RU1725574C - Устройство для нанесения покрытий в вакууме - Google Patents

Устройство для нанесения покрытий в вакууме Download PDF

Info

Publication number
RU1725574C
RU1725574C SU4793001A RU1725574C RU 1725574 C RU1725574 C RU 1725574C SU 4793001 A SU4793001 A SU 4793001A RU 1725574 C RU1725574 C RU 1725574C
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
housing
anode
ion
magnetic
coating
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
М.А. Парфененок
Ю.П. Маишев
Original Assignee
Парфененок Михаил Антонович
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Парфененок Михаил Антонович filed Critical Парфененок Михаил Антонович
Priority to SU4793001 priority Critical patent/RU1725574C/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU1725574C publication Critical patent/RU1725574C/ru

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к ионноплазменной технике и может быть использовано при нанесении износостойких, коррозионностойких, антифрикционных и других покрытий из металлических и диэлектрических материалов на детали цилиндрической формы для различных отраслей машиностроения и приборостроения. Цель изобретения - повышение качеств покрытия и расширение технологических возможностей. При бомбардировке поверхности изделий трубчатым пучком ионов распределение потока частиц распыленного из мишени материала с осевой симметрией дает возможность получить равномерное по толщине покрытие. Применение турели с конусными мишенями из разных материалов позволяет получить многослойные покрытия. Устройство содержит корпус 1 с торцевыми частями 2, кольцевым анодом 5 и магнитопроводом 4. Корпус 1, торцы 2 и магнитопровод 4 выполнены из магнитомягкого материала. Снаружи анод 5 расположен соленоид 6. Анод 5 подключен к положительному полюсу источника питания 7, а корпус 1 - к отрицательному полюсу. По оси корпуса 1 выполнено отверстие 9 для перемещения цилиндрической детали 10. При работе устройства в кольцевой щели 3 источника ионов создаются скрещенные электрическое и магнитное поля. После напуска рабочего газа через отверстие 8 происходит ионизация и формирование трубчатого пучка (ионного), который, попадая на мишень 11 через кольцевую щель 3, вызывает распыление материала. 2 з.п. ф-лы. 2 ил.

Description

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме методом ионно-лучевого распыления исходной мишени с предварительной обработкой поверхности деталей ионным пучком и может быть использовано при нанесении износостойких, коррозионностойких, антифрикционных и других покрытий из металлических и диэлектрических материалов на детали цилиндрической формы, проволоку для различных отраслей машиностроения и приборостроения.
Цель изобретения повышение качества покрытия и расширение технологических возможностей. Это достигается за счет улучшения равномерности покрытий, полученных на цилиндрических поверхностях при низкой температуре поверхности деталей.
Устройство также позволяет получать равномерные многокомпонентные покрытия.
На фиг. 1 изображена принципиальная схема устройства; на фиг.2 узел мишеней для получения многослойных покрытий.
Устройство содержит ионный источник, выполненный в виде корпуса 1 в виде цилиндра, закрытого с обеих сторон торцами 2. В одном из торцов 2, являющемся одновременно ускоряющим электродом и катодом, выполнена соосная с корпусом 1 кольцевая щель 3. Корпус 1, его торцы 2 и внутренний магнитопровод 4, соединяющий торцы 2, выполнены из магнитомягкого материала. Внутри корпуса 1 соосно с ним расположен кольцевой анод 5, с наружной стороны которого расположен соленоид 6, установленный соосно с корпусом 1. Анод 5 подключен к положительному полюсу источника питания 7, а корпус 1 к отрицательному полюсу. Отверстие 8, выполненное в корпусе 1, служит для напуска рабочего газа. По оси корпуса 1 выполнено отверстие 9 для перемещения цилиндрической обрабатываемой детали 10. Соосно корпусу 1 со стороны торца 2 кольцевой щелью 3 расположена мишень 11, выполненная в виде усеченного конуса. В случае необходимости нанесения многослойных покрытий вместо мишени 11 используется турель 12 с мишенями 13 из разных материалов.
Устройство работает следующим образом.
В кольцевой щели 3 торцевой части 2 корпуса 1 создаются скрещенные электрическое и магнитное поля. После напуска рабочего газа происходит ионизация его и формирование трубчатого ионного пучка, который, выходя из кольцевой щели 3, распространяется вдоль оси детали 10, попадает на мишень 11, вызывая распыление материала. При напряжении от 3 до 5 кВ на аноде 5 ток ионного пучка на конусной машине 11 составляет 200-400 мА при расстоянии до мишени 70-100 мм. Цилиндрическая деталь 10 перемещается в осевом отверстии 9 и мишени 11. При этом происходит осаждение потока частиц из распыляемой мишени 11 на поверхность детали 10 и образование пленочного покрытия.
С помощью устройства проводилось осаждение аморфных магнитных пленок сплавов Co79Fe5 Mo2B14, Co75Fe5B2O и др. на поверхность цилиндрических стержней из немагнитной стали 12Х18Н10Т ⌀ 12 мм. Скорость осаждения составляла 200-400
Figure 00000002
/мин при скорости подачи стержня 1-3 мм/с. Температура стержня не превышала 50оС. Неравномерность по толщине пленки не более 5% Полученные покрытия обладали аморфной структурой и магнитомягкими свойствами. Коэрцитивная сила 8-80 А/м. Анализ химического состава показал соответствие состава пленки составу исходной мишени.
Устройство по сравнению с известным позволяет повысить качество покрытия, т. е. получить равномерное по толщине покрытие за счет распределения потока частиц из распыляемой мишени на поверхность детали с осевой симметрией.
Эта конструкция также позволяет получить многокомпозиционные покрытия на деталях цилиндрической формы. Повышение качества покрытия деталей цилиндрической формы и получение многокомпозиционных покрытий может дать экономию в народном хозяйстве при нанесении износостойких, коррозионностойких, антифрикционных и других покрытий из металлических и диэлектрических материалов при нанесении покрытий в вакууме методом ионно-лучевого распыления.

