PT92337A - Processo e dispositivo para a producao de material estratificado para elementos de deslizamento - Google Patents

Description

GLYCQ-METALL-WERKE DAELEN & LOOS GmbH Stielstrasse 11

D-6200 WIESBADEN REPDBLICA FEDERAL ALEMA "PROCESSO E DISPOSITIVO PARA A PRODUÇÃO DE UM MATERIAL ESTRATIFICADO PARA ELEMENTOS DE DESLIZAMENTO"

DESCRIÇÃO A presente invenção diz respeito a ura processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento com uma camada de deslizamento aplicada sobre uma camada de suporte, sob a forma de um sistema de duas ou mais componentes com lacuna de mistura (monotéctico). Esta invenção diz respeito, também, a um dispositivo destinado à execução deste processo.

As ligas na forma de um sistema metalúrgico de dois ou mais componentes com lacuna de mistura (monotéctico), também designadas por ligas de dispersão, são, em geral, constituídas por componentes metálicos com pesos específicos bastante diferentes entre si. Os componentes pesados, como, por exemplo, o Pb em ligas de dispersão AIPb, tendem fortemente para a liquação, isto é, quando do processo de solidificação da liga, observa-se, com mais frequência, a separação dos cristais mistos de -2-

outras concentrações durante os primeiros estádios, conforme o diagrama de estados, em detrimento dos estádios posteriores do processo de arrefecimento, pelo que os cristais mistos que resultam da fusão não são homogénios. A produção de materiais AlPb para chumaceiras de deslizamento segundo as técnicas de fundição existentes, não é possível, nas condições terrestres, devido Is lacunas de mistura existentes, por exemplo, no sistema AlPb. Não se consegue uma distribuição fina do chumbo pela matriz de Al, que é necessária aos materiais das chumaceiras de deslizamento.

Para a produção de camadas funcionais, a partir de ligas de dispersão deste tipo, conhece-se, por exemplo, de DE-OS 31 37 745, a produção de pó metálico, a partir da pulverização de uma massa fundida e sinterização da mesma sobre uma superfície de suporte.

No entanto, o processo dá origem a uma estrutura muito heterogénea, pelo que os resultados conseguidos variam bastante em máquinas de ensaio de chumaceiras. Por outro lado, verificou-se, ainda, que os poros existentes na camada de sinterização dão origem â formação de fissuras, quando de solicitações do elemento de deslizamento em regime de cargas alternadas, em consequência do efeito de corte interiores.

De DE-AS 15 08 855 conhece-se, ainda, um outro processo que recorre ao método de vazamento contínuo de ligas de alumínio com elevado teor em chumbo. Segundo este processo, o vazamento ê monofásico e o material a ser vazado é constituído por uma liga de alumínio-chumbo, com um teor em -3-

chumbo que varia entre os 20 e os 50%, visando-se a produção directa de um material para chumaceiras compostas, sendo a liga directamente vazada sobre um suporte metálico. Este processo, contudo, dá origem a uma união defeituosa da camada de deslizamento AI Pb (camada funcional) com o aço. Além disso, ocorrem processos de desagregação na lingoteira - apesar do arrefecimento por água - isto é, o gradiente de temperatura entre a temperatura da massa fundida homogénia e a temperatura da lingoteira é demasiadamente pequeno, pelo que não é possível obviar à instalação do equilíbrio termodinâmico. Com isto, obtém-se uma camada de deslizamento com uma estrutura homogénia, liquada; forma-se uma sanduíche de duas camadas, sem aplicação sob o ponto de vista tribológico, a qual, além de tudo o mais, ainda se liga deficientemente ao suporte.

De DE-PS 21 30 421 e da DE-OS 22 41 628 são conhecidos processos que visam a produção de uma tira metálica composta, segundo os quais o alumínio fundido sai por uma abertura existente na base do cadinho, no seio do qual se verte chumbo fundido, que sai am fio, também através de uma abertura situada no fundo do cadinho. A mistura de massa fundida, que se forma no fundo do cadinho, por exemplo, alumínio e chumbo, será, então, turbilhonada e misturada, passando, depois, a ser projectada sobre a superfície do substrato de que se dispõe. Uma camada funcional criada desta forma, ainda é bastante hetero-génia, pelo que as partículas de chumbo, como consequência da sua elevada densidade, tendem para a liquação e para a coagulação, quando atingem a superfície do substrato, integradas no caudal em turbilhão da mistura -4- fundida.

No caso de um processo conhecido a partir de DE-AS 22 63 268, uma mistura de massas fundidas, constituída por chumbo e alumínio, existe um rotor, concebido por forma a funcionar como um sifão, que projecta e acelera lateralmente as partículas, as quais vão incidir sobre uma parede, onde vão arrefecer bruscamente, consolidando sob a forma de escamas (splat cooling). No entanto, este material, dada a sua estrutura em forma de escamas (folhas), não é susceptível de ser trabalhado, nem po^ extrusão nem por pulverização, para se obter ura material susceptível de ser chapeado. Quando do fabrico de peças fundidas sob pressão e temperatura (através de prensas isostáticas), surgem desagregações, que vão dar origem â formação de heterogeneidades e, concomitantemente ã inutilização das chumaceiras maciças de AI Pb.

Na DE-OS 17 75 322 são descritos uma chumaceira de deslizamento, ou um material para o seu fabrico, que ê constituído por ligas de AI (por exemplo ligas de dispersão sobre o suporte de AlPb, AISn), em que o material Al, que mais tarde vai ser chapeado sobre um suporte de aço, é produzido por um processo de pulverização. 0 material de chumaceiras Al produzido por este processo apresenta uma disposição linear, no que respeita aos componentes macios (por exemplo, chumbo), como consequência da compactação por pulverização e das operações de laminação e de chapea-mento subsequentes. No entanto, tais estruturas lineares constituem uma grande desvantagem para as chumaceiras de deslizamento solicitadas por cargas alternadas, porque as linhas dão origem a fissuras como conse- -5- quência de efeitos de corte.

Na PCT WO 87/04377 descreve-se um processo, com o qual se fabrica uma banda de AIPb com espessuras que vão de 1 a 5mm, que depois é chapeada sobre aço, que serve de material de suporte. A distribuição fina de chumbo aqui descrita não é, no entanto, conseguida na prática, pois que o chapeamento por laminagem se dispersa por linhas, e assim não se uniformiza globulamente, quando do tratamento térmico posterior. Além disso verifica-se, que no caso de bandas com espessuras superiores a Q,5mm se observam desagregações. A DE-PS 37 30 862.9-16 pretende obviar a esta desvantagem, recorrendo a um processo similar ao da WO 87/04377 (processo Melt-Spin), em que se reivindica a produção de uma película de AlPb, com uma espessura máxima de Q,5mm, com uma distribuição extremamente fina e globular de Pb, sendo a mesma aplicada sobre um suporte, sem se recorrer a operações de laminagem, mas sim a soldadura por ultra-sons, soldadura a chumbo e colagem.

