RU144988U1 - Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик - Google Patents

Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик Download PDF

Info

Publication number
RU144988U1
RU144988U1 RU2013158983/02U RU2013158983U RU144988U1 RU 144988 U1 RU144988 U1 RU 144988U1 RU 2013158983/02 U RU2013158983/02 U RU 2013158983/02U RU 2013158983 U RU2013158983 U RU 2013158983U RU 144988 U1 RU144988 U1 RU 144988U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
target
composite
metal
component
gradient
Prior art date
Application number
RU2013158983/02U
Other languages
English (en)
Inventor
Александр Викторович Ситников
Юрий Егорович Калинин
Олег Владимирович Стогней
Владимир Викторович Черниченко
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет"
Priority to RU2013158983/02U priority Critical patent/RU144988U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU144988U1 publication Critical patent/RU144988U1/ru

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Составная мишень для получения планарно-градиентных композитных пленок металл-диэлектрик, содержащая подложку с размещенными на ней навесками распыляемого компонента, отличающаяся тем, что навески распыляемого компонента распределены по площади подложки неравномерно в соответствии с заданным градиентом концентраций указанного компонента в получаемой планарно-градиентной композитной пленке, который обеспечивается соотношением площадей, занимаемых металлической и диэлектрической частями мишени.

Description

Полезная модель относится к наноэлектронике и наноэлектромеханике и может быть использовано в различных областях современной наноиндустрии, микроэлектроники, альтернативной энергетике и т.д.
Исследования последних лет показали, что материалы и покрытия с ультрамелкодисперсной структурой и наноструктурными упрочняющими элементами обладают улучшенными физико-химическими и механическими свойствами. Поэтому в последние годы во всем мире проводятся работы по разработке способов получения материалов с наноструктурой.
Как правило, получаемые покрытия представляют собой металлические сплавы и поэтому улучшают свойства защищаемой поверхности лишь по одному из параметров, например, твердость или прочность, в то время как по другим параметрам обнаруживают значительно более низкие показатели. Традиционные способы формирования упрочняющих покрытий являются различными вариантами методов наплавки, таких, как плазменное, электронно-лучевое, лазерное, аргонодуговое, электродуговое, электрошлаковое и д.р., и это позволяет при наплавлении покрытий использовать присадочные материалы для повышения прочности за счет создания гетерофазной, а не однофазной, структуры.
Известен способ получения наноструктурированного градиентного оксидного покрытия из каталитического материала и составная мишень для реализации указанного способа, включающий напыление на подложку материала в вакуумной камере в среде, содержащей кислород, при этом подготовленную металлическую подложку предварительно нагревают в вакууме до температуры 400-450°C и осуществляют напыление магнетронным методом металлической композиции системы (Ti-Ru), (Ti-Ru-Ir), (Zr-Ru) в среде плазмообразующего газа аргона и реакционного газа кислорода, причем давление аргона поддерживают постоянным в течение всего процесса напыления, а парциальное давление кислорода изменяют по линейному закону от 0 до 8·10-2 Па в течение 10 мин и при установившемся давлении кислорода напыляют указанную металлическую композицию до требуемой толщины покрытия (патент РФ№2428516 C2, МПК С23С 14/35, 10.09.2011 - прототип).
Недостатками указанных технических решений является то, что при их использовании невозможно получить металл покрытия с ультрамелкодисперсной структурой и упрочняющими частицами в наноразмерном диапазоне, а также невозможность получения тонкопленочных покрытий с плавным и непрерывным изменением концентрации компонентов материала.
Задачей предложенного технического решения является устранение указанных недостатков и создание составной мишени для получения тонкопленочных покрытий с плавным и непрерывным изменением концентрации компонентов материала.
Решение указанной задачи достигается тем, что, в предложенной составной мишени для получения планарно-градиентных композитных пленок металл-диэлектрик, содержащей подложку с размещенными на ней навесками распыляемого компонента, согласно техническому решению, навески распыляемого компонента распределены по площади подложки неравномерно в соответствии с заданным градиентом концентраций указанного компонента в получаемой планарно-градиентной композитной пленке, который обеспечивается соотношением площадей, занимаемых металлической и диэлектрической частями мишени.
Сущность полезной модели иллюстрируется чертежами, где на фиг.1 показан общий вид мишени, используемой для напыления наногранулированных структур металл-диэлектрик, на фиг.2 - взаимное расположение мишени и подложки.
Предложенная составная мишень может быть использована в следующем способе получения планарно-градиентных композитных пленок металл-диэлектрик следующим образом.
Предварительно изготавливают составную мишень, представляющую собой прямоугольную основу 1 из одного материала, например, из кобальта, с расположенными на ее поверхности навесками 2 другого материала например, оксида алюминия. Для получения градиента концентрации в пленке, формируемой на поверхности подложки 3, навески 2 на мишени располагаются неравномерно. В результате распыления такой несимметричной мишени на подложке 3 формируется покрытие, в котором соотношение концентраций компонентов обеспечивается пропорционально соотношениям площадей, занимаемых металлической и диэлектрической частями мишени.
Пример осуществления способа.
При распылении мишени, сформированной из кобальта и оксида алюминия на подложке длиной 240 мм сформировано покрытие, в котором концентрация кобальта плавно и равномерно меняется от 30 до 75 ат.%. В соответствии с этим изменением концентрации, плавно и равномерно меняются электрические и магнитные свойства материала покрытия.
Использование предложенного технического решения позволит создать составную мишень для способа получения тонкопленочных покрытий с плавным и непрерывным изменением концентрации компонентов материала.

