PL93950B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL93950B1
PL93950B1 PL17521374A PL17521374A PL93950B1 PL 93950 B1 PL93950 B1 PL 93950B1 PL 17521374 A PL17521374 A PL 17521374A PL 17521374 A PL17521374 A PL 17521374A PL 93950 B1 PL93950 B1 PL 93950B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
acid
trivalent nitrogen
degreasing
bath
acids
Prior art date
Application number
PL17521374A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL17521374A priority Critical patent/PL93950B1/pl
Publication of PL93950B1 publication Critical patent/PL93950B1/pl

Links

Landscapes

  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest kapiel do elektro¬ chemicznego odtluszczania powierzchni przedmio¬ tów metalowych, na które maja. byc nalozone po¬ wloki ochronne.W trakcie procesów technologicznych poprze- 5 dzajacych odtluszczenie obrabiane przedmioty sty¬ kajac sie z substancjami chemicznymi ulegaja za- tluszczeniu oraz tworza sie na ich powierzchniach pasywuiace warstwy zwiazków metali, uniemozli¬ wiajace dobra przyczepnosc powlok ochronnych. 10 Znana dotad kapiel do elektrochemicznego od¬ tluszczania sklada sie z wodnych roztworów wo¬ dorotlenku sodu w ilosci 50 g/l, weglanu sodu w ilosci 50 g/l i fosforanu trójsodowego v/ ilosci 50 g/l. Inna znana kapiel odtluszczajaca o dziala- 15 niu odrdzewiajacym wedlug polskiego opisu pa¬ tentowego nr 71 838 zawiera glukoze w iiosci od do 3)00 g/l, wodorotlenek sodowy w ilosci od do 300 ,g/l oraz srodek utleniajacy bedacy czyn¬ nikiem zapoczatkowujacym powstawanie kwasu 2P glukonowego w trakcie procesu odtluszczania.Odtluszczanie powierzchni metalu w kapielach zawierajacych fosforany wiaze sie z koniecznoscia przeprowadzenia dodatkowej operacji aktywowa¬ nia w roztworze kwasu, co powoduje rozpuszcza- 25 nie sie metalu oraz zwiekszona podatnosc po¬ wierzchni do korozji. Ponadto odtluszczanie w znanych kapielach powierzchni metali amfoterycz- nych lub ich stopów napotyka na szczególnie duze trudnosci. 8(I Celem wynalazku jest opracowanie skladu ka¬ pieli, która moze byc stosowana do wszystkich metali i ich stopów oraz posiadajacej dodatkowe dzialanie aktywujace.Cel ten zostal osiagniety poprzez sporzadzenie kapieli wedlug wynalazku zawierajacej jako sro¬ dek alkalizujacy d przewodzacy prad, wodny roz¬ twór soli metalu alkalicznego w ilosci od 1 do 250 g/l, z anionami typu OH"1, C08-2, lub innym anionem nie dajacym w trakcie trwania procesu odtluszczania nierozpuszczalnego zwiazku z me¬ talem odtluszczanym lub tez zawierajacy anion mogacy dawac _ z metalem odtluszczanym nieroz¬ puszczalny zwiazek, bedacy etapem przejsciowym w procesie odtluszczania i nastepnie rozpuszcza¬ jacy sie w dalszym ciagu trwania tego procesu.Anion ten w polaczeniu z kationem metalu od¬ tluszczanego nie moze jednak dawac zwiazku rozpuszczalnego w roztworze wodnym. Do kapieli mozna dodac glukoze.Oprócz tych skladników kapiel zawiera od 1 do '0 g/l zwiazków organicznych dajacych w wa¬ runkach procesu odtluszczania rozpuszczalne kom¬ pleksy z odtluszczanym metalem, oraz zwiazków dajacych w efekcie procesów katodowych lub anodowych substancje o wlasnosciach komplekso¬ wych. Do tych zwiazków naleza: glikole,, poligli- kole, sulfoniany alifaJtyczne i aromatyczne, hydro- ksyamjny oraz kwasy o C^—C20 majace w cza- !)3 95U /93 950 3 steczce azot trójwartosciowy zwiazany bezposred¬ nio z atoniami wegla.Jako" hydroksyaminy stosuje sie najkorzystniej: etanoloamine, dwuetanoloamine, trójetanoloamine, N-aminoetyloetanoloamine, N-metylodwuetanolo- amine, propanoloanainy ii polialkanoloaminy.' Jako kwasy o Cx—C20 majace w czasteczce azot trój¬ wartosciowy zwiazany bezposrednio z atomami wegla stosuje sie najkorzystniej: kwas metyloimi- nodwuoctowy, kwas fenyloimimodwuoctowy, kwas nitrylo.trójoctowy, kwas eltylenodwuaminocztero- octowy, kwas 1,2-dwuaminocykloheksanocztero- octowy, kwas uramilodwuoctowy, kwas amino - octowy, kwas aminopropionowy i kwas meitani- trotolucnoortosulfonowy.Stosowanie do odtluszczania powierzchni metali kapieli wedlug wynalazku eliminuje dodatkowa operacje aktywowania i w konsekwencji daje skrócenie czasu trwania procesu odtluszczania oraz oszczednosc materialów wynikajaca z braiku wanien do aktywowania i plukania.Badania wykazaly nieoczekiwanie, ze powloki ochronne nalozone na powierzchnie .przedmiotów odtluszczonych w kapieli wedlug wynalazku wy¬ kazuja wieksza przyczepnosc do podloza w po¬ równaniu z powlokami nakladanymi po odtlu¬ szczeniu w znanych kapielach. Okazalo sie takze, ze sama kapiel wykazuje wieksza trwalosc niz. kapiele znane. . jlstotna zaleta stosowania kaipieli wedlug wyna¬ lazku jest równiez poprawa warunków (bezpieczen¬ stwa i higieny' pracy oraz brak zanieczyszczen scieków zwiazkami metali powstajacymi w trak¬ cie aktywowania. .. iKapiel do elektrochemicznego odtluszczania we¬ dlug wynalazku przedstawiaja przyklady: Przyklad I wodorotlenek potasowy 15—30 g/l wodorotlenek sodowy 10—&5 g/l polialkanoloamina 10—25 g/l woda" do 1 litra 40 Przyklad li weglan potasowy 20g/l ¦ kwas aminooctowy 5 g/l woda do 1 litra Przyklad III kwas metanitrotoluenoortosulfonowy 5 g/l wodorotlenek sodowy |50—120 g/l glukoza 30 g/l woda do 1 litra Kapiele pracuja najkorzystniej w temperaturze od 60 do 80°C i przy gestosciach pradu-od 1 do A/dcm2 dla (kapieli wedlug przykladu I, od 0,1 do 4 A/dcm2 dla kapieli wedlug przykladu II, od 0,2 do 10 A/dcm2 — dla kapieli wedlug przy¬ kladu III. PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe. 1. Kapiel do elektrochemicznego odtluszczania zawierajaca jako srodek alkaliizujacy i przewodza- - cy prad, wodny roztwcr soli metalu alkalicznego z anionami typu OH-1, C03-2 lub innym anio¬ nem nie dajacym w trakcie trwania procesu od¬ tluszczania nierozpuszczalnego zwiazku z metalem odtluszczanym oraz mogaca dodatkowo zawierac glukoze, znamienna tym, ze posiada od 1 do 2(30 g/l skladników w postaci takich zwiazków organicznych jak: glikole, poliglikolc, sulfoniany alifatyczne i aromatyczne, hydroksyaminy, kwasy o Ci—nCgo majace w czasteczce azot trójwartoscio¬ wy zwiazany bezposrednio z atomami wegla.
  2. 2. Kapiel wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze jako hydroksyaminy zawiera najkorzystniej eta¬ noloamine,, dwuetanoloamine, trójetanoloamine, N-aminoetyloetanoloamine, N-metylodwuetanolo- amine, propanoloaminy i polialkanoloaminy.
  3. 3. Kapiel wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze jako kwasy o C1^-C2o majace w czasteczce azot trójwartosciowy zwiazany bezposrednio z atoma¬ mi wegla zawiera najkorzystniej: kwas metylo- iminodwuoctowy, kwas fenyloiminodwuoctowy, kwas nlitrylotrójoctowy, kwas etylenodwuamino- czterooctowy, kwas l,2jdwuaminocykloheksano- czterooctowy, kwas uramilodwuoetowy, kwas ami¬ nooctowy, kwas ..aminopropionowy i ikwas metani- trotoluenooritosulfonowy. LZG Z-d Nr 2 — 1997/78 120 egz. form. A-4 Cena 10 zl PL
PL17521374A 1974-10-29 1974-10-29 PL93950B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL17521374A PL93950B1 (pl) 1974-10-29 1974-10-29

