RU144988U1 - Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик - Google Patents
Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик Download PDFInfo
- Publication number
- RU144988U1 RU144988U1 RU2013158983/02U RU2013158983U RU144988U1 RU 144988 U1 RU144988 U1 RU 144988U1 RU 2013158983/02 U RU2013158983/02 U RU 2013158983/02U RU 2013158983 U RU2013158983 U RU 2013158983U RU 144988 U1 RU144988 U1 RU 144988U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- target
- composite
- metal
- component
- gradient
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Составная мишень для получения планарно-градиентных композитных пленок металл-диэлектрик, содержащая подложку с размещенными на ней навесками распыляемого компонента, отличающаяся тем, что навески распыляемого компонента распределены по площади подложки неравномерно в соответствии с заданным градиентом концентраций указанного компонента в получаемой планарно-градиентной композитной пленке, который обеспечивается соотношением площадей, занимаемых металлической и диэлектрической частями мишени.
Description
Полезная модель относится к наноэлектронике и наноэлектромеханике и может быть использовано в различных областях современной наноиндустрии, микроэлектроники, альтернативной энергетике и т.д.
Исследования последних лет показали, что материалы и покрытия с ультрамелкодисперсной структурой и наноструктурными упрочняющими элементами обладают улучшенными физико-химическими и механическими свойствами. Поэтому в последние годы во всем мире проводятся работы по разработке способов получения материалов с наноструктурой.
Как правило, получаемые покрытия представляют собой металлические сплавы и поэтому улучшают свойства защищаемой поверхности лишь по одному из параметров, например, твердость или прочность, в то время как по другим параметрам обнаруживают значительно более низкие показатели. Традиционные способы формирования упрочняющих покрытий являются различными вариантами методов наплавки, таких, как плазменное, электронно-лучевое, лазерное, аргонодуговое, электродуговое, электрошлаковое и д.р., и это позволяет при наплавлении покрытий использовать присадочные материалы для повышения прочности за счет создания гетерофазной, а не однофазной, структуры.
Известен способ получения наноструктурированного градиентного оксидного покрытия из каталитического материала и составная мишень для реализации указанного способа, включающий напыление на подложку материала в вакуумной камере в среде, содержащей кислород, при этом подготовленную металлическую подложку предварительно нагревают в вакууме до температуры 400-450°C и осуществляют напыление магнетронным методом металлической композиции системы (Ti-Ru), (Ti-Ru-Ir), (Zr-Ru) в среде плазмообразующего газа аргона и реакционного газа кислорода, причем давление аргона поддерживают постоянным в течение всего процесса напыления, а парциальное давление кислорода изменяют по линейному закону от 0 до 8·10-2 Па в течение 10 мин и при установившемся давлении кислорода напыляют указанную металлическую композицию до требуемой толщины покрытия (патент РФ№2428516 C2, МПК С23С 14/35, 10.09.2011 - прототип).
Недостатками указанных технических решений является то, что при их использовании невозможно получить металл покрытия с ультрамелкодисперсной структурой и упрочняющими частицами в наноразмерном диапазоне, а также невозможность получения тонкопленочных покрытий с плавным и непрерывным изменением концентрации компонентов материала.
Задачей предложенного технического решения является устранение указанных недостатков и создание составной мишени для получения тонкопленочных покрытий с плавным и непрерывным изменением концентрации компонентов материала.
Решение указанной задачи достигается тем, что, в предложенной составной мишени для получения планарно-градиентных композитных пленок металл-диэлектрик, содержащей подложку с размещенными на ней навесками распыляемого компонента, согласно техническому решению, навески распыляемого компонента распределены по площади подложки неравномерно в соответствии с заданным градиентом концентраций указанного компонента в получаемой планарно-градиентной композитной пленке, который обеспечивается соотношением площадей, занимаемых металлической и диэлектрической частями мишени.
Сущность полезной модели иллюстрируется чертежами, где на фиг.1 показан общий вид мишени, используемой для напыления наногранулированных структур металл-диэлектрик, на фиг.2 - взаимное расположение мишени и подложки.
Предложенная составная мишень может быть использована в следующем способе получения планарно-градиентных композитных пленок металл-диэлектрик следующим образом.
Предварительно изготавливают составную мишень, представляющую собой прямоугольную основу 1 из одного материала, например, из кобальта, с расположенными на ее поверхности навесками 2 другого материала например, оксида алюминия. Для получения градиента концентрации в пленке, формируемой на поверхности подложки 3, навески 2 на мишени располагаются неравномерно. В результате распыления такой несимметричной мишени на подложке 3 формируется покрытие, в котором соотношение концентраций компонентов обеспечивается пропорционально соотношениям площадей, занимаемых металлической и диэлектрической частями мишени.
