PL87747B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL87747B1
PL87747B1 PL15852072A PL15852072A PL87747B1 PL 87747 B1 PL87747 B1 PL 87747B1 PL 15852072 A PL15852072 A PL 15852072A PL 15852072 A PL15852072 A PL 15852072A PL 87747 B1 PL87747 B1 PL 87747B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
substrate
electrodes
gap
polymeric coatings
chamber
Prior art date
Application number
PL15852072A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL15852072A priority Critical patent/PL87747B1/pl
Publication of PL87747B1 publication Critical patent/PL87747B1/pl

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do na¬ noszenia polimerycznych powlok na metalizowane podloze, a scislej urzadzenie do wytwarzania wie¬ lowarstwowych cienkoblonowych struktur, stosowa¬ nych, na przeklad w mikroelektronice przy wytwa- 5 rzaniu cienkowarstwowych kondensatorów, czy tez izolujacych i chroniacych warstw mikroukladów.Znane jest urzadzenie do nanoszenia polimerycz¬ nych powlok na metalizowane podloze, w którym wykorzystane jest zjawisko wyladowania jarze- 10 niowego. Znane urzadzenie zawiera prózniowa ko¬ more z metalowymi elektrodami stanowiacymi podloza, na które nanosi sie polimeryczna powloke.Przy wykorzystaniu znanego urzadzenia, pozwa¬ lajacego na nanoszenie polimerycznej powloki na 15 metalizowana powloke, polaczona z elektroda, nie¬ mozliwe jest zapewnienie równomiernej grubosci powloki na skutek niejednorodnosci pola elektrycz¬ nego na brzegach elektrod. Wykorzystywanie ta¬ kiej powloki, przykladowo w cienkowarstwowych 20 kondensatorach, powoduje obnizenie elektrycznej wytrzymalosci cienkowarstwowych kondensatorów oraz ich pojemnosci, piatego tez znane urzadzenie do nakladania polimerycznych powlok, podczas wyladowania jarzeniowego nie moze byc wyko- 25 rzystane do uzyskiwania cienkowarstwowych kon¬ densatorów w mikroukladach. Wykonanie miano¬ wicie powlok o skomplikowanym ksztalcie za po¬ moca znanego urzadzenia, wymagajacego dopro¬ wadzenia potencjalu elektrycznego do kazdego me- 30 talizowanego odcinka podloza jest skomplikowa¬ nym i w wielu wypadkach praktycznie niewyko¬ nalnym zadaniem technicznym.Celem wynalazku jest usuniecie wymienionych niedogodnosci i opracowanie urzadzenia do nano¬ szenia polimerycznych powlok na metalizowane podloze nie polaczone wspólnie z elektroda, które pozwalaloby nanosic na metalizowane podloze rów¬ nomierna pod wzgledem grubosci i jednorodna pod wzgledem elektro-fizycznych parametrów po¬ limeryczna powloke o zadanym ksztalcie i za¬ pewnialoby wysoki udzial uzysku wyrobów dobrej jakosci.Zadanie to rozwiazano w ten sposób, ze urza¬ dzenie do nanoszenia polimerycznych powlok na metalizowane podloze, zawierajace prózniowa ko¬ more z umieszczonymi w niej metalowymi elek¬ trodami wyposazono wedlug wynalazku w przy¬ rzad do ustalania podloza w okreslonym poloze¬ niu, który jest umieszczony w taki sposób, ze za¬ mocowane w nim podloze znajduje sie w przerwie miedzy elektrodami, która to przerwa jest izolo¬ wana elektrycznie od komory i od elektrod. W celu zlokalizowania wyladowania w przerwie miedzy elektrodami, zamocowano na elektrodach, od stro¬ ny przeciwleglej, skierowanej do podloza, plytki z materialu dielektrycznego. Korzystnie jest takze wyposazyc urzadzenie w mechanizm laczacy pod¬ loze z przeslona.Urzadzenie wedlug wynalazku pozwala na uzy- 87 74787 3 skiwanie równomiernych pod wzgleem grubosci i jednorodnych pod wzgledem elektro-fizycznych parametrów polimerycznych powlok na metalizo¬ wanym podlozu o zadanym ksztalcie oraz na ich wykorzystaniu jako dielektryka w cienkowarstwo- 5 wych kondensatorach ,oraz w izolacyjnych i o- chronnych warstwach mikroukladów, zapewnia¬ jac równoczesnie uzyskanie wysokiego udzialu wy¬ robów dobrej jakosci.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przy- 10 kladach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schemat urzadzenia do nanoszenia polimerycznych powlok wedlug wynalazku, a fig. 2 — schemat odmiata urzadzenia wedluy wynalaz¬ ku do równoczesnego nanoszenia polimerycznych 15 powlok na wieksza liczbe podlozy.Urzadzenie razeristawione na fig. 1 zawiera prózniowi komore 1, uklad wypompowywania 2 komory, uklad napelnienia 3 parami polimeru na¬ noszonymi w postaci blonki, posiadajacy zawór 4 20 przeznaczony do odlaczenia ukladu napelnienia 3 w czasie wypompowywania komory 1, a takze po osiagnieciu roboczego cisnienia w komorze.Wewnatrz komory 1 sa ustawione plaskie meta¬ lowe elektrody 5, wykonane na przyklad z nie- 25 rdzewnej stali, przyrzad 6 do ustalania podlozy 7 w przerwie miedzyelektrodowej 8 oraz srodek do polaczenia podlozy 7 z przeslona 10. Przyrzad 6 stanowi metalowa tarcze 11, w której otworach 12 rozmieszczonych na obwodzie tarczy 11 sa zamo- 30 cowane za pomoca plaskich sprezyn 13 uchwyty 14 podlozy 7. Tarcza 11 w srodkowej swej czesci . jest polaczona z mechanizmem (na fig. 1 nie przed¬ stawiony) sluzacym do przemieszczania tarczy 11 wzdluz jej osi obrotu w plaszczyznie pionowej 35 i do obracania tarczy 11 wokól osi obrotu w plaszczyznie poziomej. Mechanizm 9 zawiera pro¬ stokatne metalowe