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL17521374A PL93950B1 (pl) 1974-10-29 1974-10-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL93950B1 true PL93950B1 (pl) 1977-07-30

Family

ID=19969463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL17521374A PL93950B1 (pl) 1974-10-29 1974-10-29

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL93950B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1273257A (en) Composition for degreasing and cleaning tin surfaces
US4204013A (en) Method for treating polymeric substrates prior to plating employing accelerating composition containing an alkyl amine
WO2000070123A1 (en) Process for the surface treatment of magnesium alloys
US10378110B2 (en) Painting pre-treatment processes with low environments impact, as an alternative to conventional phosphating treatments
JP2015510550A (ja) 不動態化工程前の亜鉛表面の前処理
US3573984A (en) Alkaline desmutting composition for ferrous metals
US4950339A (en) Process of forming phosphate coatings on metals
AU730256B2 (en) Alkaline strip passivation
US3819494A (en) Method of removing braze
US4720332A (en) Nickel strip formulation
US4680064A (en) Phosphate conversion coating accelerators
JPH10500452A (ja) 置換モノカルボン酸を用いる鉄リン酸塩処理
US4070193A (en) Corrosion resistant metal sealing formulation
PL93950B1 (pl)
RU2405863C2 (ru) Способ удаления лазерной окалины
US3537896A (en) Beneficial after-treatment of workpieces
JPH0411629B2 (pl)
US3756864A (en) Cyanuric acid as a scale reducing agent in coating of zinc surfaces
US3723162A (en) Pretreatment of metal surfaces
US3481882A (en) Cleaning composition and method of cleaning articles therewith
US5534177A (en) Compositions useful for removing products of metal corrosion
KR19990087077A (ko) 저농도의 니켈 및/또는 코발트를 이용한 아연-포스파타이징 방법
JPH10183365A (ja) 金属基体の燐酸塩処理浴及び方法、その浴の調製のための濃縮物、並びにその浴及び方法による処理を施された金属基体
US3547787A (en) Hot dip tinning a high carbon ferrous metal
JP3083872B2 (ja) 亜鉛又は亜鉛合金の表面に化成被膜を形成する方法及びこの方法の利用方法