PL96457B1 - Sposob wytwarzania nosnikow informacji lub pamieci z nieniszczacym odczytem typu operacyjnego lub stalego - Google Patents
Sposob wytwarzania nosnikow informacji lub pamieci z nieniszczacym odczytem typu operacyjnego lub stalego Download PDFInfo
- Publication number
- PL96457B1 PL96457B1 PL16846274A PL16846274A PL96457B1 PL 96457 B1 PL96457 B1 PL 96457B1 PL 16846274 A PL16846274 A PL 16846274A PL 16846274 A PL16846274 A PL 16846274A PL 96457 B1 PL96457 B1 PL 96457B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layers
- memory
- thickness
- cobalt
- operating
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 230000015654 memory Effects 0.000 title description 10
- 239000002436 steel type Substances 0.000 title 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 6
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical compound [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 claims description 2
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- FTLYMKDSHNWQKD-UHFFFAOYSA-N (2,4,5-trichlorophenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC(Cl)=C(Cl)C=C1Cl FTLYMKDSHNWQKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 ** a * eaaA * Alaza Chemical compound 0.000 description 1
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001313 Cobalt-iron alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017061 Fe Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000054822 Lycaena cupreus Species 0.000 description 1
- 235000006679 Mentha X verticillata Nutrition 0.000 description 1
- 235000002899 Mentha suaveolens Nutrition 0.000 description 1
- 235000001636 Mentha x rotundifolia Nutrition 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004141 Sodium laurylsulphate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 238000004182 chemical digestion Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 1
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229940085605 saccharin sodium Drugs 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000000638 stimulation Effects 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004148 unit process Methods 0.000 description 1
- 230000003936 working memory Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest ciagly sposób wy¬ twarzania nosników informacji dla pamieci z nie¬ niszczacym odczytem typu operacyjnego lub sta¬ lego.Pamieci typu operacyjnego, w których stosuje 5 sie zapis jednokrotny w przypadkowej komórce bitowej ze wzgledu na szybkosc dzialania i krótki czas przechowywania informacji wymagaja war¬ tosci natezenia pola koercji Hc=300—550 A/m oraz natezenia pola anizotropii Hk=400—700 A/m o 10 wartosciach bezwzglednych okreslonych konfigu¬ racja platów i warunkami pobudzania. Pamieci na¬ tomiast typu stalego ze wzgledu na dlugotrwale przechowywanie informacji bez koniecznosci re¬ generacji wymagaja zwiekszonych wartosci nate- 15 zenia pola koercji Hc=*400—700 A/m przy wartos¬ ciach natezenia pola anizotropii Hk=700—11000 A/m, przy czym wartosci te zaleza od konfiguracji pla¬ tów i warunków pobudzania.W obu typach pamieci wymagane jest, aby nos- 20 nik informacji posiadal bliski zeru wspólczynnik czulosci magnetostrykcyjnej, który powinien byc stabilny w czasie.Znany jest sposób wytwarzania warstw magne¬ tycznych na przewodniku metalicznym o przekro- 25 ju kolowym przez