listwy 15 umocowane w ko¬ morze 1 za pomoca stojaków 16. Na listwach 15 jest zamocowana za pomoca plaskich sprezyn 17, 40 metalowa ramka 18\ przeznaczona do umocowania przeslony 10. Ramka 18, która jest zaopatrzona w kolki (na rysunku nie przedstawione), polaczona zostaje w czasie przesuwania tarczy 11 wzdluz osi obrotu za pomoca tych kolków z uchwytem 14, 45 Elektrody 5 sa zaopatrzone w plytki 19 z próznio¬ wego dielektrycznego materialu, na przyklad te¬ flonu, zamocowanymi od strony przeciwleglej, zwróconej do podloza. Przyrzad 6 i mechanizm 9, sa odizolowane od komory 1 kolnierzami 20, wy- 50 konanymi z prózniowego dielektrycznego materialu i nie znajduja sie w kontakcie elektrycznym z elektrodami 5. Przedstawione na fig. 1 urzadze¬ nie przeznaczone jest do kolejnego nanoszenia po¬ limerycznych powlok na podloza umieszczone po- .. jedynczo w miedzyelektrodowej przerwie 8.Urzadzenie przedstawione na fig. 2, w odróznie¬ niu od urzadzenia przedstawionego na fig. 1, po¬ siada przyrzad 6 do ustalania podlozy 7, stano¬ wiacy prostokatna plytke 21 zamocowana nieroz- 60 lacznie na komorze 1 za pomoca stojaków 22 wykonanych z materialu izolacyjnego. Na calej powierzchni plytki 21 sa rozmieszczone otwory 23.W otworach 23, po obu stronach plytki 21 sa umocowane za pomoca zacisków 24 uchwyty 14 65 747 r • ¦ - ;¦ 4 ¦ l .. -¦ do podlozy, z których kazdy polaczony jest z ram¬ ka 18, utrzymujaca przeslone 10. Urzadzenie przedstawione na fig. 2 posiada prostokatne elek¬ trody £5, których powierzchniai jest w przyblize¬ niu 1,5 razy wieksza od powierzchni plytki 21* Ponadto urzadzenie do nanoszenia polimerycz¬ nych powlok równoczesnie na wiekszej liczbie podlozy, moze byc wykonane w taki sposób, ze elektrody i przyrzad dó ustalania podlozy wyko¬ nuje sie w ksztalcie cylindrów, umieszczonych wspólosiowo, przy czym przyrzad znajduje sie mie¬ dzy elektrodami.Urzadzenie przedstawione na fig. 1 funkcjonuje w nastepujacy sposób. W prózniowej komorze 1 wstawia sie ramke 18 z przeslona 10 o potrzeb¬ nym ksztalcie oraz uchwyty 14 z podlozami 7- Nastepnie prózniowa komore 1 zamyka sie, od¬ pompowuje ukladem ^ do cisnienia nie wyzszego od 1(M tora i po otwarciu zaworu 4 ukladu 3 napelnia komore parami roboczej cieczy do cisnie¬ nia —0,1—0,5 tora. Za pomoca mechanizmu prze¬ suwu opuszcza sie tarcze 11 pionowo w dól i laczy podloze 7 z przeslona 10. Nastepnie na elektrody podaje sie zródla zasilania (na fig. 1 nie przed¬ stawionego) napiecie U = 500 — 800 V o czestotli¬ wosci 400—1000 Hz, co powoduje powstanie wy¬ ladowania jarzeniowego w miedzyelektrodowej przerwie 8. Poniewaz przyrzad 6 do ustalania podlozy 7 jest elektrycznie odizolowany od elek¬ trod 5, nastepuje formowanie sie polimerycznej powloki na podlozu 7 na skutek dyfuzyjnego prze¬ plywu jonów i wzbudzonych czasteczek plazmy, tworzacej sie w miedzyelektrodowej przerwie 8 w czasie powstawania w niej jarzeniowego wy¬ ladowania. Aby otrzymac polimeryczna powloke, równomierna pod wzgledem grubosci i jednorod¬ na pod wzgledem wlasciwosci elektrycznych, jest niezbedne, azeby plazma byla jednorodna na calej powierzchni podloza 7. Realizuje sie to tylko w tym wypadku, jezeli nie zachodzi ubytek pradu ze strefy wyladowania, przy czym strefa wylado¬ wania znajduje sie maksymalnie w przerwie 8 miedzy elektrodami 5. Warunek ten zostaje spel¬ niony na drodze izolowania przyrzadu 6 do usta¬ lania podlozy 7 kolnierzami 20 oraz dielektrycz¬ nego ekranowania strefy jarzeniowego wyladowa¬ nia plytkami 19. Po naniesieniu powloki o zada¬ nej grubosci, tarcze 11 podnosi sie pionowo w góre za pomoca mechanizmu przesuwu obraca sie pod katem okreslonym przez liczbe uchwytów 1* i obraca nastepne podloze w sposób wyzej opi¬ sany.Przy zastosowaniu urzadzenia przedstawionego na fig. 2, w odróznieniu od urzadzenia wedlug fig. 1, przed rozpoczeciem procesu laczy sie kazde podloze ze swoja przeslona a nastepnie przepro¬ wadza proces nanoszenia polimerycznych powlok na wszystkich podlozach jednoczesnie. PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do nanoszenia polimerycznych powlok na metalizowane podloze, zawierajace prózniowa komore z umieszczonymi w niej meta¬ lowymi elektrodami, znamienne tym, ze jest wy¬ posazone w przyrzad (6) do ustalania podlozy (7)^87 747 który jest umieszczony w taki sposób, ze zamo¬ cowane w nim podloze (7) znajduje sie w przer¬ wie (8) miedzy elektrodami (5), przy czym przy¬ rzad (6) jest izolowany elektrycznie od próznio¬ wej komory (1) i elektrod (5).
  2. 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze na elektrodach (5) od strony przeciwleglej, zwróconej do podloza (7) sa zamocowane plytki (19) z materialu dielektrycznego, sluzace do lokar lizacji wyladowania w przerwie (8) miedzy elek¬ trodami (5).
  3. 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 1 i 2, znamienne tym, ze posiada mechanizm do laczenia podlozy (7) z przeslonami (10). *»//»»/?/»»/»/;/;;»/»»»»»»* 6179 20 11 FI0.1 FIC. 2 PL
PL15852072A 1972-10-27 1972-10-27 PL87747B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL15852072A PL87747B1 (pl) 1972-10-27 1972-10-27

