PL95341B1 - Zrodlo ciezkich jonow,zwlaszcza do akcelerato energii - Google Patents
Zrodlo ciezkich jonow,zwlaszcza do akcelerato energii Download PDFInfo
- Publication number
- PL95341B1 PL95341B1 PL17286374A PL17286374A PL95341B1 PL 95341 B1 PL95341 B1 PL 95341B1 PL 17286374 A PL17286374 A PL 17286374A PL 17286374 A PL17286374 A PL 17286374A PL 95341 B1 PL95341 B1 PL 95341B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- source
- anode
- heavy
- reflectors
- ionows
- Prior art date
Links
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 title 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 10
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N Phenanthrene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000012716 precipitator Substances 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
Opis patentowy opublikowano: 31.03.1978 95341 MKPHOlj 37/08 Int. Cl.2 H01J 37/08 CZYTELNIA! Ujeciu Pclemlowego p8i ,, |7r-n-.5*:'l SjUawn "Twórcy wynalazku: Antoni Piotrowski, Zbigniew Kozlowski Uprawniony z patentu: Instytut Badan Jadrowych, Warszawa (Polska) Zródlo ciezkich jonów, zwlaszcza do akceleratorów niskich energii iPiraedimioifcem wymalajzku jesit zródlo ciezkich jo¬ nów, zwlaszcza do akceleratorów niskich energii, stosowane do amliany gaizów i pair na jony.Znana jes/t konstrukcja zródla jonów wykorzystu¬ jaca wyladowanie typu magnetronioiwiegio do joni- ziacjli gazów i par z wysoka efektywnoscia. Istoltma cecha zródla wykorzystujacego to wyladowanie jest wystepowanie wiazek jonowo-elektronowych dry- fiufliaicyicli wzlóluz osi podluznej sypiternw. Dotychczas znane konstirukcje opieraja sie na roziwdazaniu, któ- regio autorem jiesit B. Ferovlc, Proc. III Intber. Conf. lon. Phen. din Gares Venice 1957, 813. W osi sy¬ metrii ukladu, wyizmaczionej przez os anody umiesz¬ czony jest otwór emisyjny zródla. Katoda w sto¬ sunku do anody uimiieszcziona jest ekscentrycznie.Linie sil poda magnetycznego biegna równolegle dlo osi symeMi. Na efektylwnlosc takiego zródla wieilltói wjplylw maja parametry konstirukcyjine, a iw szcze¬ gólnosci usytuowanie kaftoldy w stosunku do otwo¬ ru emisyjnego. Mozftilwy jesit równiez wariant tego zródla z ekstrakcja w klietrunku prostopadlymi do Ilinii sil pola magnetycznego i tu parametiry kon¬ strukcyjne sa niezwykle istotne.Zródlo ciezkich jionów weidlug wyftalaizku sklada sie z cylindrycznej anody, reflektorów elektironów i katody umieszczonej w podluznymi polu magne¬ tycznym, calosc jiesit oslonieta zespolem ekranów radiacyjnych. Anioda jest uimiesizczona wspólosiowo z fcaltioda zakonczona irefllietotorami elektronów, a otwór emisyjny wykonany w reflektorze elekitro- 2 nów lezy w osi syimetirii katoidy i anody. Sama ka¬ toda' jest korzySItnie wykonana w ifiormie spirali u- inozllfiwiajacej wnikanie czajsitek do- jej wnejtrza.Wizrostowli cisnienia gazu roboczego w zródle to- waonzyszy 'wzirost krytycznego poda magnetycznego i naciecia aniodlowego, co pozwala na efektywna prace w szerokim zakresie cisnien oraz umozliwia uzysikiwamie jonów wielotoadwnikowych. Ze wzgledu na prostote i wyeliminowanie zbytteCznych zamie- czyszczen najdogiodniieijlsza forma uzystoiiwania robo¬ czych par jest podgrzewanie interesujacych sub¬ stancji w postaci pieirwlasitków dio odpowiednich temperaituir. Zródlo jonów stanowiace przedmiot wy¬ nalazku je&t szczególnie pnzyidatne do tego* celu.Spiralnie nawinieta katoda pozwala na wprowa^ drenie powaznych mocy bez forsowania rezymu pracy katody, prowadzacego do skrócenia czasu jej zycia. Dla unikniejcia efektów kondensacji pair ro¬ boczych substancji *w obsjzamze komory wyladowan, dazy sie dlo zastosowania: takiego- systemu wytwa¬ rzania par, w którym temperatura komory wyla¬ dowan bedzie wyzsiza od temperatury pozostalych zespolów zródlla. Cel ten w opisywanym zródle o- siagany jest niejako auitomaitycznde. Co wiecej, opi- sywarna konsitirukcja w zakresie tetm|peraituir do ok.H5O0—il600°iC nie wymaga wogóle specjalnego do- dalttoowego pieca, a pozyskiwanie par substancji o nizszych temperaturach topnienia i regulacja ich cisnienia odbywa sie poprzez, zastosowanie pieca 50 typu ginadienJtowego. 