Verificou-se, contudo, que, por um lado, a soldadura por ultra-sons é um processo bastante dispendioso e de modo algum seguro e, por outro, que a soldadura a chumbo e a colagem não são processos a fogo adequados para o fabrico do produto semi-acabado necessário âs chumaceiras.

Portanto, a finalidade da invenção será a criação de um processo e de um dispositivo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, com uma superfície de deslizamento aplicada sobre uma -6- camada de suporte, constituída, pelo menos, por uma liga na forma de um sistema metalúrgico de dois ou mais componentes com lacuna de mistura (monotéctico), em que na superfície de deslizamento se pretende uma distribuição globular fina dos componentes metálicos dispersos (fase minoritária) por uma matriz metálica quase amorfa.

Consegue-se esta finalidade através de um processo, conforme as caracte-rfsticas da reivindicação 1 ou de um dispositivo, conforme a reivindicação 22. As formas preferenciais de execução são objecto das subreivindi-cações.

Obtém-se um material estratificado deste tipo, vazando a superfície de deslizamento de uma forma contínua e submetendo-a, imediatamente, apôs o vazamento, a um processo de arrefecimento contínuo, com uma velocidade de solidificação suficientemente elevada para se obviar ao crescimento de partículas dos componentes metalúrgicos não miscíveis com dimensões superiores a 0,01 até 1 jj, de preferência <1 ju. A elevada velocidade de arrefecimento permite a obtenção de uma distribuição globular uniforme dos componentes metálicos dispersos (fase minoritária) pela matriz da massa fundida. As desagregações que se observam em ligas deste tipo ficam limitadas a um mínimo.

Produz-se, desta forma, um material estratificado, cuja superfície de deslizamento (camada funcional) possui propriedades mais refinadas, como consequência do estado quase amorfo do material da matriz e da distribuição fundamentalmente uniforme e globular da fase minoritária. -7- ί \ '^w'**·* Ví'

Isto permite aumentar, significativamente, a resistência da camada funcional. Apesar desta resistência elevada, melhoram, também, a ducti-1idade e a tenacidade da camada funcional. A liga ou as ligas serão, preferencialmente, produzidas por via metalúrgica de fusão, situando-se a respectiva temperatura, bem como a de manutenção até ao vazamento, em valores mais elevados que as temperaturas de desagregação do sistema e da composição.

Existe uma possibilidade muito vantajosa de conseguir, no âmbito da invenção, uma distribuição globular, o mais uniforme possível, da fase minoritária pela matriz, que consiste em juntar à liga a ser vazada os núcleos germinadores adequados â liga, por exemplo, P, B, Ti, Si, bore-tos, nitritos e óxidos, numa percentagem em peso compreendida entre 0,1 e 3,5¾. Consegue-se, assim, a formação muito rápida de um elevado número de partículas da fase minoritária, as quais, no entanto, limitam o seu crescimento recíproco, pelo que também com o auxílio das elevadas taxas de arrefecimento que se conseguem na prática se obtém uma distribuição globular muito fina da matriz que solidifica, quando do arrefecimento. No processo a que diz respeito a presente invenção, a fase minoritária é essencialmente, constituída por chumbo, por exemplo, AlPb, FePb, CuPb, MnPb, Ni Pb e, eventualmente, também CrPb, bem como CoPb. A par destes também se pode recorrer a sistemas em que a fase minoritária seja constituída por zinco, bismuto ou antimónio, como por exemplo, AISn, AIBi, AISb, CrSn. A invenção oferece duas possibilidades fundamentais: -8- X*'

a) A liga de dispersão é vazada na forma de uma camada fina ou de um filme sobre um substrato que constitui a camada de suporte. Aquando deste vazamento e após o processo de arrefecimento muito rápido que lhe sucede, recorre-se âs medidas objecto da invenção, acima descritas, para se obter uma distribuição globular da fase minoritária pela matriz metálica. 0 vazamento da superfície de deslizamento poderá efectuar-se numa ou em várias fases. Um vazamento distribuído por várias fases obrigará a que se vaze, em primeiro lugar, uma camada muito fina e que esta seja imediatamente arrefecida de uma forma eficiente e rápida. Após a solidificação do primeiro filme vazado, procede-se ao vazamento de um segundo filme, o qual terá que ser, também, levado a solidificar-se rapidamente. Uma estrutura de deslizamento pode, assim, ser formada por várias fases. As espessuras dos vários filmes vazados podem ser diferentes. Os filmes podem, também, ser compostos por ligas de composição diversa. 0 recurso a ligas diferentes e/ou as condições de arrefecimento diferentes podem, também, permitir a formação da camadas finas de estrutura diferente. b) Uma outra possibilidade para a formação de superfícies de deslizamento consiste em produzir, primeiramente, a superfície de deslizamento em forma de banda ou de película, separadamente da superfície de suporte, as quais, após arrefecidas se podem aplicar de forma contínua à superfície de suporte por intermédio de processo adequado como, por exemplo, raios laser. -9-

Com o processo objecto desta invenção podem fabricar-se, sem quaisquer dificuldades, chumaceiras de deslizamento de três materiais. Tal é possível através do recurso às duas possibilidades fundamentais de execução, em que a superfície de deslizamento é vazada, directamante, sobre uma banda a que, previamente, foi aplicada uma primeira camada. Se se pretender que a superfície de deslizamento seja vazada independentemente da superfície de suporte, para depois lhe ser aplicada, então, também neste caso se pode utilizar uma banda, em que previamente se vazou uma camada, como material de suporte para a película de deslizamento.

No âmbito do processo objecto desta invenção, tais bandas podem ser constituídas por umas costas em aço e uma camada intermédia, constituída por uma das seguintes ligas: - Ligas de cobre-chumbo, por exemplo, Pb 9 a 25%, Sn 1 a 11%, Fe, Ni, Mn, menor/igual a 0,7%, o resto Cu; - Ligas da cobre-alumínio, por exemplo, AI 5 a 8%, o resto Cu; - Ligas de cobre-alumínio, por exemplo, Cu 0,5 a 1,5%, Sn 5 a 23%, Ni 0,5 a 1,5%, o resto Alj - Ligas de alumínio-niquel, por exemplo, Ni 1 a 5%, Mn 0,5 a 2%, Cu menor/igual a 1%, o resto Al; - Ligas de alumínio-zinco, por exemplo, Zn 4 a 5%, Si 0,5 a 3%, Cu até 2%, Mg até 1%, o resto Al. -10-

Verificou-se que* por esta fornia, um material estratificado constituído por aço/camada intermédia e por uma camada funcional vazada ou aplicada por um outro processo, se pode produzir de uma forma continuada e segura e, de preferência, com a espessura desejada para a camada funcional.

