RU1725574C - Устройство для нанесения покрытий в вакууме - Google Patents
Устройство для нанесения покрытий в вакууме Download PDFInfo
- Publication number
- RU1725574C RU1725574C SU4793001A RU1725574C RU 1725574 C RU1725574 C RU 1725574C SU 4793001 A SU4793001 A SU 4793001A RU 1725574 C RU1725574 C RU 1725574C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- housing
- anode
- ion
- magnetic
- coating
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к ионноплазменной технике и может быть использовано при нанесении износостойких, коррозионностойких, антифрикционных и других покрытий из металлических и диэлектрических материалов на детали цилиндрической формы для различных отраслей машиностроения и приборостроения. Цель изобретения - повышение качеств покрытия и расширение технологических возможностей. При бомбардировке поверхности изделий трубчатым пучком ионов распределение потока частиц распыленного из мишени материала с осевой симметрией дает возможность получить равномерное по толщине покрытие. Применение турели с конусными мишенями из разных материалов позволяет получить многослойные покрытия. Устройство содержит корпус 1 с торцевыми частями 2, кольцевым анодом 5 и магнитопроводом 4. Корпус 1, торцы 2 и магнитопровод 4 выполнены из магнитомягкого материала. Снаружи анод 5 расположен соленоид 6. Анод 5 подключен к положительному полюсу источника питания 7, а корпус 1 - к отрицательному полюсу. По оси корпуса 1 выполнено отверстие 9 для перемещения цилиндрической детали 10. При работе устройства в кольцевой щели 3 источника ионов создаются скрещенные электрическое и магнитное поля. После напуска рабочего газа через отверстие 8 происходит ионизация и формирование трубчатого пучка (ионного), который, попадая на мишень 11 через кольцевую щель 3, вызывает распыление материала. 2 з.п. ф-лы. 2 ил.
Description
Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме методом ионно-лучевого распыления исходной мишени с предварительной обработкой поверхности деталей ионным пучком и может быть использовано при нанесении износостойких, коррозионностойких, антифрикционных и других покрытий из металлических и диэлектрических материалов на детали цилиндрической формы, проволоку для различных отраслей машиностроения и приборостроения.
Цель изобретения повышение качества покрытия и расширение технологических возможностей. Это достигается за счет улучшения равномерности покрытий, полученных на цилиндрических поверхностях при низкой температуре поверхности деталей.
Устройство также позволяет получать равномерные многокомпонентные покрытия.
На фиг. 1 изображена принципиальная схема устройства; на фиг.2 узел мишеней для получения многослойных покрытий.
Устройство содержит ионный источник, выполненный в виде корпуса 1 в виде цилиндра, закрытого с обеих сторон торцами 2. В одном из торцов 2, являющемся одновременно ускоряющим электродом и катодом, выполнена соосная с корпусом 1 кольцевая щель 3. Корпус 1, его торцы 2 и внутренний магнитопровод 4, соединяющий торцы 2, выполнены из магнитомягкого материала. Внутри корпуса 1 соосно с ним расположен кольцевой анод 5, с наружной стороны которого расположен соленоид 6, установленный соосно с корпусом 1. Анод 5 подключен к положительному полюсу источника питания 7, а корпус 1 к отрицательному полюсу. Отверстие 8, выполненное в корпусе 1, служит для напуска рабочего газа. По оси корпуса 1 выполнено отверстие 9 для перемещения цилиндрической обрабатываемой детали 10. Соосно корпусу 1 со стороны торца 2 кольцевой щелью 3 расположена мишень 11, выполненная в виде усеченного конуса. В случае необходимости нанесения многослойных покрытий вместо мишени 11 используется турель 12 с мишенями 13 из разных материалов.
Устройство работает следующим образом.
В кольцевой щели 3 торцевой части 2 корпуса 1 создаются скрещенные электрическое и магнитное поля. После напуска рабочего газа происходит ионизация его и формирование трубчатого ионного пучка, который, выходя из кольцевой щели 3, распространяется вдоль оси детали 10, попадает на мишень 11, вызывая распыление материала. При напряжении от 3 до 5 кВ на аноде 5 ток ионного пучка на конусной машине 11 составляет 200-400 мА при расстоянии до мишени 70-100 мм. Цилиндрическая деталь 10 перемещается в осевом отверстии 9 и мишени 11. При этом происходит осаждение потока частиц из распыляемой мишени 11 на поверхность детали 10 и образование пленочного покрытия.
