RU156243U1 - Устройство для очистки загрязненной воды - Google Patents

Устройство для очистки загрязненной воды Download PDF

Info

Publication number
RU156243U1
RU156243U1 RU2015109420/05U RU2015109420U RU156243U1 RU 156243 U1 RU156243 U1 RU 156243U1 RU 2015109420/05 U RU2015109420/05 U RU 2015109420/05U RU 2015109420 U RU2015109420 U RU 2015109420U RU 156243 U1 RU156243 U1 RU 156243U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
nozzle
housing
plasma
forming elements
water
Prior art date
Application number
RU2015109420/05U
Other languages
English (en)
Inventor
Павел Владимирович Богданов
Дмитрий Александрович Шутов
Александр Николаевич Иванов
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ивановский государственный химико-технологический университет" ИГХТУ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ивановский государственный химико-технологический университет" ИГХТУ filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ивановский государственный химико-технологический университет" ИГХТУ
Priority to RU2015109420/05U priority Critical patent/RU156243U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU156243U1 publication Critical patent/RU156243U1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Abstract

Устройство для очистки загрязненной воды, содержащее корпус с диэлектрическими стенками, в котором напротив друг друга размещены анодный и катодный плазмоформирующие элементы, отличающееся тем, что верхняя часть корпуса закрыта крышкой с выполненным в ней штуцером, в нижней части корпуса установлено сопло, плазмоформирующие элементы выполнены в виде стержней из токопроводящего материала, изолированы друг от друга диэлектрической распоркой, нижние их концы приближены друг к другу на расстояние, достаточное для образования разряда, расположены в нижней части камеры над соплом, а сопло установлено над поверхностью обрабатываемой воды на расстоянии 3-7 мм от нее, к штуцеру подсоединен источник бесперебойной подачи сжатого воздуха высокого давления, а плазмоформирующие элементы подключены к генератору импульсных напряжений.