Com vistas a elevar a resistência do material e para aumentar a resistência ao desgaste podem juntar-se à massa fundida outros elementos. Ficou demonstrado que ainda se pode adicionar â liga de dispersão AlPb cerca de 1 a 4¾ em peso de silício, 0,2 a 1% em peso de Mg e 0,1 a 1,5¾ em peso de Co, a fim de se obter uma camada funcional resistente ao desgaste. Para melhorar a resistência à corrosão da fase minoritária, chumbo, recomenda-se, além disso, uma adição de 0,5 a 3¾ em peso de zinco. No caso de ligas com base em cobre, como, por exemplo, CuPb22, adícionam-se, usualmants, 0,5 a 2% em peso de Sn e 0,2 a 1¾ em peso de Fe.

Para aumentar a aderência entre a camada de deslizamento e a camada intermédia pode, eventualmente, ser aconselhável a intercalação de uma camada da aderência ou de uma camada bloqueadora de difusão, a camada de deslizamento e a camada intermédia, por exemplo, de Ni, Zn, Fe, Co (especialmsnte no caso de ligas â base de cobre), bem como NiSn, CuZn, Co, CuSn (especialmente no caso de ligas à base de alumínio).

Para a realização do processo, é preferível partir de um dispositivo, que esteja equipado com um cadinho para a fusão e/ou para a manutenção das condições de temperatura até ao processo de vazamento de uma liga -11- com lacuna de mistura e constituída por um sistema metálico de um ou mais componentes e com um dispositivo de vazamento associado ao cadinho para vazamento de uma banda e» por outro lado, com dispositivos para receber a banda vazada e para a retirar da zona de vazamento, bem como com dispositivos de arrefecimento da banda vazada, que abandona a zona de vazamento. No âmbito do processo objecto desta invenção, o dispositivo de vazamento deverá ser concebido para a formação de uma película ou de um filme em forma de banda, de pequena espessura, livre ou sobre um substrato e deverá existir um dispositivo de arrefecimento na forma de uma superfície de recepção de arrefecimento forçado, para a película vazada, ou uma superfície de apoio, com arrefecimento forçado, para o substrato, sobre o qual se vai vazar a liga, bem como unidades de arrefecimento, altamente eficazes, que actuem directamente sobre a superfície livre da película ou do filme.

Uma das formas mais vantajosas para o dispositivo é o que dispõe de cilindros com arrefecimento forçado, que desempenham a função de armazenamento para a película vazada ou de suporte para o substrato, sobre o qual vai ser vazada a liga. No âmbito do dispositivo objecto desta invenção, foram previstas outras formas, designadamente, uma calha de guia ou de transporte, a qual, em caso de necessidade, pode ser arrefecida. Transversalmente a esta calha de guia ou de transporte, dispõe-se um dispositivo de vazamento móvel que se destina â liga fundida, cuja distância à calha de guia ou ao substrato colocado sobre ela possa ser regulada. Este dispositivo de vazamento permite a formação, muito favorável, de uma camada de deslizamento, em várias fases, aplicada sobre um -12-

substrato. Para isso disp5e-se, a intervalos regulares, e no sentido do transporte, vários dispositivos de vazamento e entre estes, bem como a montante do último dispositivo, unidades de arrefecimento que actuam directamente sobre a superfície livre da película ou do filme vazados.

Seguidamente, referir-se-ão vários exemplos que serão ilustrados, mais em pormenor, com base nos desenhos seguintes: FIG. 1 - Corte parcial, bastante ampliado, de um material estratificado, com camada de deslizamento vazada, a partir de uma liga de dispersão; FIG. 2 - Corte parcial, bastante ampliado, de um material estratificado, com camada de deslizamento vazada, conforme uma outra forma de execução; FIG. 3 - Representação esquemática de um dispositivo; FIG. 4 - Representação esquemática de um dispositivo transformado, tendo como termo de comparação o dispositivo da FIG. 3; FIG. 5 - Representação esquemática de um outro dispositivo ; FIG. 6 - Representação esquemática de um dispositivo tranformado, tendo como termo de comparação o dispositivo da FIG. 5; -13- FI6. 7 - Uma outra forma de execução do dispositivo, em representação esquemática e FIG. 8 - Corte parcial, bastante ampliado, de um material estratificado, produzido a partir do dispositivo representado na FIG. 7, com camada de deslizamento, soldada a chumbo, vazada a partir de uma liga de dispersão. A FIG. 1 representa um corte parcial, bastante ampliado, de um material estratificado (10), com camada de deslizamento (13), vazada, constituída por uma liga de dispersão de AlPb8Si4SnCu e uma camada intermédia (12) de AlZnSSiCuPbMg com um material de suporte (11), em aço. Na camada funcional (13) está contida uma matriz de alumínio quase amorfa e nesta encontram-se partículas de chumbo globulares, finamente distribuídas, -2 com dimensões da ordem de grandeza de 10 jum, das quais só as de maiores dimensões (14) é que se encontram representadas na FIG. 1. A maior parte das partículas de chumbo apresenta dimensões inferiores, não sendo visíveis na FIG. 1, dada a ampliação escolhida. A maior parte das partículas de chumbo formou-se graças ao facto de se ter adicionado I liga de dispersão núcleos de germinação adequados, por exemplo, P, B, Ti, Si, boretos, nitritos ou óxidos, numa % em peso de, por exemplo, 2%. Esta adição fez com que se formassem, imediatamente, na liga de dispersão, uma grande quantidade de partículas, de dimensões muito reduzidas, as quais, no entanto, quando do vazamento e do arrefecimento da camada de deslizamento (13), limitaram, recíprocamente, o seu crescimento, pelo 9 fi que o arrefecimento brusco, com velocidades da ordem dos 10 a 10 K/s, -14-

contribuiu para que a maior parte das partículas de chumbo se distri- -2 buísse finamente» ao ponto das suas dimensões serem inferiores a 10 . Tanto no que respeita âs partículas de dimensões maiores (14) como às que não são visíveis, foi possível evitar, quase completamente, a liqua-ção das partículas de chumbo, através de arrefecimento brusco da camada de deslizamento (13).

