PL91740B3 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL91740B3 PL91740B3 PL16247473A PL16247473A PL91740B3 PL 91740 B3 PL91740 B3 PL 91740B3 PL 16247473 A PL16247473 A PL 16247473A PL 16247473 A PL16247473 A PL 16247473A PL 91740 B3 PL91740 B3 PL 91740B3
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- carbon
- layer
- layers
- thickness
- sinter according
- Prior art date
Links
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 32
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000005262 decarbonization Methods 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest spiek weglikowy powodujacy utwardzenie metalu, pokrywanego odporna na
scieranie warstwa powierzchniowa wedlug patentu nr 79682.
Znany jest spiek weglikowy z patentu nr 79682, wedlug którego cienka powloka sklada sie z dwóch
nakladanych na siebie warstw, przy czym zewnetrzna warstwa zawiera jedna lub wiecej mikroskopijnych warstw
odpornych na scieranie, które skladaja sie z tlenku aluminium lub tlenku cyrkonu. Wewnetrzna warstwa
umieszczona pod warstwa zewnetrzna sklada sie z jednej lub wiekszej ilosci warstw weglików lub azotków,
tytanu wolframu, hafnu, wanadu, niobu, tantalu, chromu, molibdenu lub cyrkonu, to jest metal, czwartej
i szóstej podgrupy okresowego ukladu pierwiastków jak równiez weglików lub azotków krzemu i boru
Niedogodnoscia rozwiazania objetego patentem nr 79682 jest to, ze warstwa posrednia znajdujaca sie
miedzy spiekiem weglikowym a warstwa zewnetrzna zawiera wegliki C lub kobalt Co, które tworza przeszkode
w nanoszeniu warstwy zewnetrznej.
Celem wynalazku jest usuniecie tej niedogodnosci. Istota wynalazku polega na tym. ze ze spieku
weglikowego posiadajacego podklad ze spiekanego, twardego metalu wyeliminowano warstwy weglików C lub
kobaltu Co i naniesiono na powierzchnie tej warstwy utleniacz lub jego polaczenie z weglikiem, skladajacym sie
ZC°3Wcelu latwiejszego odweglania wewnetrznej warstwy posredniej zastosowano odweglanie warstwy
podkladowej utworzonej z Fe lub Ni, przy czym na wewnetrzna warstwe posrednia naniesiono podklad
twardego metalu z domieszka odpornych na scieranie warstw ceramicznych. Posrednie warrtwy utleniaczy
JZZSZ z tlenków AlaO, lub tlenków Si, B, Ca. Mg, Ti oraz Hf, o grubosci okolo 0,2 Ajm lub korzystniej£
d05„m. Wewnetrzna Warstwe posrednia wykonano 2 do 16 lub korzystniej 4 do Strone, grubosci
w sto unku do grubosci warstwy zewnetrznej. Calkowita grubosc warstwy wewnetrznej *™*™£Z™*
So 11 lub korzystniej 4 do 8 Mm. Warstwe utleniajaca stosuje sie z tego powodu tak bardzo cienka, ze jest ona
wykonana ze zbyt lamliwego materialu.2 91 740
Ponizej podano przyklady dotycza spieku weglikowego powodujacego utwardzenie metalu, pokrywanego
odporna na scieranie warstwa.
Przyklad I. Nanoszenie powierzchniowej warstwy dekarbonizujacej dokonywane jest w reaktorze na
podkladzie utworzonym z warstwy Ni. Powierzchniowa warstwa sklada sie z 3000 spieków nanoszonych na
warstwe podkladowa w sposób równomierny przy utrzymaniu polaczenia z otaczajacym w reaktorze gazem
i przeznaczonych do utworzenia skrawajacej wkladki, zawierajacej objetosciowo okolo 40% WC, 15% Co i 45%
weglików w postaci TiC, TaC i NbC.
Przy nanoszeniu spieków dokonuje sie wstepnej dekarbonizacji, podczas której wkladke podgrzewa sie do
1000°C za pomoca mieszaniny gazu skladajacego sie z 5% C02 i 95% H2, przeplywajacego przez reaktor przy
cisnieniu 100 mm Hg i szybkosci przeplywu okolo 0,1 m/sek. Proces wstepnej dekarbonizacji trwa okolo
0,5godz., po czym nastepuje drugi etap dekarbonizacji w tym samym reaktorze, przy stosowaniu gazu
0 cisnieniu 15 mm Hg, szybkosci przeplywu 3,5 m/sek i skladzie 70% H2, 5% C02, 20% CO i 5% AICI3 oraz
utrzymaniu temperatury powyzej 1100°C. Czas dekarbonizacji w drugim etapie trwa okolo 3godz., a grubosc
uzyskanej w wyniku dekarbonizacji warstwy Al203 wynosi okolo 4 jxm, co stanowi wystarczajaca ochrone przed
przenikaniem C i CO i nie wplywa na wzrost kruchosci tej warstwy, ze wzgledu na mikroskopijna jej grubosc.
Przyklad II. Powierzchniowa warstwa Al203 o grubosci okolo 1 jum uformowana jest wedlug tego
przykladu, na podkladzie twardej strefy metalu przy zmniejszonej zawartosci CO iWC i przy zastosowaniu
mieszaniny gazu skladajacego z 5% H, 2% C02, 2% AICI3 i 91% CO, doprowadzanego do reaktora. Proces
nanoszenia powierzchniowej warstwy dokonywany jest przy utrzymaniu temperatury 1000°C w czasie okolo
godz.
