloy based on nickel and phosphorus, including precipitation by current with a density of 15-25 A / dm from an electrolyte retaining nickel sulfate and chloride, sodium hypophosphite, deposition is carried out on pulsed alternating current with a duration forward pulse 0.1-10 s and reverse 0.05-0.2 s from an electrolyte additionally containing chromium sulfate, in the following ratio of components, g / l:
Сернокислый никель Хлористый никельNickel sulfate Nickel chloride
40-60 305040-60 3050
Сернокислый хром180-200 Гипофосфит натри 20-40 Отличительными признаками за вл емого способа вл етс ведение осаждени на импульсном переменном токе с длительностью пр мого импульса 0,1-10 с обратного - 0,05-0,2 с из электролита, дополнительно Содержащего сернокислый хром, при указанном выше соотношении компонентов.Chromium sulfate 180-200 Sodium hypophosphite 20-40 Distinctive features of the claimed method is conducting deposition on pulsed alternating current with a direct pulse duration of 0.1-10 s reverse - 0.05-0.2 s from an electrolyte, optionally containing sulfate chrome, with the above ratio of components.
- Эффективность предлагаемого способа обусловлена следующим. Введение в аморфный сплав Ni-P в качестве примеси хрома резко повышает коррозионную стойкость сплава в агрессивных средах. Дл получени легированного хромом аморфного сплава электрохимическим путем в электролит добавл ют растворимую соль хрома, например сернокислый хром. В процессе осаждени атомы хрома соосаждаютс одновременно с основными компонентами, обусловлива легированность получаемого аморфного сплава.- The effectiveness of the proposed method is due to the following. The introduction of Ni-P into an amorphous alloy as a chromium impurity sharply increases the corrosion resistance of the alloy in aggressive environments. In order to obtain a chromium-doped amorphous alloy electrochemically, a soluble chromium salt, e.g. chromium sulfate, is added to the electrolyte. During the deposition process, chromium atoms co-precipitate simultaneously with the main components, causing the doping of the resulting amorphous alloy.
Однако, если процесс осаждени вести . на посто нном токе, то наблюдаетс возрастающее обогащение поверхности покры00However, if the deposition process is conducted. at a constant current, an increasing enrichment of the surface of the coating is observed.
оabout
х| О Ч) СОx | Oh)
ти атомами хрома, Последнее приводит к пассивации поверхности и прекращению процесса осаждени . В результате не удаетс получить качественное покрытие большой толщиной.These atoms result in passivation of the surface and termination of the deposition process. As a result, it is not possible to obtain a high-quality coating with a large thickness.
Дл получени рысококачественного ; покрыти любой толщины процесс осаждени необходимо вести на переменном импульсном токе, включающем импульсы осаждени и импульсы обратной пол рности . В течение импульса обратной пол рностипроисходит разрушение пассивирующего сло , что обусловливает возобновление Процесса роста покрыти . Продолжительность этого импульса выбирают исход из компромисса между необходимостью , с одной стороны, минимального растворени покрыти и с другой - достаточной степенью разрушени пассйвирую- щёго сло . Как установлено опытным путем, оптимальна продолжительность импульса обратной пол рности составл ет 0.05-0,2 с. При меньшей продолжительности пассиеи- рующий слой разрушаетс неполностью, и получаемое покрытие имеет низкое качество . При большей продолжительности качество покрыти остаетс высоким, однако производительность процесса осаждени заметно снижаетс .To obtain triceps; coating of any thickness, the deposition process must be carried out with alternating pulse current, including deposition pulses and reverse polarity pulses. During the reverse polarity pulse, the passivation layer is destroyed, which causes the resumption of the coating growth process. The duration of this pulse is chosen based on a compromise between the need, on the one hand, for minimal dissolution of the coating and, on the other hand, for a sufficient degree of destruction of the passivating layer. As established experimentally, the optimal pulse duration of the reverse polarity is 0.05-0.2 s. At a shorter duration, the passivation layer is not completely destroyed, and the resulting coating is of poor quality. With a longer duration, the coating quality remains high, however, the performance of the deposition process is markedly reduced.