nalozenie nan najpierw posred¬ niej warstwy miedzianej, nastepnie wlasciwej war¬ stwy magnetycznej nikiel-zelazo lub nikiel-zelazo- -kobalt. W celu zapewnienia wyzszych wartosci na¬ tezenia pola leoercji i pola anizotropii przed nalo- 30 zeniem warstwy magnetycznej na powierzchnie* podloza naklada sie katodowo dodatkowa warstwe miedzi przy gestosciach pradu 0,1—10 A/dcm2 lub roztwarza sie anodowo warstwe miedzi przy ge¬ stosci pradu 5—15 A/dcm2 uzyskujac dzieki temu odpowiednio schropowacona powierzchnie podlo¬ za.Znany jest równiez sposób, w którym na podlo¬ ze naklada sie dwie warstwy magnetyczne nikiel- -zelazo o przeciwnych wspólczynnikach czulosci magnetostrykcyjnej, w celu podniesienia Hk i za¬ chowania sumarycznej zerowej czulosci magneto¬ strykcyjnej. Jednakze sposób pierwszy nie pozwa¬ la na precyzyjne sterowanie procesem dla uzyska¬ nia odpowiednio wysokich wartosci Hc i Hk oraz strumienia magnetyzacji bez jednoczesnego zwiek¬ szenia dyspersji anizotropii warstwy magnetycznej, drugi zas daje niepozadane duze gradienty skla¬ du. Z tego wiec powodu sposobami tymi nie moz¬ na uzyskac warstw, które spelnialyby typowy test najgorszego przypadku w równoczesnie wysokim sygnalem odpowiedzi i duza stabilnoscia w czasie, co jest konieczne dla nosników informacji w pa¬ mieciach stalych i operacyjnych.Jesli chodzi o regulacje czulosci magnetostryk¬ cyjnej to w znanych sposobach realizuje sie to przez zmiany gestosci pradu osadzania lub na dro¬ dze korekty skladu roztworu, co nie jest wygodne i nie zapewnia pelnej mozliwosci sterowania, a takze nie gwarantuje stalosci grubosci otrzyma- 96 45799 457 nych warstw a tym samym stalosci progu pelza¬ nia scian domenowych.Wad tych i niedogodnosci nie wykazuje sposób wedlug wynalazku, który polega na tym, ze na przewodnik metaliczny o przekroju kolowym na¬ nosi sie najpierw posrednia warstwe miedzi, która chropowaci sie w kontrolowanym procesie elektro¬ chemicznym lub chemicznym, a nastepnie wiecej niz dwie warstwy magnetyczne zelazowo-niklowo- -kobaltowe. Warstwy te stanowia stop o skladzie: zelazo 16—22tyo, nikiel 75—84°/o, kobalt 0,5—20«/o.Stop ten naklada sie elektrolitycznie z wodnego roztworu zawierajacego siarczan kobaltu, siarczan mfcltt, **a*eaaA*^alaza, chlorek zelazawy oraz do- dstn oirrfamcztid o) odpowiednio dobranym skla¬ dce procentowym, dperacje te prowadzi siej wie¬ lostopniowo^ sklada!sie ona z co najmniej trzech —i—g.Jfly ^jg^pjfe|kóyvch. przy czym maksymalna wynosi 30 A/dcmf.Procesy jednostkowe prowadzi sie zachowujac zasade, ze warstwy o jednakowej zawartosci ko¬ baltu posiadaja jednakowa grubosc. W obszarze nakladania warstwy magnetycznej przewodnik znajduje sie w polu magnetycznym poobwodowym, dzieki któremu uzyskuje sie poobwodowa orienta¬ cje warstw. Celem uzyskania kompensacji pól po¬ osiowych, które moglyby dac odchylenie kierunku namagnesowania od niezbednego dla pracy pamie¬ ci kierunku poobwodowego, stosuje sie cewki Hblmholtza umieszczone wokól przewodnika w ob¬ szarze nakladania warstwy magnetycznej. W dal¬ szej kolejnosci drut z osadzona warstwa magne- siarkowy o stezeniu 50 g/l oraz wyblyszczacz o nazwie handlowej UBAC Nr 1 o stezeniu 5 g/l. Z roztworu tego osadza sie elektrochemicznie war¬ stwy miedzi o sumarycznej grubosci 3 mikrome¬ trów. Dalej drut przechodzi przez pojemniki za¬ wierajace roztwór wodny