Przyklad III. Powierzchniowa warstwa o grubosci 3 jum wedlug tego przykladu, otrzymywana jest
podobnie jak wedlug przykladu II z tym, ze formowanie jej odbywa sie przy zastosowaniu gazu doprowadzanego
do reaktora w ciagu 2 godz., skladajacego sie z mieszaniny 20% CO, 70% H2, 5% C02,5% AICI3.
Przyklad IV. Powierzchniowa warstwa wedlug tego przykladu jest podobna do warstwy z przykladu
pierwszego, gdzie do warstwy TiC w pierwszym etapie zastosowano gaz zawierajacy 10% TiCI4, 8% CH4 i 81%
H2, doprowadzany do reaktora wciagu 2 godz. przy cisnieniu okolo 15 mm Hg i szybkosci przeplywu okolo
1 m/sek. W wyniku nanoszenia zewnetrznej warstwy uzyskano cienkoziarnista nieporowata powloke TiC
o grubosci 2 /im.
W drugim etapie nanoszenia warstwy powierzchniowej, temperatura w reaktorze, przy zastosowaniu
mieszaniny gazu skladajacego sie z 70% H2, 5% C02, 20% CO i 5% SiCI4 o cisnieniu 15mmHg i szybkosci
przeplywu okolo 3,5 m/sek, która utrzymywano w ciagu 3 godz. i uzyskano dekarbonujaca warstwe Si02
o grubosci okolo 2 jum.
Claims (6)
1. Spiek weglikowy wedlug patentu nr 79682 posiadajacy rdzen lub podklad ze spiekanego twardego metalu zawierajacego przynajmniej wegiel, na którym umieszczono cienka powloke skladajaca sie z dwóch warstw nalozonych jedna na drugiej, gdzie zewnetrzna warstwa zawiera jedna lub wiecej odpornych na scieranie warstw skladajacych sie z tlenku aluminium lub tlenku cyrkonu osadzonych z fazy gazowej, podczas gdy wewnetrzna warstwa, umieszczona w poblizu rdzenia, sklada sie z jednej lub wiecej warstw utworzonych z jednego lub wielu weglików lub azotków tytanu, cyrkonu, hafnu, wanadu, niobu, tantalu, chromu, molibdenu, wolframu, krzemu lub boru, znamienny tym, ze zewnetrzna warstwa z której, wyeliminowano weglik C lub kobalt CO zawiera warstwe utleniacza lub weglika skladajacego sie z C03W30.
2. Spiek weglikowy wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze grubosc warstwy utleniacza lub weglika utrzymywana jest w zakresie 0,4 do 0,5/im. v
3. Spiek weglikowy wedlug zastrz. 1, lub 2, z n a m i enny t y m, ze wewnetrzna warstwa posrednia zawiera podklad z twardego metalu z domieszka odpornych na scieranie warstw ceramicznych.
4. Spiek weglikowy wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze grubosc wewnetrznej warstwy wynosi 2 do 16-krotnej lub korzystniej 4 do 8-krotnej w stosunku do grubosci warstwy wewnetrznej.
5. Spiek weglikowy wedlug zastrz. 1, lub 4, znamienny tym, ze calkowita grubosc warstwy wewnetrznej i zewnetrznej wynosi 3 do 11 lub korzystniej 4 do 8/zm.
6. Spiek weglikowy wedlug zastrz. 1, znamienny t y m, ze zewnetrzna warstwa sklada sie z tlenków Si, B, Ca, Ti, Mg oraz Hf. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 10 zl
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16247473A PL91740B3 (pl) | 1973-05-11 | 1973-05-11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16247473A PL91740B3 (pl) | 1973-05-11 | 1973-05-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL91740B3 true PL91740B3 (pl) | 1977-03-31 |
Family
ID=19962542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL16247473A PL91740B3 (pl) | 1973-05-11 | 1973-05-11 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL91740B3 (pl) |
-
1973
- 1973-05-11 PL PL16247473A patent/PL91740B3/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4284687A (en) | Compound body | |
| US4019873A (en) | Coated hard metal body | |
| EP1348779B1 (en) | Coated cutting tool for turning of steel | |
| US4447263A (en) | Blade member of cermet having surface reaction layer and process for producing same | |
| SU963450A3 (ru) | Режущий инструмент | |
| US4698266A (en) | Coated cemented carbide tool for steel roughing applications and methods for machining | |
| KR100645409B1 (ko) | 초경합금 삽입체 | |
| US4708037A (en) | Coated cemented carbide tool for steel roughing applications and methods for machining | |
| JP2003311510A5 (pl) | ||
| EP0015451A1 (en) | Boride coated cemented carbide | |
| DE1309733T1 (de) | Körper aus chromhaltigem zementiertem karbid mit binderangereicherter oberflächenzone | |
| EP0157782A1 (en) | Coated silicon nitride cutting tools | |
| GB2048960A (en) | Coating Articles With Layers of Hard Materials | |
| GB1573891A (en) | Method of producing hard metal bodies of wear resistance | |
| JPS627267B2 (pl) | ||
| DE2018662A1 (de) | Verbundwerkstoff für Schneidwerkzeuge | |
| US3999953A (en) | Molded articles made of a hard metal body and their method of production | |
| US3854991A (en) | Coated cemented carbide products | |
| JPS6119367B2 (pl) | ||
| PL91740B3 (pl) | ||
| DE2317447C2 (de) | Schneideinsätze | |
| JPS6150724B2 (pl) | ||
| JPH0364469A (ja) | 被覆超硬質合金工具 | |
| JPS586969A (ja) | 切削工具用表面被覆超硬合金部材 | |
| JPH03122280A (ja) | 被覆超硬質合金工具 |