PL93076B1 - - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób fotochemicznego fakturowania powierzchni profilowanych, zwlaszcza wewnetrznych powierzchni form do tworzyw sztucznych.Znany sposób fakturowania powierzchni polega na naswietlaniu warstwy swiatloczulej, naniesionej na powierzchnie fakturowana, przez maske, na której znajduje sie rysunek faktury. Po naswietleniu i wywolaniu obrazu otrzymuje sie miejsce pozbawione warstwy materialu swiatloczulego. Tak przygotowana powierzchnie poddaje sie dalszej obróbce, polegajacej na trawieniu lub pokrywaniu metalami miejsc odslonietych.Wada i niedogodnoscia znanego sposobu fotochemicznego fakturowania jest to, ze jakosc fakturowanej powierzchni zalezy w decydujacym stopniu od dokladnosci przylegania maski do powierzchni obrabianego elementu. Z tego wzgledu stosowane dotychczas maski, wykonane z plyt i blon fotograficznych lub z folii metalowej, moga sluzyc tylko do obróbki powierzchni plaskich lub powierzchni, które otrzymuje sie przez zwiniecie plaszczyzny.Celem wynalazku jest usuniecie znanych wad i niedogodnosci przez opracowanie sposobu fotochemicznego fakturowania powierzchni o dowolnej geometrii. Cel ten osiagnieto w ten sposób, ze wykonuje sie znanymi sposobami kopie ksztaltu gniazda formy z przezroczystego tworzywa. Na otrzymany negatyw ksztaltu gniazda formy nanosi sie rysunek faktury, po czym umieszcza sie go w gniezdzie formy, na która nanosi sie rysunek faktury. Powierzchnia formy pokryta jest uprzednio materialem swiatloczulym.Zaleta sposobu wedlug wynalazku jest to, ze umozliwia on fakturowanie malych i dowolnie profilowanych powierzchni, a ponadto o dowolnie zaprogramowanym rysunku faktury. Otrzymana maska moze byc wykorzystana do fakturowania dowolnej ilosci jednakowych form. Na maske mozna równiez nanosic kolejne rysunki faktury po usunieciu poprzedniego, przez kolejne stosowanie kilku masek o takim samym albo róznym rysunku otrzymac mozna fakture powierzchni o róznej wglebnosci. Dodatkowa zaleta fakturowania powierzchni sposobem wedlug wynalazku jest znaczne skrócenie czasu otrzymania maski.Maski do fotochemicznego fakturowania powierzchni profilowanych i plaskich sposobem wedlug wynalazku otrzymac mozna na drodze prózniowego formowania tworzyw termoplastycznych polimeryzacji blokowej monomerów lub wtrysku tworzywa do gniazda formy.2 93076 Przyklad. W formie wykonanej ze stali NC 10, posiadajacej gniazdo w ksztalcie pólczaszy kulistej prowadzi sie znanymi sposobami polimeryzacje blokowa metakrylanu metylu. Po czasie niezbednym do przeprowadzenia polimeryzacji wyciaga sie. z formy otrzymany blok polimetakrylanu metylu. Na powierzchnie, bedaca negatywem ksztaltu gniazda formy, nanosi sie czarna farba drukarska rysunek faktury. Nastepnie na powierzchnie gniazda formy napyla sie cienka warstwe fotopolimeru (Photo Resist firmy Kodak, typ KPR—4).Po wysuszeniu fotopolimeru blok polimetakrylanu metylu z naniesionym rysunkiem faktury umieszcza sie w gniezdzie formy i naswietla lampa kwarcowa, a nastepnie wywoluje i suszy. Tak przygotowana powierzchnie poddaje sie procesowi trawienia rozcienczonym kwasem octowym (1:3). PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób fotochemicznego fakturowania powierzchni profilowanych przez naswietlanie materialu swiatloczulego poprzez maske z rysunkiem faktury, znamienny tym,2e wykonuje sie kopie ksztaltu gniazda formy z przezroczystego tworzywa, na która nanosi sie rysunek faktury, po czym umieszcza sie ja w gniezdzie formy, której powierzchnie pokrywa sie uprzednio materialem swiatloczulym. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl PL