CuS045HiO o stezeniu 250 g/l oraz kwas siarkowy o stezeniu 50 g/l. W roztworze tym powierzchnia miedzi jest trawiona anodowo przy gestosci pradu wynoszacej 5 A/dcm*.Na tak przygotowana powierzchnie nanosi sie w nastepnych operacjach warstwy magnetyczne. W tym celu podloze uzyskane w poprzednich opera* cjach przepuszcza sie przez pojemniki zawierajace roztwór o skladzie: NiSCJH^O H,B03 sacharyna laurylosiarczan sodowy kwas askorbinowy siarczan amonowo-zelazawy dwunastowodny CoS047H20 PH Z roztworu tego osadza sie trzy warstwy stopu nikiel-zelazo-kobalt ó identycznych skladach i ta- nikiel-zelazo-kobalt o indentycznych skladach i takich samych grubosciach wynoszacych okolo 2400 A°. Parametry magnetyczne uzyskiwanych warstw reguluje sie przez zmiane zawartosci ko¬ baltu w stopie Ni-Fe-Co. Wplyw zawartosci kobal¬ tu na parametry auasistatyczne warstw przedsta¬ wia ponizsza tabela: 250 1,5 0,5 2,0 6,0 0,7 2,5 g/l g/l g/l g/l g/l g/l g/l Lp. 1 2 3 4 Zaw. g/l CoS04 7HsO 0 0,916 1,44 •1,92 Przeplyw l/min. 1,5 1,5 1,5 1,* Temp.°C 62,5 51,0 50,4 49,8 Sklad warstwy P/t Ni 81,0 78,5 76,5 74,6 Fe 19,0 18,5 18,0 17,4 Co 0 3,0 ,5 8,0 A/m 260 460 550 800 A/m 350 620 750 1000 Dyspersja 3,4 3,6 3,3 4,1 tyczna poddaje sie stabilizacji w temperaturze 300—30O°C w poobwodowym polu magnetycznym o wartosci co najmniej 2500 A/m w atmosferze obojetnych lub redukujacych gazów.Dla zmniejszenia czulosci magnetostrykcyjnej w sposobie wedlug wynalazku stosuje sie zmiany predkosci przeplywu elektrolitu w zakresie 0,5—3 l/min. lub zmiany temperatury w zakresie 20— —60°C, co jest bardzo dogodne w praktycznej rea¬ lizacji, a ponadto nie wplywa na zmiany grubosci nakladanych^warstw.Przedmiot * wynalazku jest blizej objasniony na przykladach wykonania, które jednakze nieograni- czaja zakresu stosowania wynalazku.Przyklad I. Drut brazu berylowego o prze¬ kroju kolowym, srednicy 96 mikrometrów prze¬ mywa sie roztworem o skladzie: Na2HP0412H*0 — 20 g/l, Na^CO, — 20 g/l, NaOH — 20 g/l, glukonian sodu 15 g/l i aktywuje 10% wodnym roztworem kwasu siarkowego. Nastepnie przepuszcza sie go przez pojemniki zawierajace roztwór wodny CuS045H2Q o stezenju ?50 g/l, kwas 39 40 55 60 P5 Warstwy o charakterystyce przedstawionej w wierszu 2 tabeli spelniaja wymagania stawiane nosnikom informacji dla pamieci typu operacyjne¬ go, zas w wierszu 3 spelniaja wymagania stawia¬ ne nosnikom informacji dla pamieci typu stalego.Czulosc magnetostrykcyjna warstw doprowadza sie do punktu zera magnetostrykcji stosujac sterowa¬ nie temperatura, co pozwala na uzyskiwanie warstw zero magnetostrykcyjnych bez koniecznos¬ ci zmian grubosci warstw magnetycznych.Przyklad II. Drut z brazu srebrowego o srednicy 85 mikrometrów, po wstepnym odtluszcze¬ niu, zaktywowaniu powierzchni i naniesieniu wy- " równujacej warstwy miedzi, jak w przykladzie I, poddaje sie kontrolowanemu roztwarzaniu che¬ micznemu w roztworze jak w przykladzie I. Na¬ stepnie, na tak przygotowane podloze nanosi sie w pieciu kolejnych pojemnikach warstwy magne^ tyczne o róznym skladzie i grubosciach. Rózny sklad tych warstw uzyskuje sie przez zastosowanie roztworów jak w przykladzie I rózniacych sie miedzy soba tylko zawartoscia siarczanu kobaltu^96 457 « Lp. 1 2 3 4 Zaw. g/l CoSOJHjO 0,24 1,92 0,24 .1,92 0,20 Przeplyw 1/mint 1,40 1,75 1,40 1,75 1,35 Temp. 47,2 52,5 47,2 52,5 47,0 