Na matriz de alumínio da camada de deslizamento (13), devido à presença de inibidores de cristalização, por exemplo, Si, B, P, Fe, Co ou Ti, cada um de per si ou combinados, com uma % em peso compreendida entre 0,2 e Z%, e devido ao arrefecimento muito brusco da camada de deslizamento vazada (13), consegue-se evitar, de uma forma bastante acentuada, a cristalização típica do alumínio. A camada intermédia (12) difere da camada de deslizamento (13), pelo facto de apresentar uma estrutura típica das ligas de alumínio vazadas. 0 exemplo da FIG. 2 respeita a um material estratificado (10) com uma camada de suporte, em aço (11), e uma camada de deslizamento (13), como camada funcional, constituída por uma liga de dispersão alumínio/chumbo, A).Pb1QSi7SnCu, isto é, com um teor, em peso, de chumbo de 10¾ e um teor, em peso, de silício de 7%, a qual, neste caso, tanto funciona como núcleo de germinação para a fase minoritária de chumbo, como inibidor de cristalização de alumínio. Conforme se pode depreender da FIG. 2, na matriz de alumínio quase amorfa da camada funcional (13), encontram-se partículas de chumbo, globular e finamente dispersas, figura essa onde -15- só se podem reconhecer as partículas (15) de maiores dimensões, designa--2 damente 10 jum. Em grande parte, o silício encontra-se diluído como inibidor de cristalização na matriz quase amorfa de alumínio, existindo outra parte menor que funciona como núcleo de germinação na fase minoritária de chumbo. O estanho encontra-se absorvido pelo chumbo, principal-mente, para desempenhar o papel de agente anticorrosivo. A camada intermédia (16) é constituída, neste exemplo, por uma liga de dispersão CuPb22Sn e apresenta uma distribuição de partículas de chumbo (17), típica para esta liga de dispersão.

Nas FIG. 3 e 4 está representada uma forma de execução do processo para a produção do material estratificado acima descrito (13), constituído por ligas com lacuna de mistura, em que se apresentam duas variantes. A liga ou a liga de dispersão é fundida e introduzida num cadinho (21), o qual apresenta na sua base uma saída (22), donde sai um jacto fino de massa fundida (23). Conforme se pode inferir da seta (24), faz-se incidir sobre a parte superior do cadinho (21) um gás sob pressão, o qual se comporta como inerte perante a massa fundida e se dilui o menos possível nela. 0 cadinho (21), nos exemplos referidos, encontra-se envolvido por um enrolamento de indução (25), a qual permite manter a massa fundida no estado líquido, a uma temperatura previamente determinada, a fim de ser expulsa sob pressão para formar um fio fino (23). Sempre que haja a necessidade de trabalhar a liga de dispersão, o cadinho (21) pode ser equipado com dispositivos agitadores ou vibradores, os quais têm a -16-

incumbência de misturar, continuamente, a liga de dispersão para que os seus componentes se distribuam finamente. Estes dispositivos misturadores ou vibradores estão representados, de uma forma simplificada nas FIG. 3 e 4. A camada de suporte (11), com a forma de uma banda metálica (40), é retirada de uma dobadora, e enrolada em torno de um cilindro fortemente arrefecido (26). Antes da banda metálica (40) alcançar o cilindro (26), passa por um dispositivo (41) de limpeza de superfície e de desoxidação, o qual pode, por exemplo, ser um dispositivo de escovas, para que fique garantido que a superfície sobre a qual vai ser vazada a liga (40) fique libertada de óxidos, numa fase mais adiantada de preparação para o vazamento, a banda metálica (40) passa por um dispositivo de têmpera (43), a fim de garantir a união imediata entre a liga vazada e a superfície da banda metálica (40). A fim de manter esta situação até ao início do vazamento, a banda metálica (40) fica protegida por um gás inerte, o que se ilustra por intermédio da campânula (42), que se estende até à saída do cadinho (21). Tanto o processo de vazamento, como o de arrefecimento subsequente ocorrem no interior desta campânula de gás de protecção (42). 0 jacto fino de liga fundida ou de mistura de ligas de dispersão fundidas, que sai, sob pressão, do fundo do cadinho (21) incide sobre a superfície da banda metálica (40), segundo um ângulo agudo ,5*, conforme se pode depreender do exemplo da FIG. 3. 0 ângulo foi escolhido por forma a que o jacto (23) se distribua, imediatamente, pela superfície da banda metálica (40), de modo a formar o filme (20), sem que sejam neces- -17- \ ,/ Λ..Λ^ '· sárias projecções laterais ou de retorno. 0 arrefecimento é feito, em primeira mão, através do cilindro (26). A fim de submeter a um arrefecimento intensivo a superfície livre do material estratificado (10), previu-se no exemplo da FIQ. 3 a disposição de tubeiras (27) que projec-tam jactos frios (28) de gás ou de líquido sobre a camada (20). Do cilindro (26) é retirado o material estratificado por meio de uma banda de recepção (29). A velocidade de arrefecimento da camada (20), no cilindro arrefecido (26), tendo tem conta a actuação dos jactos frios (28) varia entre mais 0 de 10 K/s e 10 K/s. Consequentemente, obtém-se uma verdadeira liga que constitui o filme (20), num estado quase amorfo, especialmente, quando se lhe adiciona inibidores de cristalização. Se se tratar uma liga de dispersão com lacuna de mistura dos seus componentes, então obtém-se um filme (20), em que os componentes da liga de dispersão que formam a matriz se encontram num estado quase amorfo, enquanto que os componentes se dispersam nela (fase minoritária) de uma forma fina e globular.

Segundo o processo de trabalho, conforme a FI6. 4, a massa fundida de uma liga de dispersão â metida num cadinho (21), ficando submetida à pressão de um gás, conforme se pode depreender da seta (24). 0 cadinho (21) permite que a massa fundida ou a mistura de massas fundidas passe pela sua extremidade inferior (22), formando-se um jacto (23) de material que vai incidir sobre a fenda (30) formada entre a banda metálica (40), transportada por um cilindro (31), e o cilindro oposto (32). Ambos os cilindros (31) e (32) encontrara-se submetidos a arrefecimento forçado -18- intensivo. A largura da fenda (30) é regulada era função da espessura da camada (20) a ser produzida. Conforme se ilustra na FIO. 4, forma-se a montante da fenda (30) uma pequena acumulação de massa fundida ou de mistura de massas fundidas, sem que neste local $e observe um atraso significativo na passagem da massa fundida ou da mistura de massas fundidas da saída (22) do cadinho (21) para a fenda (30). Ambos os cilindros (31) e (32) não exercem qualquer pressão significativa sobre o material estratificado a ser produzido, contribuindo, somente, para um certo alisamento da superfície da camada (20). Por outro lado, a pequena acumulação de material junto da fenda (30) contribui para uma distribuição da massa fundida ou da mistura de massas fundidas, segundo a direcção axial dos cilindros (31) e (32), pelo que é possível produzir bandas mais largas do que as mencionadas no exemplo da FI6. 3. A fim de facilitar esta distribuição axial da massa fundida ou da mistura de massas fundidas ao longo da fenda (30), o cadinho (21) orienta-se segundo um ângulo Θ a fim de poder, desta forma, orientar o jacto do material, que se encontra sob pressão no cadinho (21), directamente para a fenda (30). A superfície do cilindro (32) possui uma superfície tal, que não permite, praticamente, qualquer ligação com a liga fundida ou com um componente da liga de dispersão a ser formada. A fim de manter o filme (20), formado na fenda (30), sobre a superfície da banda metálica (40), o cilindro superior (32) encontra-se equipado com um separador (33). A fim de se poder arrefecer a superfície livre do filme (20), que se forma à saída da fenda (30), dispOe-se, primeiramente, de uma tubeira de arrefecimento (34), a qual orienta um jacto de gás ou de líquido frios para a saída da -19-