Description

Полезная модель относится к охране окружающей среды, в частности к устройствам для очистки природных и сточных вод от токсичных органических примесей, и может быть использовано для снижения концентрации органических соединений в загрязненной воде.
Известно устройство для очистки сточных вод, содержащее цилиндрический корпус, внешняя сторона которого снабжена рубашкой и набором магнитов, а внутренняя - блоком кольцевых электродов и набором дисковых противоэлектродов, установленных в одной плоскости. Каждая пара электрод-противоэлектрод разделены предохранительным экраном. В верхней части корпуса установлен элемент с S-образным зазором, выполненный из неподвижного основания и подвижной шайбы электродов, один из которых размещен в жидкости с толщиной слоя 0.4-1.6 мм, а другой в газовой фазе [Пат. №2043969 Российской Федерации, МПК 6 C02F 1/46, Способ очистки сточных вод и устройство для его осуществления / Пархоменко В.Д. [UA], Пивоваров A.A. [UA], Кравченко A.B. [UA], Куксенко A.H. [UA], Терехов Борис Иванович [UA], Барский В.Д. [UA]; заявитель и патентообладатель Украинский государственный химико-технологический университет (UA); Производственное объединение "Днепровский машиностоительный завод (UA). - №4783175/26, заявл. 16.01.1990; опубл. 20.09.1995. - 4 с: 2 илл.].
Недостатками известного устройства являются: необходимость применения технических средств для создания вакуума; сложность устройства и обслуживания основного и вспомогательного оборудования для очистки сточных вод; высокие удельные энергозатраты; низкая эффективность процесса при толщине слоя менее 0.3 мм или более 1.6 мм, а также физическая ненадежность образующейся пленки.
Известно устройство для очистки сточных вод, содержащее корпус из диэлектрического материала, две электродные камеры, одну рабочую камеру, два электрода: анод и катод, две мембраны, выполненные из целлофана, входные и выходные патрубки для подвода и отвода сточных вод, входные и выходные патрубки для подвода и отвода электролита, барботер, фильтрующий материал, два источника кавитационного поля [Патент N 2243941 РФ, МПК C02F 1/46, C02F 1/34, C02F 1/46, C02F 101:30, C02F 103:04. Устройство для очистки сточных вод / Касперович В.Л. (RU), Быков А.В. (RU). - Заявитель и патентообладатель Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Оренбургский государственный университет" (RU). - №2003101950/15; заявл. 24.01.2003, опубл. 10.01.2005, Бюл. №1. - 5 с.: илл.].
Недостатком прототипа является недостаточная эффективность процесса окисления органических примесей из-за:- низкой развитости поверхности раздела фаз, обуславливающей большие размеры реактора и высокие удельные энергозатраты; - высокой температуры в зоне импульсного разряда, увеличивающей степень уноса очищаемой жидкости в атмосферу; - необходимости использования дорогостоящего оборудования для создания разряда.
Наиболее близким к изобретению по технической сущности и достигаемому результату, т.е. прототипом, является ячейка для плазмохимической очистки загрязненной жидкости, [Патент N 134921 РФ, МПК C02F 1/46. Ячейка для плазмохимической очистки загрязненной жидкости / Панов В.А. (RU), Куликов Ю.М. (RU), Сон Э.Е. (RU). - Заявитель и патентообладатель Панов В.А. (RU), Куликов Ю.М. (RU), Сон Э.Е. (RU) (RU). - №2013117072/05; заявл. 16.04.2013, опубл. 27.11.2013, Бюл. №33. - 2 с.: 2 илл.], содержащая корпус с входным и выходным фланцами, в котором размещены анодный и катодный плазмоформирующие элементы, отличающаяся тем, что указанные элементы размещены напротив друг друга на диэлектрических стенках корпуса в его средней части, при этом катодный элемент выполнен в виде набора игл, рядами закрепленных в одной диэлектрической стенке корпуса, а анодный элемент в виде набора пластин со скругленными углами, каждая из которых закреплена в другой диэлектрической стенке напротив двух соответствующих рядов игл катодного элемента.
Техническим результатом полезной модели является повышение эффективности процесса очистки.
Указанный результат достигается тем, что в устройстве для очистки загрязненной воды, содержащем корпус с диэлектрическими стенками, в котором напротив друг друга размещены анодный и катодный плазмоформирующие элементы, согласно полезной модели, верхняя часть корпуса закрыта крышкой с выполненным в ней штуцером, в нижней части корпуса установлено сопло, плазмоформирующие элементы выполнены в виде стержней из токопроводящего материала, изолированы друг от друга диэлектрической распоркой, нижние их концы приближены друг к другу на расстояние, достаточное для образования разряда, расположены в нижней части камеры над соплом, а сопло установлено над поверхностью обрабатываемой воды на расстоянии 3÷7 мм от нее; к штуцеру подсоединен источник бесперебойной подачи сжатого воздуха высокого давления, а плазмоформирующие элементы подключены к генератору импульсных напряжений.
Технический результат данной полезной модели достигается за счет того, что в ходе горения образованной в зоне сопла холодной плазменной струи образуется ряд активных частиц, воздействующих на раствор. Например, в нем образуются радикалы ·ОН, ·H, ·O, ·HO2, и др., за счет которых снижается кислотность и увеличивается концентрация пероксида, а это приводит к деструкции загрязнителя и вода очищается от загрязнений, т.е. достигается повышение эффективности очистки воды от загрязнений. В прототипе очищаемая вода проходит через непосредственный контакт с анодным и катодным плазмоформирующими элементами, при этом происходит реакция между ними и образуется дополнительное количество тяжелых металлов и других элементов, дополнительно загрязняющих очищаемую воду. В заявляемой же полезной модели данного непосредственного контакта не происходит, поэтому не происходит дополнительного загрязнения очищаемой воды в процессе обработки. В итоге эффективность очистки загрязняемой воды повышается.
Полезная модель поясняется чертежами, где на фиг. 1 приведена общая схема устройства, на фиг. 2 - устройство в разрезе, на фиг. 3 - изображен график образования радикалов и снижения кислотности очищаемой загрязненной воды.
Устройство для очистки загрязненной воды содержит цилиндрический корпус 1 из диэлектрика, в котором расположены анодный и катодный плазмоформирующие элементы 2 и 3, выполненные в виде стержней из токопроводящего материала, изолированные друг от друга диэлектрической распоркой 4 и оба соединенные с генератором импульсного напряжения 5. Верх камеры закрыт крышкой 6 с выполненным в ней штуцером 7, в нижней части камеры установлено сопло 8. Нижние концы плазмоформирующих элементов 2 и 3 приближены друг к другу на расстояние, достаточное для образования разряда, установлены в нижней части корпуса 1 над соплом 8, а сопло 8 установлено над поверхностью обрабатываемой воды на расстоянии 3-7 мм от нее. К штуцеру 7 подсоединен источник бесперебойной подачи сжатого воздуха высокого давления 9.
Устройство работает следующим образом: К анодному и катодному плазмоформирующим элементам 2 и 3 в виде стержней из токопроводящего материала, нижние концы которых приближены друг к другу на расстояние, достаточное для образования разряда, расположенным в нижней части корпуса 1 над соплом 8, подключается высоковольтный источник импульсного питания 5 с выходным напряжением до 10 кВ, частотой 20 кГц и мощностью 500 Вт, характеристик которого достаточно для пробоя воздушного промежутка и поддержания стабильного горения импульсного разряда между электродами 2 и 3. Одновременно к штуцеру 7, выполненному в крышке 6 верхней части камеры, подключается источник бесперебойной подачи сжатого воздуха 9 с давлением до 10 атмосфер. В процессе работы в корпусе 1 образуется низкотемпературная плазма, которая с высоким давлением выходит из сопла 8, находящегося на расстоянии, например, 5 мм от поверхности загрязненной воды, воздействует на нее. При расположении сопла 8 на расстоянии меньше 3 мм от обрабатываемой воды происходит разбрызгивание воды от струи плазмы под давлением. При расположении сопла 8 на расстоянии более 7 мм от обрабатываемой воды эффективность воздействия уменьшается. В качестве загрязнителя использовали раствор красителя фенолового красного, разведенного в дистиллированной воде, стабилизированный буферным раствором NaOH до значения pH=7. Концентрация фенолового красного составляла величину ~1,1×10-4 моль/л. Объем раствора составлял 100 мл и в процессе обработки раствор перемешивался. В ходе горения холодной плазменной струи образовался ряд активных частиц, воздействующих на поверхность раствора. Исследование обработанного раствора показали, что в процессе воздействия на раствор в нем образуются радикалы ·ОН, ·H, ·O, ·HO2, и др., а также снижается кислотность и увеличивается концентрация пероксида (см. график на фиг. 3), в результате чего происходит деструкция загрязнителя и вода очищается от загрязнений. Кроме этого отсутствует дополнительное количество тяжелых металлов и других элементов, загрязняющих очищаемую воду при реакции между очищаемой водой и плазмоформирующими элементами от их непосредственного контакта.

