PL85083B3 - - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest ulepszenie urzadze¬ nia do pomiaru poziomu masy szklanej w wannie szklarskiej wedlug patentu nr 55510.Wedlug patentu nr 55510 urzadzenie do pomiaru poziomu masy szklanej w wannie szklarskiej sta¬ nowi rzutnik umocowany na stojaku, który za po¬ srednictwem kondensatora lampy projekcyjnej i lustra rzuca poprzez wziernik waski strumien swia¬ tla na powierzchnie plynnej masy szklanej, od któ¬ rej odbija sie i trafia do zamocowanej po przeci¬ wnej stronie wanny sondy pomiarowej. Przy czym wzierniki stanowia rury stalowe dlugosci 0,5 m umocowane w otworach scian bocznych wanny, zamkniete szczelnie szybami ochronnymi, przepu¬ szczajacymi wiazki promieni swietlnych.Wada urzadzenia wedlug patentu glównego jest przede wszystkim to, ze moze ono pracowac tylko na wannach, w których proces topienia odbywa sie w scisle okreslonych warunkach lekkiego pod¬ cisnienia przestrzeni gazowej wanny szklarskiej.Przy zwiekszonym nieco nadcisnieniu w wannie ochronna szyba wziernika zanieczyszcza sie na¬ lotami co uniemozliwia dokonywanie pomiaru po¬ ziomu masy szklanej.Wystepujaca wada nie pozwala zastosowac urza¬ dzenia do innych wanien szklarskich o zróznico¬ wanych parametrach panujacego w ich wnetrzu cisnienia. 30 Z powodu tych wad urzadzenie wedlug patentu glównego nie moze miec powszechnego zastosowa¬ nia.Wynalazek ma na celu uzyskanie mozliwosci po¬ miaru poziomu masy szklanej w wannie szklar¬ skiej w róznych warunkach, zwlaszcza niezaleznie od cisnienia w przestrzeni nad masa szklana.Zamierzony cel osiagnieto przez zmiane kon¬ strukcji rury wziernikowej dla umozliwienia wy¬ tworzenia w niej ochronnej atmosfery czystego ga¬ zu,^ najkorzystniej powietrza przez zwiekszenie cisnienia w tejze rurze w stosunku do cisnienia panujacego w przestrzeni wanny szklarskiej.Urzadzenie do pomiaru poziomu masy szklanej w wannie szklarskiej wedlug wynalazku przedsta¬ wione jest na zalaczonych rysunkach, na których fig. 1 przedstawia przekrój poprzeczny wanny szklarskiej wraz z usytuowaniem rur wziernikowych urzadzenia do pomiaru poziomu masy szklanej, fig. 2 przekrój podluzny rury wziernikowej.Urzadzenie wedlug wynalazku stanowia wmon¬ towane w boczne sciany wanny szklarskiej 1 dwie rury wziernikowe 2, wyposazone w szyby ochron¬ ne 3. Do rur wziernikowych 2 wbudowane sa bocz¬ ne przewody 4 doprowadzajace sprezone powietrze.Przewody 4 usytuowane sa od szyby ochronnej 3 w odleglosci maksymalnej dwóch srednic rury wziernikowej 2 pod katem najkorzystniej a = 30°— —60°. 85 08385 083 Dokonywanie pomiaru poziomu masy • szklanej na urzadzeniu wedlug wynalazku polega na tym, ze do rury wziernikowej 2 doprowadza sie bocz¬ nym przewodem 4 zlokalizowanym najkorzystniej w poblizu szyby ochronnej 3 sprezone powietrze o cisnieniu wiekszym od cisnienia panujacego w przestrzeni wanny szklarskiej, najkorzystniej o mm slupa wody.Doprowadzone powietrze pod katem a 30—60° tworzy przegrode dla pylów i gazów na drodze z wanny do szyby ochronnej 3, dzieki temu pomiar poziomu" masy szklanej odbywa sie bez zaklócen, niezaleznie od istniejacych warunków cisnieniowych i stopnia zapylenia w wannie szklarskiej. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenie patentowe Urzadzenie do pomiaru poziomu masy szklanej w wannie szklarskiej skladajace sie z wanny szklarskiej, rzutnika, lamy projekcyjnej, lustrar. sondy pomiarowej wedlug patentu nr 55510, zna¬ mienne tym, ze w rury wziernikowe (2) wbudo¬ wane sa boczne przewody (4) najkorzystniej w od-" leglosci dwóch srednic rury wziernikowej (2) od szyby ochronnej (3) i pod katem najkorzystnie! a = 30° do 60°. Rg.1 Rff.

2. LZG Zakl. Nr 3 w Pab. Zam. 1192-76, nakl. 110+20 egz. Cena 10 zl PL