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL15852072A PL87747B1 (pl) 1972-10-27 1972-10-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL87747B1 true PL87747B1 (pl) 1976-07-31

Family

ID=19960382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL15852072A PL87747B1 (pl) 1972-10-27 1972-10-27

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL87747B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1044177A (en) Method for coating a substrate
DE2556607C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung
TWI375729B (en) Sputtering apparatus
FR2541509A1 (fr) Dispositif pour faire agir un plasma gazeux sur des pieces a travailler
US3945911A (en) Cathodes for sputter-coating glass sheets or other substrates
US3318790A (en) Production of thin organic polymer by screened glow discharge
JPH0673538A (ja) アークイオンプレーティング装置
US3593678A (en) Electrostatic coating methods and apparatus
KR20010090442A (ko) 화상표시장치의 제조방법 및 제조장치
RU2378415C2 (ru) Способ магнетронного распыления и аппарат для магнетронного распыления
JPH11246999A (ja) ウエハのメッキ方法及び装置
US3852181A (en) Continuous cathode sputtering system
PL87747B1 (pl)
JP2950728B2 (ja) Bt処理装置及びbt処理方法
CA1276908C (en) Excitation apparatus with discharge between opposing electrodes separated by dielectric member
US4049533A (en) Device for producing coatings by means of ion sputtering
EP1016121A1 (en) Vapour deposition coating apparatus
DE69831602T2 (de) Zweiseitige Shower-Head-Magnetron, Plasmaerzeugungsapparat und Substratbeschichtungsmethode
US3464907A (en) Triode sputtering apparatus and method using synchronized pulsating current
KR100552388B1 (ko) 대기압 플라즈마 표면처리장치 및 표면처리방법
US3779885A (en) Apparatus and method for cathode sputtering on the two sides of a metallic support having large dimensions
US5755937A (en) Apparatus for applying layers of metal onto a surface
TWI518193B (zh) 真空鍍覆的方法與裝置
KR102025917B1 (ko) 증착 소스, 진공 증착 장치, 및 그 동작 방법들
EP0010800A1 (en) Apparatus for and method of electrophoretic coating of cathode shafts with an emissive layer