Claims (1)

  1. Устройство для очистки загрязненной воды, содержащее корпус с диэлектрическими стенками, в котором напротив друг друга размещены анодный и катодный плазмоформирующие элементы, отличающееся тем, что верхняя часть корпуса закрыта крышкой с выполненным в ней штуцером, в нижней части корпуса установлено сопло, плазмоформирующие элементы выполнены в виде стержней из токопроводящего материала, изолированы друг от друга диэлектрической распоркой, нижние их концы приближены друг к другу на расстояние, достаточное для образования разряда, расположены в нижней части камеры над соплом, а сопло установлено над поверхностью обрабатываемой воды на расстоянии 3-7 мм от нее, к штуцеру подсоединен источник бесперебойной подачи сжатого воздуха высокого давления, а плазмоформирующие элементы подключены к генератору импульсных напряжений.
    Figure 00000001
RU2015109420/05U 2015-03-17 2015-03-17 Устройство для очистки загрязненной воды RU156243U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015109420/05U RU156243U1 (ru) 2015-03-17 2015-03-17 Устройство для очистки загрязненной воды

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015109420/05U RU156243U1 (ru) 2015-03-17 2015-03-17 Устройство для очистки загрязненной воды

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU156243U1 true RU156243U1 (ru) 2015-11-10

Family

ID=54536403

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015109420/05U RU156243U1 (ru) 2015-03-17 2015-03-17 Устройство для очистки загрязненной воды

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU156243U1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU174491U1 (ru) * 2017-04-04 2017-10-17 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ивановский государственный химико-технологический университет" (ИГХТУ) Устройство для очистки загрязнённой воды

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU174491U1 (ru) * 2017-04-04 2017-10-17 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ивановский государственный химико-технологический университет" (ИГХТУ) Устройство для очистки загрязнённой воды

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101535904B1 (ko) 균일 전기장 유전체 장벽 방전 반응기
CN104211137A (zh) 一种等离子体水处理装置
WO2015064382A1 (ja) 液体処理装置および随伴水処理方法
CN211570217U (zh) 一种圆筒型dbd等离子体有机废液处理装置
US10357753B2 (en) Enhanced contact electrical discharge plasma reactor for liquid and gas processing
KR101579349B1 (ko) 플라즈마-멤브레인을 이용한 폐수 처리장치 및 폐수 처리방법
KR102130302B1 (ko) 수처리용 플라즈마 전극 모듈을 포함하는 수처리 시스템
KR20090054483A (ko) 수중 플라즈마 발생장치 및 방법
CN103112980B (zh) 一种流动式介质阻挡放电废水处理装置
CN103754994A (zh) 辉光放电等离子体水处理方法及装置
CN203754483U (zh) 一种坝式dbd等离子体制药工业废水处理装置
KR20140069935A (ko) 방전을 이용한 수처리장치
JP2013049015A (ja) 水処理装置
KR101303832B1 (ko) 스컴 제거를 위한 고전압 방전 시스템
RU156243U1 (ru) Устройство для очистки загрязненной воды
CN101148285A (zh) 高压脉冲气相增湿放电处理废水的方法
CN207227171U (zh) 小型介质阻挡放电水处理装置
CN207330422U (zh) 一种气液两相膜低温等离子体废水处理装置
RU173849U1 (ru) Плазмохимический реактор обработки жидкости барьерным разрядом
JP2015056407A (ja) 液中プラズマ生成装置
KR101444290B1 (ko) 전자기 공명 장치와 전자장 장치, 전기 화학적 분해 장치를 이용한 바이오 메탄가스 정제 처리 시스템 중 배출수의 재순환 처리 장치
KR102044024B1 (ko) 수처리용 플라즈마 전극, 플라즈마 전극 모듈 및 이를 포함하는 수처리 시스템
RU174491U1 (ru) Устройство для очистки загрязнённой воды
WO2012134350A1 (ru) Устройство для отчистки воды от микробных органических и химических загрязнений
RU2372296C1 (ru) Устройство очистки и обеззараживания воды

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20170318