fenda (30). A banda metálica (40) continua a ser arrefecida pelo cilindro (31), a fim de se prosseguir com o arrefecimento do filme (20), através da banda metálica (40), ou a fim de se evitar um aquecimento posterior do filme (20), a partir da banda metálica (40). 0 cilindro de arrefecimento (31) opõe-se a um outro cilindro de arrefecimento (35), os quais se encontram intensamente arrefecidos, a fim de continuarem o processo de arrefecimento do lado do filme (20), que foi prévia e bruscamente arrefecido pelo cilindro (32) e pelo jacto de arrefecimento projectado pela tubeira (34). A seguir ao cilindro de arrefecimento (35), está ainda prevista a disposição de um quarto cilindro de arrefecimento (36), o qual recebe o cilindro (31) a banda metálica com o filme (20). A fim de obrigar o filme (20) a assentar bem sobre a superfície do quarto cilindro de arrefecimento (36), dispõe-se ainda de um outro cilindro (38), também arrefecido. A banda de material estratificado (10) é retirada do quarto cilindro de arrefecimento (36) por intermédio do separador (39). Conforme se pode ver pela FIG. 4, estão ordenadas uma segunda tubeira de arrefecimento (34'), entre os cilindros de arrefecimento (35) e (36) e uma terceira tubeira de arrefecimento (34M), entre os cilindros (31) e (38). A diferença existente, entre o processo da FIG. 3 e o da FIG. 4, reside no facto de que no último se reforça o processo de arrefecimento, pelo que o filme (20), que se vai transformar na camada de deslizamento (13), vai ficar sujeito a taxas de arrefeci- 3 6 mento compreendidas entre 10 K/s e 10 K/s. Esta circunstância permite -20-

a produção de camadas (20) com espessuras maiores, por exemplo, com uma espessura de 0,5 mm, as quais são susceptíveis de serem arrefecidas bruscamente com uma intensidade tal que o estado amorfo dos materiais metálicos gele durante o processo da arrefecimento. Por fim, o processo conforme a FIG. 4 oferece, também, a possibilidade de produzir bandas mais largas, especialmente quando se dispõem vários cadinhos (21), uns junto dos outros, ao longo da fenda (30). A banda de materiais estratificados (10), produzida segundo os processos respeitantes às FIG. 3 ou 4, será depois enrolada numa dobadoura que não está representada na Figura.

Caso se pretenda produzir um material estratificado (10), com uma camada intermédia (12) ou (16), introduz-se num dos dispositivos representados nas FIG. 3 ou 4, uma banda metálica laminada (40), o qual já se encontra provido com o metal da camada intermédia, do lado em que se vai depositar a liga.

Nos exemplos das FIG. 5 e 6, a banda metálica (40) a receber o material a ser vazado move-se, continuamente, com uma velocidade v, na direcção de transporte (44), assinalada por uma seta, por intermédio de uma calha de guia e de transporte (45), que poderá ser sujeita a um arrefecimento forçado, se for caso disso.

Na parte superior da calha de guia e de transporte (45), encontra-se disposto um dispositivo (46). Este dispositivo (46) encontra-se disposto por forma a que entre a sua superfície inferior, que se orienta paralelamente à calha de transporte e de guia (45), e a superfície superior da banda metálica (40), que se apoia na calha de guia e de transporte (45), exista uma distância d, predeterminada, que permita que a massa da liga fundida não transborde, como consequência da tensão superficial existente na fenda assim formada, conforme se pode depreender da parte esquerda da FIG. 5. No lado em que a banda metálica (40) se desloca na parte exterior do dispositivo de vazamento (46), forma-se um filme (20), como consequência da aderência entre a massa fundida da liga e a superfície da banda metálica (40), cuja espessura ^ é inferior à distância d, compreendida entre a superfície inferior do dispositivo de vazamento (46) e a superfície da banda metálica (40), o qual, no entanto, é susceptível de ser calculado e reproduzido, como consequência desta distância d, da velocidade de transporte v da banda metálica (40), de uma eventual pressão que se exerça sobre a massa fundida e da corrente volumétrica V da massa fundida decorrente, bem como das diraensSes \y 1g do dispositivo de vazamento (46). 0 filme que se forma, quando a banda metálica (40) abandona o dispositivo de vazamento (46), sofre um arrefecimento muito brusco, por parte da banda metálica (40) e por parte das unidades de arrefecimento, eventualmente existentes, que actuam sobre a superfície livre do filme (20), por exemplo, jactos de gís ou de líquido, por exemplo, com uma veloci- P Λ dade de arrefecimento da ordem dos 10 a 10 K/s.

Conforme se encontra ilustrado na FIG. 6, um mecanismo de vazamento, -22- equipado com um dispositivo de vazamento (46), adequa-se, muito vantajosamente, ã formação faseada da camada de deslizamento, constituída por dois ou mais filmes (20) ou (20a) vazados, sequencialmente, sobre o substrato. Esta estrutura da camada de deslizamento, conseguida em duas ou mais fases, oferece a vantagem dos filmes de liga muito finos (20) serem susceptíveis de um arrefecimento muito rápido, pelo que se podem q 5 atingir velocidades de arrefecimento da ordem de 10 a 10 K/s. Entre os dispositivos de vazamento (46), dispostos de uma forma sequencial, e a montante do último dispositivo de vazamento (46), podem ser dispostas unidades de arrefecimento dirigidas sobre a superfície livre do filme (20), acabado de formar, por exemplo, tubeiras (27), que se destinam à formação de jactos de arrefecimento (28). Nos exemplos das FIG. 5 e 6, o dispositivo de vazamento (45) desloca-se transversalmente à calha de guia e de transporte (45), geralmente sgundo uma direcção perpendicular à direcção de transporte (44). Também, é possível dispor o dispositivo de vazamento ou os dispositivos de vazamento, transversalmente à calha de guia e de transporte (45).