Пример осуществления способа.
При распылении мишени, сформированной из кобальта и оксида алюминия на подложке длиной 240 мм сформировано покрытие, в котором концентрация кобальта плавно и равномерно меняется от 30 до 75 ат.%. В соответствии с этим изменением концентрации, плавно и равномерно меняются электрические и магнитные свойства материала покрытия.
Использование предложенного технического решения позволит создать составную мишень для способа получения тонкопленочных покрытий с плавным и непрерывным изменением концентрации компонентов материала.
Claims (1)
- Составная мишень для получения планарно-градиентных композитных пленок металл-диэлектрик, содержащая подложку с размещенными на ней навесками распыляемого компонента, отличающаяся тем, что навески распыляемого компонента распределены по площади подложки неравномерно в соответствии с заданным градиентом концентраций указанного компонента в получаемой планарно-градиентной композитной пленке, который обеспечивается соотношением площадей, занимаемых металлической и диэлектрической частями мишени.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2013158983/02U RU144988U1 (ru) | 2013-12-30 | 2013-12-30 | Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2013158983/02U RU144988U1 (ru) | 2013-12-30 | 2013-12-30 | Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU144988U1 true RU144988U1 (ru) | 2014-09-10 |
Family
ID=51540512
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2013158983/02U RU144988U1 (ru) | 2013-12-30 | 2013-12-30 | Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU144988U1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113573458A (zh) * | 2021-06-11 | 2021-10-29 | 中科超睿(青岛)技术有限公司 | 一种纳米梯度化中子靶及其制备方法 |
-
2013
- 2013-12-30 RU RU2013158983/02U patent/RU144988U1/ru not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113573458A (zh) * | 2021-06-11 | 2021-10-29 | 中科超睿(青岛)技术有限公司 | 一种纳米梯度化中子靶及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Kylián et al. | Fabrication of Cu nanoclusters and their use for production of Cu/plasma polymer nanocomposite thin films | |
Diechle et al. | Combinatorial approach to the growth of α-(Al1− x, Crx) 2O3 solid solution strengthened thin films by reactive rf magnetron sputtering | |
Xiao et al. | Nanostructured TiN coating prepared by reactive plasma spraying in atmosphere | |
Biederman et al. | Nanocomposite and nanostructured films with plasma polymer matrix | |
Ahadi et al. | Stable production of TiOx nanoparticles with narrow size distribution by reactive pulsed dc magnetron sputtering | |
Deng et al. | Influence of adding glass beads in cathode region on the kinetics of cathode plasma electrolytic depositing ZrO2 coating | |
Chu et al. | Fabrication, properties, and cytocompatibility of ZrC film on electropolished NiTi shape memory alloy | |
Cheng et al. | Formation and structure of sphene/titania composite coatings on titanium formed by a hybrid technique of microarc oxidation and heat-treatment | |
CN106498221A (zh) | 纳米多孔金及其制备方法 | |
Liu et al. | TiN, TiN gradient and Ti/TiN multi-layer protective coatings on Uranium | |
Dave et al. | Effect of sputtering gas on structural, optical and hydrophobic properties of DC-sputtered hafnium oxide thin films | |
RU144988U1 (ru) | Составная мишень для получения планарно градиентных композитных пленок металл-диэлектрик | |
RU2578336C2 (ru) | Улучшенный способ совместного распыления сплавов и соединений с использованием двойной с-mag конструкции катода и соответствующая установка | |
TW201305356A (zh) | 鍍膜件及其製備方法 | |
Wu et al. | Micrograph and structure of CrN films prepared by plasma immersion ion implantation and deposition using HPPMS plasma source | |
JP2016500756A5 (ru) | ||
RU2515600C2 (ru) | Способ получения наноструктурного покрытия | |
Çorlu et al. | Modification of copper surfaces with cathodic arc aluminum plasma | |
CN104070725B (zh) | Fe-Al-Nb合金涂层及其制备方法 | |
Kumar et al. | Modern coating processes and technologies | |
Tang et al. | Gas flow sputtering—An approach to coat complex geometries and Non Line of Sight areas | |
Chan et al. | Characterization of Cr-doped TiO2 thin films prepared by cathodic arc plasma deposition | |
Chunwei et al. | Study on vanadium films deposited on concave object by conventional direct current and high power pulsed magnetron sputtering | |
Zhang et al. | The deposition of crystallized TiO2 coatings by closed field unbalanced magnetron sputter ion plating | |
Lambert et al. | Ag–Al2O3 optical nanocomposites with narrow particle size distribution prepared by pulsed laser deposition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM1K | Utility model has become invalid (non-payment of fees) |
Effective date: 20151231 |