С помощью устройства проводилось осаждение аморфных магнитных пленок сплавов Co79Fe5 Mo2B14, Co75Fe5B2O и др. на поверхность цилиндрических стержней из немагнитной стали 12Х18Н10Т ⌀ 12 мм. Скорость осаждения составляла 200-400 /мин при скорости подачи стержня 1-3 мм/с. Температура стержня не превышала 50оС. Неравномерность по толщине пленки не более 5% Полученные покрытия обладали аморфной структурой и магнитомягкими свойствами. Коэрцитивная сила 8-80 А/м. Анализ химического состава показал соответствие состава пленки составу исходной мишени.
Устройство по сравнению с известным позволяет повысить качество покрытия, т. е. получить равномерное по толщине покрытие за счет распределения потока частиц из распыляемой мишени на поверхность детали с осевой симметрией.
Эта конструкция также позволяет получить многокомпозиционные покрытия на деталях цилиндрической формы. Повышение качества покрытия деталей цилиндрической формы и получение многокомпозиционных покрытий может дать экономию в народном хозяйстве при нанесении износостойких, коррозионностойких, антифрикционных и других покрытий из металлических и диэлектрических материалов при нанесении покрытий в вакууме методом ионно-лучевого распыления.
Claims (2)
1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ преимущественно на цилиндрические длинномерные детали, содержащее ионный источник, выполненный в виде цилиндрического корпуса с двумя закрытыми торцами, на одном из которых выполнена кольцевая щель для выхода ионного потока, магнитной системы, анода и распыляемой мишени, и держатель обрабатываемой детали, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытия и расширения технологических возможностей, в ионном источнике по его оси выполнено отверстие для прохода цилиндрической детали, а мишень выполнена в виде усеченного конуса, установленного напротив щели.
2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что оно снабжено турелью для установки мишеней.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4793001 RU1725574C (ru) | 1990-01-08 | 1990-01-08 | Устройство для нанесения покрытий в вакууме |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4793001 RU1725574C (ru) | 1990-01-08 | 1990-01-08 | Устройство для нанесения покрытий в вакууме |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1725574C true RU1725574C (ru) | 1995-06-27 |
Family
ID=30441656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4793001 RU1725574C (ru) | 1990-01-08 | 1990-01-08 | Устройство для нанесения покрытий в вакууме |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1725574C (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023111650A1 (ru) * | 2021-12-16 | 2023-06-22 | Нако Текнолоджиз, Сиа | Мишень из магнитного материала для магнетронного распыления |
-
1990
- 1990-01-08 RU SU4793001 patent/RU1725574C/ru active
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР N 543305, кл. C 23C 14/34, 1975. * |
Патент США N 4530750, кл. C 23C 14/34, 1983. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023111650A1 (ru) * | 2021-12-16 | 2023-06-22 | Нако Текнолоджиз, Сиа | Мишень из магнитного материала для магнетронного распыления |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104364416B (zh) | 过滤阴极电弧沉积设备和方法 | |
US6103074A (en) | Cathode arc vapor deposition method and apparatus | |
CN107227445B (zh) | 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备 | |
US4452686A (en) | Arc plasma generator and a plasma arc apparatus for treating the surfaces of work-pieces, incorporating the same arc plasma generator | |
CA2061809C (en) | Apparatus and method for coating a substrate using vacuum arc evaporation | |
Akari et al. | Reduction in macroparticles during the deposition of TiN films prepared by arc ion plating | |
JPH06508001A (ja) | 線形磁電管スパッタリング方法及び装置 | |
Coll et al. | Design of vacuum arc-based sources | |
CH696972A5 (de) | Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung. | |
WO2014196262A1 (ja) | イオン源およびイオンミリング装置 | |
US4542321A (en) | Inverted magnetron ion source | |
CN207047312U (zh) | 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备 | |
RU1725574C (ru) | Устройство для нанесения покрытий в вакууме | |
RU2058429C1 (ru) | Способ напыления пленок | |
JP2021528815A (ja) | 単一ビームプラズマ源 | |
JPH11269634A (ja) | 真空アーク蒸発源 | |
CN105112872A (zh) | 制备圆筒零件内表面涂层的脉冲磁控溅射装置及其应用 | |
CN212476868U (zh) | 电弧离子镀膜装置 | |
KR20010021341A (ko) | 아크형 이온 플레이팅 장치 | |
Sanders et al. | Magnetic enhancement of cathodic arc deposition | |
RU159075U1 (ru) | Устройство для получения многокомпонентных многослойных покрытий | |
RU2173911C2 (ru) | Получение электродуговой плазмы в криволинейном плазмоводе и нанесение покрытия на подложку | |
Zhitomirsky et al. | Transport of a vacuum-arc produced plasma beam in a magnetized cylindrical duct | |
DE2655942C2 (ru) | ||
RU194223U1 (ru) | Устройство для нанесения тонкопленочных покрытий |