No exemplo da FIG, 6, previu-se a formação do filme (20) a partir da mesma liga e com as mesmas espessuras (51) e (52) sobre a banda metálica (40) ou sobre o substrato. Porém é de esperar uma certa diferença estrutural nas camadas parciais da camada de deslizamento constituída pelos filmes (20) e (20b), porque a camada parcial inferior, quando do vazamento do segundo filme (20b), será de novo aquecida, pelo menos em parte. -23- /1

0 dispositivo nas formas das FIG. 5 e 6 oferece possibilidades de regulação muito favoráveis. Assim, por exemplo, a espessura definida para o filme do líquido pode ser estabelecida através da regulação da velocidade de transporte do substrato metálico rígido. A velocidade de arrefecimento da camada vazada também pode ser regulada por intermédio da velocidade de transporte do substrato metálico rígido. 0 estabelecimento da espessura definida do filme líquido também pode depender da alteração da geometria do local de vazamento da liga, designadamente, ou através da variação da distância d, compreendida entre a face inferior do dispositivo de vazamento (46) e a superfície da banda metálica (40), ou através da variação das dimensões do dispositivo. Através da regulação desta distância d, compreendida entre a face inferior do dispositivo de vazamento (46) e a superfície da banda metálica (40), também se pode regular a velocidade de arrefecimento da camada vazada ou do filme vazado (20).

Na FIG. 7 está representada uma forma de execução do dispositivo, segundo a qual a camada de deslizamento, representada pela película (47) é produzida, independentemente do substrato ou da banda metálica (40), a qual, após o seu arrefecimento e solidificação, se une à banda metálica (40), por intermédio de raios laser (48). No caso deste dispositivo, a liga ou a liga de dispersão são introduzidas num cadinho (21), no estado de fusão, o qual apresenta uma saída (22) na sua extremidade inferior, através do qual é projectado um jacto de massa fundida (47'). Este jacto de massa fundida (471) incide, directamente, sobre a superfície de um cilindro (26) muito frio e forma aí uma película (47), a qual sofre um arrefecimento brusco por parte do cilindro (26), passando sob uma dispo- -24-

sição de tubeiras (27), as quais projectam jactos (28) de gás ou líquido frios sobre a superfície livre da película (47). A espessura da película (47) é susceptível de ser determinada pela velocidade angular do cilindro (26) e através da pressão do gás inerte que se encontra aplicado no interior do cadinho (21), o que se encontra ilustrado por intermédio da seta (24). 0 vazamento da liga de dispersão ou da liga sobre a superfície do cilindro (26) é feito segundo um ângulo que é escolhido por forma a que não se formem quaisquer salpicos, quando do vazamento sobre a superfície do cilindro (26). A superfície do cilindro (26) possui uma configuração tal, que não é possível qualquer união entre a liga vazada e a superfície do cilindro, só se verificando uma transferência intensiva de calor. A velocidade de arrefecimento da película (47) sobre o cilindro com arrefecimento forçado (26) e a actuação dos jactos de arrefecimento (28) dão origem a taxas de arrefecimento compreendidas entre cerca de 10 K/s e cerca de 10 a 10 K/s. Consequentemente, obtém-se uma liga verdadeira que dá origem à película (47), que se mantém, essencialmente, no estado amorfo. Se se transformar, da forma referida, uma liga de dispersão com lacuna de mistura dos seus componentes, numa película (47), então formar--se-á nesta película (47) uma matriz num estado essencialmente amorfo, enquanto que nesta matriz se encontram dispersos e globularmente distribuídos componentes excepcionalmente finos. A película (47) assim formada passa a um cilindro (32). Do cilindro (32) é retirada a película (47) por meio de um separador de banda (33). Frontalmente a este cilindro (32) disp8e-se um cilindro (31), também fortemente arrefecido, em que se -25- forma uma fenda (30), ao qual se dirigem a película (47) e um substrato em forma de banda que se enrola no cilindro (31), por exemplo, uma banda metálica (40), Dispõe-se, ainda, de um feixe de raios laser (48) que incidem sobre a fenda de entrada, segundo um ângulo oL , o qual provoca um leve aquecimento nas superfícies da película (47) e da banda metálica (40), que confluem. Basta uma leve pressão, sem redução significativa das espessuras, para que a película (47) e a banda metálica (40) se soldem uma à outra através das suas faces aquecidas. As bandas assim unidas continuam a ser arrefecidas pelo cilindro (31) e um outro cilindro (35) que se lhe opõe, também arrefecido, para depois passarem a um quarto cilindro de arrefecimento (36). Existe, ainda, um outro cilindro (38) que se encontra disposto em oposição ao cilindro de arrefecimento (36) . A banda de material estratificado (10) é então destacada do cilindro de arrefecimento (36) por intermédio de um separador (39). A diferença existente entre o processo das FIG. 3 e 4 e o processo das FIG. 5 e 6 reside no aquecimento das superfícies a serem soldadas em conjunto. Isto dá ensejo à instalação de certas alterações estruturais nas zonas das superfícies soldadas, conforme se ilustra na FIG. 8. Nesta figura está representada a textura do material estratificado (10), o qual corresponde, na sua essência, ao da FIG. 1, isto é, um material estratificado com um material de suporte (11) em aço, camada intermédia (12) em AlZnSSiCuPbMg e a camada de deslizamento (13), constituída por uma liga de dispersão AlPb8Si4SnCu. A diferença entre o material estratificado da FIG. 1 e o material estratificado da FIG. 8 reside no facto de que no caso do material estratificado da FIG. 8 se observa uma estrutura um pouco mais grosseira na camada intermédia (12) e na superfície de união

V -26-

(49) com a camada de deslizamento (13). Na camada de deslizamento (13), na zona da superfície de união soldada (49) com a camada intermédia (12), formam-se partículas de chumbo de dimensões um pouco maiores, como consequência do calor necessário à soldadura. Esta estrutura mais grosseira e a formação de partículas de chumbo de dimensões um pouco maiores (14) podem, no entanto, aceitar-se perfeitamente, dado que a produção da camada de deslizamento (12), sob a forma de película, permite um arrefecimento muito mais rápido do que o da camada de deslizamento (13), pelo que na camada de deslizamento (12), propriamente dita, a matriz de alumínio apresenta propriedades amorfas mais vincadas do que no exemplo da FIG. 1, diferença essa que nem sequer é visível na ampliação da FIG. 8. -27- -27-