Claims (2)

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ преимущественно на цилиндрические длинномерные детали, содержащее ионный источник, выполненный в виде цилиндрического корпуса с двумя закрытыми торцами, на одном из которых выполнена кольцевая щель для выхода ионного потока, магнитной системы, анода и распыляемой мишени, и держатель обрабатываемой детали, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытия и расширения технологических возможностей, в ионном источнике по его оси выполнено отверстие для прохода цилиндрической детали, а мишень выполнена в виде усеченного конуса, установленного напротив щели.
2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что оно снабжено турелью для установки мишеней.
SU4793001 1990-01-08 1990-01-08 Устройство для нанесения покрытий в вакууме RU1725574C (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4793001 RU1725574C (ru) 1990-01-08 1990-01-08 Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4793001 RU1725574C (ru) 1990-01-08 1990-01-08 Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU1725574C true RU1725574C (ru) 1995-06-27

Family

ID=30441656

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4793001 RU1725574C (ru) 1990-01-08 1990-01-08 Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU1725574C (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023111650A1 (ru) * 2021-12-16 2023-06-22 Нако Текнолоджиз, Сиа Мишень из магнитного материала для магнетронного распыления

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР N 543305, кл. C 23C 14/34, 1975. *
Патент США N 4530750, кл. C 23C 14/34, 1983. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023111650A1 (ru) * 2021-12-16 2023-06-22 Нако Текнолоджиз, Сиа Мишень из магнитного материала для магнетронного распыления

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104364416B (zh) 过滤阴极电弧沉积设备和方法
US6103074A (en) Cathode arc vapor deposition method and apparatus
CN107227445B (zh) 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备
US4452686A (en) Arc plasma generator and a plasma arc apparatus for treating the surfaces of work-pieces, incorporating the same arc plasma generator
CA2061809C (en) Apparatus and method for coating a substrate using vacuum arc evaporation
Akari et al. Reduction in macroparticles during the deposition of TiN films prepared by arc ion plating
JPH06508001A (ja) 線形磁電管スパッタリング方法及び装置
Coll et al. Design of vacuum arc-based sources
CH696972A5 (de) Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung.
WO2014196262A1 (ja) イオン源およびイオンミリング装置
US4542321A (en) Inverted magnetron ion source
CN207047312U (zh) 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备
RU1725574C (ru) Устройство для нанесения покрытий в вакууме
RU2058429C1 (ru) Способ напыления пленок
JP2021528815A (ja) 単一ビームプラズマ源
JPH11269634A (ja) 真空アーク蒸発源
CN105112872A (zh) 制备圆筒零件内表面涂层的脉冲磁控溅射装置及其应用
CN212476868U (zh) 电弧离子镀膜装置
KR20010021341A (ko) 아크형 이온 플레이팅 장치
Sanders et al. Magnetic enhancement of cathodic arc deposition
RU159075U1 (ru) Устройство для получения многокомпонентных многослойных покрытий
RU2173911C2 (ru) Получение электродуговой плазмы в криволинейном плазмоводе и нанесение покрытия на подложку
Zhitomirsky et al. Transport of a vacuum-arc produced plasma beam in a magnetized cylindrical duct
DE2655942C2 (ru)
RU194223U1 (ru) Устройство для нанесения тонкопленочных покрытий