Sklad warstwy fh Ni 81 72 81 72 81,2 Fe 18 17 18 17 18 Co 1 11 1 11 0,8 1 Grubosc warstw /A/ i A 1500 850 1500 850 1600 B 1200 1300 1200 1300 1100 Warstwy naklada sie w polu magnetycznym po- obwodowym o natezeniu 2400 A/m. Wyniki ilos¬ ciowe przedsatwia tabela: Zmiana stosunku grubosci warstw otrzymanych w pojemnikach 1, 3 i 5 do grubosci warstw z po¬ jemników 2 i 4 powoduje zmiane wartosci Hk i Hc, co pozwala na otrzymanie warstw (spelniaja¬ cych wymagania dla pamieci stalych lufo opera¬ cyjnych. Warstwy otrzymane wedlug kolumny A tabeli posiadaja Hk=530 A/m oraz Hc=490 A/m, co kwalifikuje je jako nosniki informacji pamieci operacyjnej. Warstwy otrzymane wedlug kolumny B tabeli maja Hk=730 A/m oraz Hc=610 A/m, co pozwala na zastosowanie ich jako nosniki infor¬ macji pamieci stalej. Bliski zeru wspólczynnik czu¬ losci magnetostrykcyjnej osiaga sie przez plynna zmiane szybkosci przeplywu roztworu przy zacho¬ waniu stalej temperatury i gestosci pradów osa¬ dzania. PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania nosnika informacji dla pa¬ mieci z nieniszczacym odczytem typu operacyjne¬ go lub stalego polegajacy na nanoszeniu elektroli¬ tycznym na odpowiednio przygotowany przewodnik metaliczny o przekroju kolowym najpierw posred¬ niej warstwy miedzi schropowaconej w kontrolo¬ wanym procesie elektrochemicznym lub chemicz¬ nym, a nastepnie warstw magnetycznych zelazo- -nikiel-kobalt, znamienny tym, ze na podloze na¬ nosi sie elektrolitycznie wiecej niz dwie warstwy magnetyczne, przy czym kazda z tych warstw ma w jswoim skladzie rózna zawartosc kobaltu w przy¬ padku, gdy grubosc tych warstw jest rózna, lub identyczna zawartosc kobaltu, gdy grubosc tych warstw jest równa, zas dla zmniejszenia wspól¬ czynnika czulosci magnetostrykcyjnej stosuje sie zmiany temperatury roztworu elekrolitu w zakre¬ sie 20—60°C, lub zmiany szybkosci przeplywu roz¬ tworu elektrolitu w zakresie 0,5—3 l/min. PL
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16846274A PL96457B1 (pl) | 1974-01-31 | 1974-01-31 | Sposob wytwarzania nosnikow informacji lub pamieci z nieniszczacym odczytem typu operacyjnego lub stalego |
| SU2100205A SU546298A3 (ru) | 1974-01-31 | 1975-01-23 | Способ изготовлени носител магнитной заниси |
| HU75PO00000582A HU171161B (hu) | 1974-01-31 | 1975-01-27 | Sposob izgotovlenija mashinochitaemykh nositelej informacii k operativnoj ili postojannoj memorii |
| CS59675A CS190445B2 (en) | 1974-01-31 | 1975-01-29 | Method of producing informations carriers for operating or permanent memory with nondestructive reading |
| DD18389875A DD116689A5 (pl) | 1974-01-31 | 1975-01-29 | |
| RO7581289A RO71177A (ro) | 1974-01-31 | 1975-01-31 | Procedeu de producere a suporturilor de informatii pentru memorii de tip operator sau constant cu lectura nedistructiva |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16846274A PL96457B1 (pl) | 1974-01-31 | 1974-01-31 | Sposob wytwarzania nosnikow informacji lub pamieci z nieniszczacym odczytem typu operacyjnego lub stalego |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL96457B1 true PL96457B1 (pl) | 1977-12-31 |
Family
ID=19965895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL16846274A PL96457B1 (pl) | 1974-01-31 | 1974-01-31 | Sposob wytwarzania nosnikow informacji lub pamieci z nieniszczacym odczytem typu operacyjnego lub stalego |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS190445B2 (pl) |