Длительность пр мого импульса осаждени определ етс требовани ми получени максимальной коррозионной стойкости аморфного покрытий при сохранении высокого его качества. Как следует из проведенныхэкспериментов , при продолжительности импульса осаждени менее 0,1 с образующеес покрытие некор- розионностойко и имеет низкое качестао - с тёмным налетом, а при длительности более 10 с процесс осаждени прекращаетс . 8 св зи с этим продолжительность пр мого импульса - импульса осаждени , выбрана равной 0,1-10 с.The duration of the direct deposition pulse is determined by the requirements for obtaining the maximum corrosion resistance of the amorphous coatings while maintaining its high quality. As follows from the experiments, when the deposition pulse duration is less than 0.1 s, the resulting coating is noncorrosion-resistant and has poor quality with a dark coating, and when the duration is more than 10 s, the deposition process is terminated. In connection with this, the duration of the direct pulse, the deposition pulse, is chosen to be 0.1-10 s.
Пример осуществлени способа.An example of the method.
Изобретение осуществл етс следующим образом. В дистиллированной воде раствор ют ингредиенты электролита в указанном выше соотношении.The invention is carried out as follows. The electrolyte ingredients are dissolved in distilled water in the above ratio.
Дл улучшени стабильности раствора его подвергают проработке. Дл этого в ванну помещают анод из сплава Nl-Cr эквиа- томного состава и катод из меди или никел . Площадь катода составл ет 0,1 площади анода. Между катодом и анодом пропускают посто нный ток плотностью 10-15 А/дм2 в течение 1 ч. Температура электролита 70- 90°С. После этого электролит готов к работе .To improve the stability of the solution, it is worked through. For this, an anlitom Nl-Cr alloy anode and a copper or nickel cathode are placed in the bath. The cathode area is 0.1 anode areas. A constant current density of 10-15 A / dm2 is passed between the cathode and the anode for 1 hour. The electrolyte temperature is 70-90 ° C. After that, the electrolyte is ready for use.
В качестве аиода кроме сплава NS-Cr можно использовать чистый никель.As an iodine, in addition to the NS-Cr alloy, pure nickel can be used.
После проработки электролита при той же температуре включают устройство дл механического перемешивани электролита , загружают покрываемые детали и включают ток. Перед загрузкой поверхность деталей активируетс и промываетс ; медные детали, а также детали из железа и никел активируютс при электрополировкеAfter working out the electrolyte at the same temperature, a device for mechanically mixing the electrolyte is turned on, coated parts are loaded and current is turned on. Before loading, the surface of the parts is activated and washed; copper parts, as well as parts made of iron and nickel, are activated by electropolishing
8 растворе ортофосфорной кислоты в теченйеЗО-бОс . .8 solution of phosphoric acid in the course of 3ZO-bOS. .
Дл получени покрыти однородной толщины необходимо, чтобы рассто ние между отдельными детал ми было не менее 5 см. Дл изделий симметричной формы (цилйндров , сфер и др.) анод изготавливаетс в форме полого цилиндра, дл плоских изделий аноды имеют форму пластин.In order to obtain a coating of uniform thickness, it is necessary that the distance between the individual parts is at least 5 cm. For products of symmetrical shape (cylinders, spheres, etc.), the anode is made in the form of a hollow cylinder, for flat products the anodes are in the form of plates.
Амплитуда импульсов осаждени составл ла , 15-25 А/дм2, импульсов обратнойThe amplitude of the deposition pulses was 15–25 A / dm2, the reverse pulses
пол рности - 1,5-5 А/дм2. Процесс осаждени челм до получени покрыти необходимой толщины,polarity - 1.5-5 A / dm2. The process of deposition of chelm to obtain a coating of the required thickness,
Скорость коррозии рассчитывали по значению, тока коррозии, полученного из потенциодинамичесшх измерений.The corrosion rate was calculated by the value of the corrosion current obtained from potentiodynamic measurements.
Данные по скорости коррозии получае- 4 мых покрытий из аморфного сплава дл различных вариантов осуществлени способа приведены в таблице. Испытани на коррознойную стойкость проводили в двух агрессивных средах - 1 н.растворе сол ной кислоты м 5 н.растворе серной кислоты.The data on the corrosion rate of the resulting 4 amorphous alloy coatings for various process embodiments are shown in the table. Corrosion resistance tests were carried out in two aggressive environments - 1 N hydrochloric acid solution and 5 N sulfuric acid solution.