Claims (1)

  1. Составная мишень для получения планарно-градиентных композитных пленок металл-диэлектрик, содержащая подложку с размещенными на ней навесками распыляемого компонента, отличающаяся тем, что навески распыляемого компонента распределены по площади подложки неравномерно в соответствии с заданным градиентом концентраций указанного компонента в получаемой планарно-градиентной композитной пленке, который обеспечивается соотношением площадей, занимаемых металлической и диэлектрической частями мишени.
    Figure 00000001
RU2013158983/02U 2013-12-30 2013-12-30 Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик RU144988U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013158983/02U RU144988U1 (ru) 2013-12-30 2013-12-30 Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013158983/02U RU144988U1 (ru) 2013-12-30 2013-12-30 Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU144988U1 true RU144988U1 (ru) 2014-09-10

Family

ID=51540512

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013158983/02U RU144988U1 (ru) 2013-12-30 2013-12-30 Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU144988U1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113573458A (zh) * 2021-06-11 2021-10-29 中科超睿(青岛)技术有限公司 一种纳米梯度化中子靶及其制备方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113573458A (zh) * 2021-06-11 2021-10-29 中科超睿(青岛)技术有限公司 一种纳米梯度化中子靶及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Kylián et al. Fabrication of Cu nanoclusters and their use for production of Cu/plasma polymer nanocomposite thin films
Diechle et al. Combinatorial approach to the growth of α-(Al1− x, Crx) 2O3 solid solution strengthened thin films by reactive rf magnetron sputtering
Xiao et al. Nanostructured TiN coating prepared by reactive plasma spraying in atmosphere
Biederman et al. Nanocomposite and nanostructured films with plasma polymer matrix
Ahadi et al. Stable production of TiOx nanoparticles with narrow size distribution by reactive pulsed dc magnetron sputtering
Deng et al. Influence of adding glass beads in cathode region on the kinetics of cathode plasma electrolytic depositing ZrO2 coating
Chu et al. Fabrication, properties, and cytocompatibility of ZrC film on electropolished NiTi shape memory alloy
Cheng et al. Formation and structure of sphene/titania composite coatings on titanium formed by a hybrid technique of microarc oxidation and heat-treatment
CN106498221A (zh) 纳米多孔金及其制备方法
Liu et al. TiN, TiN gradient and Ti/TiN multi-layer protective coatings on Uranium
Dave et al. Effect of sputtering gas on structural, optical and hydrophobic properties of DC-sputtered hafnium oxide thin films
RU144988U1 (ru) Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик
RU2578336C2 (ru) Улучшенный способ совместного распыления сплавов и соединений с использованием двойной с-mag конструкции катода и соответствующая установка
TW201305356A (zh) 鍍膜件及其製備方法
Wu et al. Micrograph and structure of CrN films prepared by plasma immersion ion implantation and deposition using HPPMS plasma source
JP2016500756A5 (ru)
RU2515600C2 (ru) Способ получения наноструктурного покрытия
Çorlu et al. Modification of copper surfaces with cathodic arc aluminum plasma
CN104070725B (zh) Fe-Al-Nb合金涂层及其制备方法
Kumar et al. Modern coating processes and technologies
Tang et al. Gas flow sputtering—An approach to coat complex geometries and Non Line of Sight areas
Chan et al. Characterization of Cr-doped TiO2 thin films prepared by cathodic arc plasma deposition
Chunwei et al. Study on vanadium films deposited on concave object by conventional direct current and high power pulsed magnetron sputtering
Zhang et al. The deposition of crystallized TiO2 coatings by closed field unbalanced magnetron sputter ion plating
Lambert et al. Ag–Al2O3 optical nanocomposites with narrow particle size distribution prepared by pulsed laser deposition

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20151231