LISTA DE REFERENCIAS

Material estratificado

Material de suporte

Camada intermédia AlZn5SiCuPbMg

Camada de deslizamento, camada funcional

Partículas de chumbo

Partículas de chumbo

Camada intermédia CuPb22Sn

Partículas de chumbo

Filme

Filme

Filme

Cadinho

Saída

Jacto

Seta

Bobine de indução Cilindro

Disposição de tubeiras Raios

Banda de recepção

Fenda

Cilindro

Cilindro

Separador -28- 34 Tubeira de arrefecimento 34* Segunda tubeira de arrefecimento 34" Terceira tubeira de arrefecimento 35 Terceiro cilindro de arrefecimento 36 Quarto cilindro de arrefecimento 38 Cilindro 39 Separador 40 Banda metálica 41 Dispositivo de limpeza e de desoxidação de superfícies 42 Campânula de gás de protecção 43 Dispositivo de têmpera 44 Direcção de transporte 45 Calha de guia e de transporte 46 Dispositivo de vazamento 47 Película 47' Jacto de massa fundida 48 Feixe de raios laser 49 Superfície de união 51 Espessura 52 Espessura

Claims (9)

1. 9" -29- REIVINDICAÇÕES 1®.- Processo para a produção de ura material estratificado para elementos de deslizamento, com camada de deslizamento aplicada a uma camada de suporte, constituída, pelo menos, por uma liga na forma de um sistema metalúrgico de dois ou mais componentes Gom lacuna de mistura (mono-téctico), o qual écaracterizado por a camada de deslizamento ser vazada, continuamente, a partir da liga e, logo apôs terminado o processo de vazamento, ser submetida a um processo de arrefecimento contínuo, destinado a obviar ao crescimento de partículas dos componentes metalúrgicos não miscíveis com dimensões superiores a 0,01 a 1 jum, de preferência < 1 jum, para que seja submetida a uma velocidade de solidificação suficientemente elevada. 2®.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo a reivindicação 1, caracterizado por a liga ou ligas ser ou serem produzidas por via de fusão metalúrgica e, durante este processo, bem como durante o período em que aguarda o vazamento, ficar ou ficarem submetidas a uma temperatura superior â do sistema e à de desagregação. 3a.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicações 1 ou 2, caratíteri-zado por à liga a ser vazada ou às ligas a serem vazadas se adicionarem os núcleos germinadores, P, B, Ti, Si, boretos, nitritos e óxidos, conforme o tipo de liga, em percentagens em peso entre 0,1 e -30 "“5 Va*»*-*—- 3,5¾. 4®.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicações 1 a 3, caracteri-zado por a formação da espessura definida para o filme líquido depender do doseamento do caudal da liga que sai do cadinho. 5®.~ Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicações 1 a 4, caracteri-zado por a velocidade de arrefecimento da camada da liga vazada ser regulada pelo caudal da liga que sai do cadinho. 6®.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicações 1 a 5, caracteri-z a d o por a formação da espessura definida se processar por intermédio da regulação da velocidade de descarga da camada vazada, a partir do local de vazamento. 7®.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicações 1 a 6, caracteri-zado por se vazarem as seguintes ligas com lacunas de mistura: AI Pb, FePb, CuPb, Mn Pb e Ni Pb, em que o teor em chumbo ê maior do que o da composição, euteticamente, condicionada pelo sistema, e que importa até 40 partes percentuais de massa. 8®.- Processo para a produção de ura material estratificado para elementos -31- -31- /* / ( ν.. de deslizamento, segundo as reivindicações 1 a 7, caracteri -zado por a superfície de escorregamento ser vazada em forma de banda, independentemente da camada de suporte e, apôs arrefecimento, ser aplicada, de forma contínua, por processos de junção, por exemplo, através de raios laser. 9S.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicações 1 a 7, caracteri-zado por a liga ou as ligas a ser ou a serem vazadas o são na forma de um sistema metalúrgico de dois ou mais componentes sobre um substrato metálico, rígido, de preferência em forma de banda, que desempenha as funções de camada de suporte, vazão essa que se processa em regime contínuo, formando um filme líquido numa ou em várias fases, o qual, em seguida, é imediatamente arrefecido, em conjunto com o substrato e ligando-se ao substrato, com uma velocidade de solidificação bastante elevada. 10®.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo a reivindicação 9, caracterizado por a espessura definida do filme líquido ser regulada pela velocidade de transporte do substrato rígido, metálico. 11®»*· Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo a reivindicação 10, caracterizado por a velocidade de arrefecimento da camada vazada ser regulada \ pela velocidade de transporte do substrato rígido, metálico. -32-

   12s.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo a reivindicação 10, caracterizado por a formação da espessura definida, do filme líquido depender da geometria da boca de vazamento da liga.
2. 135.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo a reivindicação 10, caracterizado por a formação da espessura definida para o filme líquido depender da distância entre a boca de vazamento e a superfície do substrato metálico, rígido. 14e.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo a reivindicação 10, caracterizado por a velocidade de arrefecimento da camada vazada depender da distância entre a boca de vazamento da liga e a superfície do substrato. 15e.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicaçdes 10 a 14, caracterizado por se formar uma camada completa constituída por várias subcamadas, como consequência de vazamentos repetidos e sequenciais e arrefecimentos intermediários da banda de substrato. 16».- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo a reivindicação 15, caracterizado por a camada completa ser constituída por várias subcamadas de 33-

