PL99018B1 - Komora reakcyjna do wydzielania na ogrzewanych pretach osadowych materialu polprzewodnikowego - Google Patents

Komora reakcyjna do wydzielania na ogrzewanych pretach osadowych materialu polprzewodnikowego Download PDF

Info

Publication number
PL99018B1
PL99018B1 PL18182675A PL18182675A PL99018B1 PL 99018 B1 PL99018 B1 PL 99018B1 PL 18182675 A PL18182675 A PL 18182675A PL 18182675 A PL18182675 A PL 18182675A PL 99018 B1 PL99018 B1 PL 99018B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
reaction chamber
base
chamber
electrode
silver
Prior art date
Application number
PL18182675A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE2432383A external-priority patent/DE2432383C2/de
Application filed filed Critical
Publication of PL99018B1 publication Critical patent/PL99018B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/027Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
    • C01B33/035Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds in the presence of heated filaments of silicon, carbon or a refractory metal, e.g. tantalum or tungsten, or in the presence of heated silicon rods on which the formed silicon is deposited, a silicon rod being obtained, e.g. Siemens process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest komora reakcyjna do wydzielania na ogrzewanych pretach materialu pólprzewodnikowego, zwlaszcza krzemu, z gazu re¬ akcyjnego przeplywajacego przez komore.Znana komora zawiera metalowa podstawe w 5 ksztalcie plyty zawierajaca dysze doprowadzajace i odprowadzajace gaz oraz elektrody sluzace do zamocowania pretów osadowych wykonanych z przewodzacego lub pólprzewodzacego materialu i jednoczesnie sluzace do elektrycznego ogrzewania. 10 Na metalowej podstawie osadzony jest szczelnie kwarcowy lub szklany klosz, który wraz z podsta¬ wa odgranicza wnetrze komory. Przez podstawe przeprowadzone sa odizolowane od siebie elektro¬ dy, które wraz z reszta czesci metalowych podstawy 15 na powierzchni graniczacej z wnetrzem komory re¬ akcyjnej pokryte sa srebrem. Warstwa srebra po¬ zbawiona rzadzizn i jam skurczowych przez zasto¬ sowanie procesu walcowania i kucia jest nanoszona na plyte stalowa w stanie roztopionym. Plyta stalo- 20 wa jest odpowiednio przewiercona dla wprowadze¬ nia uszczelnionych przy pomocy policzterofluoro- etylenu elektrod i dysz gazowych. Warstwe srebra stanowi wysokogatunkowe srebro (srebro czyste).Znana jest z niemieckiego opisu zgloszeniowego *5 P 23 58 053.2 komora reakcyjna do wydzielania na ogrzewanych pretach materialu pólprzewodnikowe¬ go, zwlaszcza krzemu z odpowiedniego gazu reak¬ cyjnego przeplywajacego przez komore, zawierajaca srebrna podstawe w ksztalcie plyty, dysze dopro- 8° wadzajace i odprowadzajace gaz reakcyjny jak równiez zamocowanie dla pretów osadowych oraz klosz kwarcowy osadzony szczelnie na podstawie.Komora ta zawiera podstawe zlozona z dwóch centrycznie w stosunku do siebie ustawionych srebr¬ nych czesci, polaczonych za pomoca uszczelnienia w sklad którego wchodzi policzterofluoroetylen.Jedna z czesci zawiera zamocowania do pretów nos¬ nych, a druga dysze doprowadzajaca i odprowadza¬ jaca gaz reakcyjny. Czesc srodkowa plyty glównej stanowi wspornik dla dysz doprowadzajacej i od¬ prowadzajacej gaz reakcyjny, czesc zewnetrzna na¬ tomiast stanowi zamocowanie uchwytów, które slu¬ za jednoczesnie jako elektrody do elektrycznego ogrzewania pretów. Elektrody sa od siebie odizolo¬ wane, dopasowane i szczelnie przeprowadzone przez wspierajaca czesc plyty metalowej. Poszczególne elektrody moga byc z czystego srebra i zawierac wstawke z wysokogatunkowego grafitu.Celem wynalazku jest opracowanie konstrukcji komory, posiadajacej bardzo szczelne zamkniecie oraz pozwalajacej na zmniejszenie zanieczyszczen uwarunkowanych temperatura wydzielania krzemu lub innych materialów pólprzewodnikowych.Cel wynalazku zostal osiagniety przez to, ze co najmniej jedna czesc elektrod wykonana jest z czy¬ stego srebra i jedna czesc z innego lecz elektrycz¬ nie dobrze przewodzacego metalu, przy czym z ko¬ mora reakcyjna graniczy tylko czesc elektrody, wykonana z czystego srebra. / 99 0183 99 018 4 Dolna czesc elektrody wykonuje sie z miedzi, do¬ brze przewodzacego stopu miedzi lub. srebra o mniejszym stopniu oczyszczania. Material uszczel¬ niajacy wykonany jest przewaznie z policzteroflu- proetylenu (teflonu), który wyróznia sie korzystny¬ mi wlasnosciami mechanicznymi, elektrycznymi i termicznymi. Obie czesci skladowe poszczególnych elektrod moga byc laczone lutowiem srebrnym lub tylko przez wzajemny docisk z zachowaniem dobre¬ go styku elektrycznego. Urzadzenie jest uksztalto- wane tak, ze poszczególne elektrody, — a co naj¬ mniej czesc wykonana z czystego srebra, moze byc latwo wymieniona.Trzon stanowiacy elektrode ma cylindryczny ka- l pal przeplywowy dla chlodziwa, zwlaszcza dla wo- j dy 'chtóazacej.{ Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przy¬ kladzie wykonania na rysunku, który przedstawia czesc metalowej plyty podstawowej usytuowanej wokól elektrody, a która powinna byc uzupelniona zgodnie z niemieckimi opisami zgloszeniowymi P 73 58 279.8 i P 23 58 053.2 pretami lub rurami nos¬ nymi znajdujacymi sie w komorze reakcyjnej.Przedstawiony na rysunku fragment komory re¬ akcyjnej wedlug wynalazku, przedstawia jedynie otoczenie pojedynczej elektrody. W podobny sposób nalezy wykonac druga elektrode, aby mozliwe bylo zamocowanie dwóch jednakowych pretów, których przeciwne konce lacza sie mostkowo za pomoca materialu przewodzacego.Plyta podstawowa komory wykonana jest z bla¬ chy walcowanej, na która nalozono gruba warstwe zageszczonego czystego srebra. Trzon 1 plyty pod¬ stawowej stanowi tarcze w ksztalcie kola, wyposa¬ zona w otwory dla elektrod lub plaska plyte piers¬ cieniowa. Trzon 1 plyty podstawowej jest pokryty gruba warstwa srebra 2 od strony zwróconej do wnetrza komory oraz w zaglebieniach.Elektroda sklada sie z czesci górnej 3 ze stoz¬ kowa koncówka S wykonanej z zageszczonego sreb¬ ra oraz z czesci dolnej 4 wykonanej z miedzi. Obie czesci maja wewnatrz wykonany otwór i w czasie pracy wypelnione sa przeplywajacym chlodziwem . Dolna czesc 4 elektrody posiada u góry kolnierz 6 z plaska powierzchnia stykowa, do której przy¬ lega kolnierz 7 górnej czesci 3 elektrody. Stozko¬ wa koncówka 8 sluzy do zamocowania lacznika 9 wykonanego z wysokogatunkowego grafitu. Lacznik ten ma zaglebienie do zamocowania dolnego kon¬ ca elementu 15 osadowego wykonanego z oczyszczo¬ nego krzemu w formie preta lub rurki.Górna 3 i dolna 4 czesc elektrody sa szczelnie po¬ laczone na swych kolnierzach 7 i 6 tak, ze cyr- kulujace wewnatrz chlodziwo na przyklad woda lub gaz chlodzacy dostarczany przez chlodziarke nie moze przeciekac. Obie Czesci 3 i 4 elektrody moga byc ze soba zlutowane. Przy dokladnym oszlifowa¬ niu obydwu kolnierzy 6 i 7 wystarcza ich docisnie¬ cie za pomoca pierscieniowej uszczelki z elektrycz¬ nego materialu uszczelniajacego (nie pokazanej na rysunku) tak, ze osiaga sie zadane szczelne zamk¬ niecie. W tym celu trzon 1 plyty podstawy zaopa¬ trzony jest w króciec rurowy 12, który wystaje ku dolowi i osadzony jest koncentrycznie w stosunku do obu osiowo usytuowanych czesci 3 i 4 elektro¬ dy. Króciec 12 ustala jednoczesnie polozenie elek¬ trody w metalowej plycie podstawowej za pomoca dystansowej tulei uszczelniajacej 18, Wykonanej z policzterofluoroetylenu. Króciec 12 posiada na zew- netrznej stronie gwint, na który nakrecona jest na¬ kretka 13. Dolna krawedz nakretki 13 obejmuje radialnie dolna czesc 4 elektrody i dociska ja za posrednictwem elastycznej uszczelki 14 do kolnie¬ rza 6 górnej czesci 3 elektrody. io Dolna czesc 4 elektrody wyposazona jest w zla¬ cze 15 do przewodu zasilajacego 17. Koniec prze¬ wodu 17 jest dopasowany do gniazda zlacza 15, któ¬ re jest docisniete elastycznie za pomoca nakretki 16 do obwodu przewodu 17 zasilajacego. Druga elektroda kontaktujaca o podobnym ksztalcie (nie pokazana na rysunku) równiez jest zamocowana w plycie podstawowej i podtrzymuje drugi element osadowy 10 w formie preta, który na-przeciwnym koncu jest mostkowo polaczony z pierwszym ele¬ mentem osadowym 10.W ten sposób obwód pradu zostaje zamkniety.Wynalazek moze podlegac róznym modyfikacjom.Mozna na przyklad zastosowac inne srodki do za¬ mocowania elektrod i ich czesci, nie zmieniajac przez to istoty wynalazku. Nakretka 13 moze miec ksztalt plytki i moze byc dokrecana do plyty pod¬ stawowej za pomoca srub dociskowych. Równiez uszczelnienie moze byc inaczej rozwiazane. Doty¬ czy to takze polaczenia elektrody z kablem zasilaja¬ cym. PL