| DD (1) | DD116689A5 (pl) |
| HU (1) | HU171161B (pl) |
| PL (1) | PL96457B1 (pl) |
| RO (1) | RO71177A (pl) |
| SU (1) | SU546298A3 (pl) |
-
1974
- 1974-01-31 PL PL16846274A patent/PL96457B1/pl unknown
-
1975
- 1975-01-23 SU SU2100205A patent/SU546298A3/ru active
- 1975-01-27 HU HU75PO00000582A patent/HU171161B/hu unknown
- 1975-01-29 DD DD18389875A patent/DD116689A5/xx unknown
- 1975-01-29 CS CS59675A patent/CS190445B2/cs unknown
- 1975-01-31 RO RO7581289A patent/RO71177A/ro unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| HU171161B (hu) | 1977-11-28 |
| CS190445B2 (en) | 1979-05-31 |
| SU546298A3 (ru) | 1977-02-05 |
| DD116689A5 (pl) | 1975-12-05 |
| RO71177A (ro) | 1981-06-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Dragos et al. | Anomalous codeposition of fcc NiFe nanowires with 5–55% Fe and their morphology, crystal structure and magnetic properties | |
| US3032485A (en) | Electrolytic bath for use in electrodeposition of ferromagnetic compositions | |
| Kim et al. | Magnetic properties of nanocrystalline iron group thin film alloys electrodeposited from sulfate and chloride baths | |
| Myung et al. | Electrodeposited iron group thin-film alloys: structure-property relationships | |
| US5582927A (en) | High magnetic moment materials and process for fabrication of thin film heads | |
| Ghemes et al. | Controlled electrodeposition and magnetic properties of Co35Fe65 nanowires with high saturation magnetization | |
| JPS6353277B2 (pl) | ||
| JPH0443989B2 (pl) | ||
| JPH03219416A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| Dev et al. | Magnetization reversal behavior in electrodeposited Fe–Co–Ni thin films | |
| Xiao et al. | Preparation and magnetic properties of Fe-Co–Ni magnetic nanowire arrays with three-dimensional periodic structures | |
| Schwartz et al. | Effect of Heat‐Treatments on Magnetic Properties of Electroless Nickel Alloys | |
| Fisher | The influence of residual stress on the magnetic characteristics of electrodeposited nickel and cobalt | |
| Hanafi et al. | POTENTIOSTATIC ELECTRODEPOSITION OF Co-Ni-Fe THIN FILMS FROM SULFATE MEDIUM. | |
| PL96457B1 (pl) | Sposob wytwarzania nosnikow informacji lub pamieci z nieniszczacym odczytem typu operacyjnego lub stalego | |
| Shorowordi et al. | Effect of Ni/Fe ratio of electrolyte salts on the magnetic property of electrodeposited Fe–Ni alloy | |
| JPH0765228B2 (ja) | 高磁束密度4元系合金電着薄膜の製造方法 | |
| Hosseini et al. | pH-controlled magnetic characteristics of electrodeposited FeCo nanowire arrays | |
| Tandon et al. | Magnetoimpedance effect in electrodeposited NiFe/Cu wire using trisodium citrate additive in plating bath | |
| Karpuz et al. | Electrodeposited Co–Ni films: electrolyte pH—property relationships | |
| Gündel et al. | In situ magnetization measurements of Cu/Co multilayers during the process of electrodeposition | |
| Huang et al. | Magnetoresistance of electrodeposited iron–cobalt–nickel–copper multilayers | |
| US3271276A (en) | Electrodeposition of quaternary magnetic alloy of iron, nickel, antimony and phosphorus | |
| US3489661A (en) | Electrolytic processes for the production of thin ferromagnetic film | |
| US3305327A (en) | Electroless plating of magnetic material and magnetic memory element |