9534195341 3 Wylnaillazek jest przedstawinany w przykladzie , wy¬ konania pokazanym na rysunku. Dla wyfoofrzystania wszystkich miozlliwiosci jakie daje uklad! miaignetro- mowy zostala zastosowana konstrukcja o scisle ob¬ rotowej symeftirdi. Spiralnie nawimielta katoda 2, dzIieM teimiu przezroczysta dflia czajsltek, umieszczona jest w osi cyllilmdlryiCEinej amody 1, równoleglle do li- niia sffll pola magwetyczmego H. Oba zakonczenia ka¬ tody 2 tworza reflektory katiodowe 3a i 3b dla elektronów. Cyfliindler anodowy ofoaidtowany jest pie¬ cem 4 podwyzszajacym tempera/ture anody.Poidawanie par substancji roboczych odbywa sie przez zastosowanie pieca gradientowego 5, który stanowi rurka bedaca przedBiuzenieim jednego z re- ffldkjtarów katodowych 3b. Popriziez wylbóir polozenia parownika 6 w tej rorce mozna wybrac puniklt o temiperatuirze z zakresu od maksymalnej tempeira- tiuiry bOlokiu komory wyladowan do temperatury o- bmdlowy zróidla. Otirzyimywaniie jonów ze zródla od¬ bywa sie*przez otiwór emisyjny 7, uimiieszczony w osd symeftirii kaitody 2 i amioidJy 1.Calosc konstrukcji otoczona jest zespolem ekra¬ nów radiacyjnych 8, zmniejszajacych starty energii na promieniowanie i pozwalajacych uzysfcac wy¬ soka sprawnosc energetyczna. Wyladowania lukowe w takim ukladzie plonie juz przy bardzo niskich •cisnieniach gazu roboczego. Zastosowane reflektory katodiowe 3a i 3b podwyzszaja dodatkowo spraw¬ nosc jonizacji. PL
Claims (2)
1. Z as trze zem i a p alte n,t ow e 1o 1. Zródlo ciezkich jonów, zwlaszcza do akcelera¬ torów niskich energii skladajace sie z cylMndlrycznej anody, reflektorów elektronów i katody umiesz¬ czonej w podluznym polu magnetycznym, calosc jest oslonieta zespolem ekranówradiacyjnych, zna- 15 mienne tym, ze anoda (1) jest umieszczona wspól¬ osiowo z kaltoda (2i) zakonczona reflektorami; elek¬ tronów (3a i 3b), a otwór emisyjny (7) wykonany w reflektorze elektronów (3a) lezy w osi symietrii kaitiody (2) i anody (1). 20
2. Zródlo ciezkich jonów wedlug zastirz. 1, zna¬ mienne tym, ze kaitoda (2) jest wykonana korzyst¬ nie w foinmie spiral unrozMwliiajacej wnikanie cza- sitek do jej wnetrza. Drukarnia Narodowa Zaklad Nr 6, zam. 917/77 Cena zl 4(5,— PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL17286374A PL95341B1 (pl) | 1974-07-18 | 1974-07-18 | Zrodlo ciezkich jonow,zwlaszcza do akcelerato energii |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL17286374A PL95341B1 (pl) | 1974-07-18 | 1974-07-18 | Zrodlo ciezkich jonow,zwlaszcza do akcelerato energii |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL95341B1 true PL95341B1 (pl) | 1977-10-31 |
Family
ID=19968303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL17286374A PL95341B1 (pl) | 1974-07-18 | 1974-07-18 | Zrodlo ciezkich jonow,zwlaszcza do akcelerato energii |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL95341B1 (pl) |
-
1974
- 1974-07-18 PL PL17286374A patent/PL95341B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| IL295294A (en) | Magnetohydrodynamic hydrogen electrical power generator | |
| Belchenko et al. | Studies of ion and neutral beam physics and technology at the Budker Institute of Nuclear Physics, SB RAS | |
| US8729806B2 (en) | RF-driven ion source with a back-streaming electron dump | |
| Heidenreich et al. | Efficiency of dopant-induced ignition of helium nanoplasmas | |
| Frolova et al. | Deuterium ions in vacuum arc plasma with composite gas-saturated zirconium cathode in a magnetic field | |
| Bondarenko et al. | Simulation of charged and excited particle transport in the low-current discharge in argon-mercury mixture | |
| PL95341B1 (pl) | Zrodlo ciezkich jonow,zwlaszcza do akcelerato energii | |
| ES2696227B2 (es) | Fuente de iones interna para ciclotrones de baja erosion | |
| Shuaibov et al. | Optical characteristics of overstressed nanosecond discharge in atmospheric pressure air between chalcopyrite electrodes | |
| JPS60189841A (ja) | イオン源 | |
| Lee et al. | A zero-degree tandem electron spectrometer and rydberg analyzer for projectile electron studies in ion-atom collisions | |
| Dombsky et al. | Targets and ion sources at the TISOL facility | |
| Boffard et al. | Electron-impact excitation of rare-gas atoms from the ground level and metastable levels | |
| Kolpakov et al. | Formation of an out-of-electrode plasma in a high-voltage gas discharge | |
| Pedrys et al. | Erosion of frozen SF6 by electron bombardment | |
| Hargus, Jr et al. | Development of a linear Hall thruster | |
| CN116230472A (zh) | 一种小型可切换式电子-离子枪 | |
| CN114242549A (zh) | 一种采用物质溅射形成等离子体的离子源装置 | |
| CN107027236A (zh) | 中子发生器 | |
| Pelmenev et al. | Branch of Talroze Institute for Energy Problems of Chemical Physics, Russian Academy of Sciences, Chernogolovka 142432, Russia 2 Joint Institute for High Temperatures, Russian Academy of Sciences, Izhorskaya St. 13, Bd. 2, Moscow 125412, Russia | |
| Heymach et al. | Technical design of the Mevva ion source at GSI and results of a long uranium beam time period | |
| Syresin et al. | Possibilities of electron cooling in low energy electrostatic storage rings | |
| Biehe et al. | Studies on new--type full-ion source | |
| Ovsyannikov et al. | Universal main magnetic focus ion source: A new tool for laboratory research of astrophysics and Tokamak microplasma | |
| SU1633464A1 (ru) | Устройство дл получени и удержани высокотемпературной плазмы |