Claims (4)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Komora reakcyjna do wydzielania na ogrzewa¬ nych pretach osadowych materialu pólprzewodni¬ kowego, zwlaszcza krzemu, z gazu reakcyjnego przeplywajacego przez komore, zawierajaca me¬ talowa podstawe w ksztalcie plyty z zamocowana dysza doprowadzajaca i odprowadzajaca gaz reak¬ cyjny, elektrodami sluzacymi do zamocowania pre¬ tów osadowych wykonanych z przewodzacego lub pólprzewodzacego materialu i do elektrycznego ogrzewania, oraz osadzony szczelnie na metalowej podstawie klosz kwarcowy lub szklany, ogranicza¬ jacy wraz z podstawa wnetrze komory reakcyjnej* przy czym odizolowane od siebie elektrody przepro¬ wadzone sa szczelnie przez plyte podstawowa i wyko¬ nane sa wraz z reszta metalowych czesci sklado¬ wych podstawy na powierzchni graniczacej z wne¬ trzem komory reakcyjnej ze srebra, znamienna tym, ze poszczególne elektrody posiadaja górna czesc (3) z czystego srebra i dolna czesc (4) wykonana z in¬ nego elektrycznie dobrze przewodzacego metalu, przy czym z komora reakcyjna graniczy tylko czesc elektrody, wykonana z czystego srebra, a obie czes¬ ci (3, 4) elektrod posiadaja kanal przeplywowy dla plynnego lub gazowego chlodziwa.
  2. 2. Komora wedlug zasttz. 1, znamienna tym, ze obydwie czesci (3, 4) elektrody sa ze soba zlutowa¬ ne lub zespawane.
  3. 3. Komora *wedlug zastrz 1, znamienna tym, ze obydwie czesci (3, 4) elektrody sa docisniete do sie¬ bie za pomoca pierscieniowej uszczelki z elastycz¬ nego materialu. 25 30 35 40 45 50 55 6099 018 ^-10
  4. 4. -13 PL
PL18182675A 1974-07-05 1975-07-04 Komora reakcyjna do wydzielania na ogrzewanych pretach osadowych materialu polprzewodnikowego PL99018B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2432383A DE2432383C2 (de) 1973-11-22 1974-07-05 Reaktionsgefäß zum Abscheiden von Halbleitermaterial auf erhitzte Trägerkörper

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL99018B1 true PL99018B1 (pl) 1978-06-30

Family

ID=5919817

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL18182675A PL99018B1 (pl) 1974-07-05 1975-07-04 Komora reakcyjna do wydzielania na ogrzewanych pretach osadowych materialu polprzewodnikowego

Country Status (3)

Country Link
BE (1) BE826870A (pl)
IT (1) IT1039434B (pl)
PL (1) PL99018B1 (pl)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5338574B2 (ja) * 2008-09-09 2013-11-13 三菱マテリアル株式会社 多結晶シリコン製造装置

Also Published As

Publication number Publication date
BE826870A (fr) 1975-07-16
IT1039434B (it) 1979-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR890003654B1 (ko) 오존 발생장치
TWI360857B (en) Substrate support with clamping electrical connect
US4374014A (en) High pressure electrolytic oxygen generator
HU192347B (en) Discharge tube for high pressure metal vapour discharge lamps, as well as, method for making discharge tube
KR20240125001A (ko) 반도체 공정 디바이스 및 이의 공정 챔버
PL99018B1 (pl) Komora reakcyjna do wydzielania na ogrzewanych pretach osadowych materialu polprzewodnikowego
US5701050A (en) Immersion lamp for a photochemical reactor and its use
US3216916A (en) Anodic passivation of wetted wall vessels
US4471661A (en) Electronic-type vacuum gauges with replaceable elements
Slovetskii et al. The Mechanism of Plasma--Electrolytic Heating of Metals
US4132886A (en) Heating element
CN111012172B (zh) 一种金属丝作为电极的石墨烯玻璃烧水壶
US3230693A (en) Apparatus for mass separation of reactive gases
RU2792296C1 (ru) Электродный узел
RU10445U1 (ru) Нагреватель электродный
EP0281272A1 (en) High pressure electrode assemblies
US3320456A (en) Corrosion inhibiting fitting for fluidcooled electric-discharge lamps
SU1747815A1 (ru) Генератор абсорбционного холодильного агрегата
SU1247031A1 (ru) Пленочный выпарной аппарат
GB2233868A (en) Heating liquids
RU2032998C1 (ru) Устройство для электроплавки пробных количеств металлов и сплавов
SU432908A1 (ru) Аппарат для концентрирования суспензийи растворов
CN115410956A (zh) 一种除气预热腔用晶圆预热装置及其制造方法
SU1322044A2 (ru) Устройство дл ввода жидких материалов в вакуумную камеру сублимационной установки
FI63443B (fi) Elektrolyscell