RO99205B1 - PROCEDEU SI INSTALATIE PENTRU DEPUNERI DE STRATURI SUBTIRI îN VID - Google Patents

Abstract

Inventia se refera la un procedeu si o instalatie pentru depuneri în vid, de straturi subtiri pe substraturi metalice sau nemetalice. Procedeul, conform inventiei, prevede curatirea substratului prin bombardament ionic în atmosfera de argon si respectiv curatirea optionala a tintelor magnetron, urmata de realizarea conditiilor de depunere si anume, încalzirea pâna la temperatura prescrisa a substratului, asigurarea presiunii optime de lucru pentru pulverizarea magnetron, reglarea debitului de gaz reactant, necesar pentru obtinerea unei compozitii dorite a depunerii, polarizarea retelei de accelerare a electronilor de bombardament a tintelor magnetron si a substratului la valoarea dorita, obtinerea materialului de depunere printr-o pulverizare de tip magnetron cu rata de pulverizare. Instalatia, conform inventiei, este constituita dintr-o camera zehnologica prevazuta cu trei magnetroane cu functionare simultana sau succesiva, o sursa de polarizare a substratului pentru curatirea acestuia prin bombarsarea ionica sau pentru depunerea reactiva, o retea de ionizare a materialului pulverizat si de încalzire, a substratului, un ansamblu portsubstrat izolat, surse de curent continuu, un sistem de vidare a camerei tehnologice.