   espessuras diferentes. 17s.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicações 15 e 16, caracteri-zado por as camadas individuais serem vazadas a partir de ligas de composição diferente.
3. 182,- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicações 15 a 17, caracter i -zado por as várias subcamadas possuírem texturas diferentes como consequência da variação da composição das ligas e/ou das condições de arrefecimento. 19e.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicações 10 a 18, caracteri-zado por o substrato, antes do vazamento, ser levado a uma temperatura correspondente aos parâmetros de arrefecimento e à formação de aderência. 20fi.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo as reivindicações 10 a 19, caraeteri-z a d o por a banda de substrato de suporte ser constituída por uma banda sobre a qual, antes do processo de vazamento, é aplicada uma camada de deslizamento com propriedades deslizantes. -34-
4. 219.- Processo para a produção de um material estratificado para elementos de deslizamento, segundo a reivindicação 20, caracterizado por a camada intermédia ser constituída pelas ligas seguintes: - Liga de cobre-chumbo, por exemplo, Pb 9 a 25¾, Sn 1 a 11%, Fe, Ni, Mn menor/igual a 0,7%, resto Cu; - Liga de alumínio-cobre, por exemplo, AI 5 até 8%, resto Cu; - Liga de alumínio-cobre, por exemplo, Cu 0,5 a 1,5%, Sn 5 a 23%, Ni 0,5 a 1,5%, resto Al; - Liga de níquel-alumínio, por exemplo, Ni 1 a 5%, Mn 0,5 a 2%, Cu menor/igual a 1%, resto Al; - Liga de zinco-alumínio, por exemplo, Zn 4 a 6%, Si 0,5 a 3%, Cu até 2%, Mg até 1%, resto Al.
5. 229.- Dispositivo para a realização do processo, segundo a reivindicação 1, com um cadinho para fusão e/ou para a manutenção das condiçSes de vazamento de uma liga na forma de um sistema metalúrgico de dois ou mais sistemas, com lacuna de mistura, dispondo de um dispositivo de vazamento ligado ao cadinho, para vazamento de uma liga em banda, de um dispositivo de suporte da banda vazada e para o seu deslocamento para o exterior do local de vazamento, bem como dispositivos de arrefecimento para a banda vazada, que abandona o local de vazamento, caracterizado por o dispositivo de vazamento (saída (22), dispositivo de vazamento (46)) ter sido concebido para a formação de uma banda em forma de filme ou de uma banda em forma de película fina (20, 47), livre ou aposta sobre um substrato (banda metálica (40)) e o dispositivo de arrefecimento conter uma -35- superfície de recepção, com arrefecimento forçado (cilindro (26)), para a película a ser vazada (47) ou uma superfície de apoio com arrefecimento forçado (cilindro (26), cilindro (31), banda de guia e de transporte (45)) para o substrato que vai receber o produto a ser vazado (banda metálica (40)), bem como unidades de arrefecimento, de alto rendimento, dirigidas ao filme vazado (20) (disposição de tubeiras (27)) e cilindros de arrefecimento (32, 35, 36).
6. 238.- Dispositivo para a realização do processo, segundo a reivindicação 22, caracterizado por se encontrar disposto sob o dispositivo de vazamento um cilindro arrefecido (26, 31) que se destina a receber a película vazada (47) ou o suporte do substrato sobre o qual se vai vazar o produto (banda metálica (40)) e por o mesmo possuir accionamento de velocidade regulável para o transporte da película (47) e do filme (20), a partir do local do vazamento,
7. 248.- Dispositivo para a realização do processo, segundo as reivindicações 22 ou 23, caracterizado por estar prevista a disposição de tubeiras (27), destinadas ao agente de arrefecimento, na zona da superfície de recepção da película (47) ou da superfície de suporte do substrato (banda metálica (40)), no sentido do transporte (44), a montante do local de vazamento.
8. 258,- Dispositivo para a realização do processo, segundo uma das reivindicações 22 a 24, caracterizado por se encontrar disposto, a montante do local de vazamento, no sentido do transporte (44), um -36- Ls-J.. cilindro de arrefecimento (32), aplicado à superfície livre da película (47) ou do filme (20), ao qual se opõe a superfície de enrolamento (cilindro (26)) ou a superfície de recepção (cilindro (26), cilindro (31), banda de guia e de transporte (45)). 26®.- Dispositivo para a realização do processo, segundo as reivindicações 24 ou 25, caracterizado por se prever a disposição de uma série de cilindros, com arrefecimento forçado (31, 32, 35, 36), a montante do local de vazamento, destinados â passagem da película (47) ou do substrato a que vai ser aplicado o produto (banda metálica (40)), podendo, ainda, ser dispostas entre os cilindros de arrefecimento (32, 35, 36), no sentido do transporte (44), tubeiras de arrefecimento (34, 34'), dirigidas â película (47) ou ao substrato. 27®.- Dispositivo para a realização do processo, segundo a reivindicação 22, caracter i zado por se encontrar disposta na parte inferior do dispositivo de vazamento, uma calha de transporte (45) para receber a película vazada (47) ou para suporte do substrato sobre o qual vai ser vazado o produto (banda metálica (40)), a qual é accionada com uma velocidade de transporte (v) da película (47) ou do filme (20), de preferência regulável, enquanto que o dispositivo de vazamento dispõe de um dispositivo de vazamento-escoamento (46) que se desloca por toda a largura da calha de guia e de transporte (45) ou do substrato que nela se apoia (banda metálica (40)), a uma velocidade determinada (v), de preferência regulável e a uma distân- -37- cia (d) da superfície.
9. 288.- Dispositivo para a realização do processo, segundo a reivindicação 27, caracterizado por se poderem dispor vários dispositivos de vazamento (46), no sentido do movimento (44) da calha de guia e de transporte (45), a distâncias predeterminadas. 29S.- Dispositivo para a realização do processo, segundo a reivindicação 28» caracterizado por se disporem unidades de arrefecimento, por exemplo, tubeiras (27), entre dois dispositivos de vazamento consecutivos (46), no sentido do transporte, e a montante do õltimo dispositivo (46), na superfície livre da película vazada (47) ou do filme (20). 30S.- Dispositivo para a realização do processo, segundo a reivindicação 22, caracterizado por o dispositivo de vazamento estar concebido para a formação de uma película fina (47), a partir da liga e, no sentido de transporte da película (47), a montante do local de vazamento e do primeiro dispositivo de arrefecimento (tubeiras (27)), se dispor um dispositivo de aderência, especialmente um dispositivo a raios laser (feixe de raios laser (48)), que se destina à união contínua da película de liga arrefecida (47), por meio de um primeiro cilindro com arrefecimento forçado (32), com a banda de substrato, que passa por um segundo cilindro, com arrefecimento forçado (31) e por sobre a união (30) entre ambos os cilindros (31, 32) se dirigir um feixe de raios laser (48). -38 4

   31a.- Dispositivo para a realização do processo, segundo as reivindicações 22 a 30, caracterizado por a alimentação da zona de vazamento com a liga em fusão e o seu doseamento quantitativo se processar por intermédio da pressão de um gás de protecção que actua sobre a superfície da liga fundida que se encontra no cadinho (21), a qual é susceptível de regulação (seta (24)). 32a.- Dispositivo para a realização do processo, segundo as reivindicações 22a31,caracterizado por o local de vazamento se encontrar provido com um dispositivo de gás de protecção na zona do vazamento (cobertura de protecção (42)). 33a.- Dispositivo para a realização do processo, segundo as reivindicações 22 a 31, caracterizado por as zonas do dispositivo em que se processa o vazamento e o arrefecimento da película (47) de liga ou do filme respectivo (20) estarem providas de dispositivos condutores de gás de protecção e de uma cobertura (42). LISBOA, 16 de NOVEMBRO de 1989