Кроме приведенных в таблице вариантов , был также получен аморфный сплав NIр согласно прототипу. Установлено, что коррозионной стойкостью в кислотах он не обладает (скорбеть коррозии в 1 н.растворе HCI свыше 2000 мм/год).In addition to the options listed in the table, an amorphous alloy NIP according to the prototype was also obtained. It has been established that it does not possess corrosion resistance in acids (mourn corrosion in 1 N. HCI solution over 2000 mm / year).
Как следует из приводимых вариантовAs follows from the given options
осуществлени способа, осаждение аморфного сплава Ni-P, легированного хромом, на импульсном токе с продолжительностью пр мого импульса 0,1-10 с и обратного импульса 0,05-0,2 с из электролита, содержащего дополнительно 180-200 г/л сернокислого хрома, позвол ет на четыре пор дка снизить скорость коррозии сплава. Это дает возможность изготовл ть по предложенному способу высокоэффективныеthe implementation of the method, the deposition of an amorphous alloy of Ni-P alloyed with chromium on a pulsed current with a duration of a forward pulse of 0.1-10 s and a reverse pulse of 0.05-0.2 s from an electrolyte containing an additional 180-200 g / l sulfate chromium, allows four orders of magnitude to reduce the corrosion rate of the alloy. This makes it possible to produce highly efficient according to the proposed method.
протекторные покрыти , работающие в агрессивных средах.tread coatings operating in aggressive environments.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4665570 RU1807093C (en) | 1989-01-02 | 1989-01-02 | Process for preparing amorphous alloys |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4665570 RU1807093C (en) | 1989-01-02 | 1989-01-02 | Process for preparing amorphous alloys |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1807093C true RU1807093C (en) | 1993-04-07 |
Family
ID=21435633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4665570 RU1807093C (en) | 1989-01-02 | 1989-01-02 | Process for preparing amorphous alloys |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1807093C (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017053912A1 (en) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | Vizn Energy Systems, Inc. | Electroless plated anode for secondary battery |
-
1989
- 1989-01-02 RU SU4665570 patent/RU1807093C/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Садаков Г.А. Гальванопластика, М., Машиностроение, 1987, с. 199, 201. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017053912A1 (en) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | Vizn Energy Systems, Inc. | Electroless plated anode for secondary battery |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4105531A (en) | Plated metallic cathode | |
US4461680A (en) | Process and bath for electroplating nickel-chromium alloys | |
EP2640873A1 (en) | Electrolytic dissolution of chromium from chromium electrodes | |
US3729394A (en) | Composition and method for electrodeposition of zinc | |
RU1807093C (en) | Process for preparing amorphous alloys | |
KR890001378B1 (en) | Method of making an article having a layer of a nickelphosphorus alloy and coated with a protective layer | |
JP3319370B2 (en) | Low hydrogen overvoltage cathode and its manufacturing method | |
CN85104887B (en) | Nickel-phosphorus alloy electroplating and electroplating solution | |
JPH10130878A (en) | Electrolytic nickel plating method | |
DE3910450A1 (en) | METHOD FOR PRODUCING A PRINT PLATE SUPPORT FROM ALUMINUM | |
US4615773A (en) | Chromium-iron alloy plating from a solution containing both hexavalent and trivalent chromium | |
US4664759A (en) | Method for forming adherent, bright, smooth and hard chromium electrodeposits on stainless steel substrates from high energy efficient chromium baths | |
US3374156A (en) | Electro-depositing stainless steel coatings on metal surfaces | |
Colner et al. | Electroplating on titanium | |
US4177129A (en) | Plated metallic cathode | |
Krishnan et al. | Characteristics of a non-cyanide alkaline zinc plating bath | |
JP3269887B2 (en) | Dissolution method of metal film | |
Yongjun et al. | Cathodic Deposition of Mg (OH) 2 Coatings on Pure mg in Three mg Salts Aqueous Solutions | |
SU555173A1 (en) | Aqueous solution for anodizing aluminum alloys and subsequent coating | |
SU412297A1 (en) | ||
CA1271158A (en) | Chromium-iron alloy plating from a solution containing both hexavalent and trivalent chromium | |
SU533680A1 (en) | Electrolyte for the deposition of coatings based on gallium | |
JP2020153013A (en) | Film formation method | |
JP2004263237A (en) | Method of producing black chromium plating film | |
WO2003066936A2 (en) | Commercial process for electroplating nickel-phosphorus coatings |