PL83195B2 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL83195B2
PL83195B2 PL14929771A PL14929771A PL83195B2 PL 83195 B2 PL83195 B2 PL 83195B2 PL 14929771 A PL14929771 A PL 14929771A PL 14929771 A PL14929771 A PL 14929771A PL 83195 B2 PL83195 B2 PL 83195B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
crystal
screen
optical axis
optical
light
Prior art date
Application number
PL14929771A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL14929771A priority Critical patent/PL83195B2/pl
Publication of PL83195B2 publication Critical patent/PL83195B2/pl

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

Pierwszenstwo: Zgloszenie ogloszono: 15.11.1973 Opis patentowy opublikowano: 20.05.1976 83195 MKP G01n 21/00 Int. Cl.2 G01N 21/00 Twórcy wynalazku: Jerzy Frydrychowicz, Anzelm Bochniak Uprawniony z patehtu tymczasowego: Wojskowa Akademia Techniczna im. Jaroslawa Dabrowskiego, Warszawa (Polska) Sposób wyznaczania polozenia osi optycznych krysztalów przezroczystych Przedmiotem wynalazku jest sposób wyznaczania polozenia osi optycznych krysztalów przezroczystych.Dla wyznaczania polozenia osi optycznych krysztalów przezroczystych stosowane sa sposoby wykorzystu¬ jace zjawiska optyczne w krysztalach.Jedne ze znanych sposobów wykorzystujacych zjawiska optyczne w krysztalach polegaja na tym, ze analizuje sie obrazy interferencyjne, powstajace przy przeswietlaniu krysztalu wiazka swiatla spolaryzowanego pochodzacego ze zródla ó malych wymiarach, zwane figurami konoskopowymi. W figurach konoskopowych wyróznia sie krzywe jednakowego natezenia wiazki swiatla zwane izogirami oraz krzywe jednakowej predkosci rozchodzenia sie swiatla zwane izochromatami.Znany jest sposób wyznaczania polozenia osi optycznych krysztaltu polegajacy na tym, ze przy pomocy ukladu optycznego zlozonego z pryzmatów i soczewek rozszczepia sie obraz interferencyjny, nastepnie przesu¬ wa sie faze miedzy rozszczepionymi obrazami, po czym obraz ponownie sie sklada. Sposób ten pozwala na eliminacje wplywu izogiry na dokladnosc obliczen, ale uklad do stosowania tego sposobu wymaga bardzo zlozonego wyposazenia optycznego i wysokich kwaMfikacji obslugi.Znany jest takze graficzno-analityczny sposób wyznaczania polozenia osi optycznych krysztalu, polegajacy na tym, ze porównuje sie krzywizne sladu przeciecia stozka konoskopowego z plaszczyzna obserwacji, z siatkami wykreslonymi uprzednio dla okreslonej geometrii ukladu. Sposób ten jest bardzo pracochlonny, obarczony duzymi bledami i wymaga stosowania wielu róznych siatek, które dobiera sie w zaleznosci od analizowanego obrazu.Celem wynalazku jest opracowanie sposobu wyznaczania polozenia osi optycznych krysztalu, który pozwala; zredukowac izogire do czterech punktów, przez co za pomoca prostego ukladu optycznego mozna dokladnie wyznaczyc polozenie osi optycznych.Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze przeswietla sie krysztal wiazka swiatla spolaryzowanego i po uzyskaniu na ekranie obrazu interferencyjnego, obraca sie polaryzator analizujacy dokola osi optycznej ukladu o kat przy którym izogira zostaje zredukowana do czterech punktów, odpowiadajacych wierzcholkom kwadratu,2 83 195 z polozenia których na naniesionej na ekranie podzialce, w postaci wspólsrodkowych okregów ze skala katowa, wyznacza sie polozenie osi optycznych krysztalu wzgledem wiazki swiatla, przy czym polaryzator analizujacy umieszcza sie miedzy zródlem swiatla a badanym krysztalem lub miedzy badanym krysztalem a ekranem.Wyznaczone w ten sposóo polozenie dwóch osi optycznych, w przypadku krysztalów dwuosiowych, pozwala na obliczenie trzeciej danej przestrzennej, niezbednej do okreslenia orientacji przestrzennej krysztalu, W przypadku krysztalów jednoosiowych, sposób ten pozwala na wyznaczenie polozenia osi optycznej krysztalu we wspólrzednych aparaturowych.Sposóo wedlug wynalazku pozwala na szybkie wyznaczenie polozenia osi optycznych krysztalu bez stosowania skomplikowanych ukladów optycznych oraz na otrzymanie bezposredniej informacji o anizotropii wlasciwosci fizycznych krysztalu.Sposób wedlug wynalazku zostanie ponizej szczególowo objasniony na podstawie rysunku na którym pokazany jest schematycznie przyklad ukladu do stosowania sposobu wedlug wynalazku.Przed umieszczeniem krysztalu 4 w ukladzie, wygasza sie wiazke swiatla padajacego ze zródla 1 na ekran 5, w ten sposób, ze skreca sie, ustawiony prostopadle do osi optycznej ukladu, ruchomy polaryzator analizujacy 3 do polozenia przy którym wiazka swiatla zostaje calkowicie wygaszona. Nastepnie przezroczysty krysztal 4 umieszcza sie miedzy nieruchomym polaryzatorem 2, polaryzujacym wiazke swiatla padajacego ze zródla 1 a ruchomym polaryzatorem analizujacym 3, w wyniku czego na ekranie 5 pojawia sie obraz interferencyjny. Po czym obraca sie polaryzator analizujacy 3 do polozenia przy którym obraz interferencyjny zostaje zredukowany do czterech punktów, stanowiacych wierzcholki kwadratu.Na ekranie 5 naniesiona jest podzialka ze skala katowa w postaci wspólsrodkowych okregów symetrycz¬ nych wzgledem osi optycznej ukladu odleglych od siebie o wartosc kata wynoszaca na przyklad 30r. Polozenie punktów na podzialce wyznacza polozenie osi optycznych krysztalu.Obraz interferencyjny rejestruje sie na blonie fotograficznej 6.Soczewka 7 skupia wiazke swiatla padajaca na krysztal. Pozwala ona na zmniejszenie wymiarów ukladu i zapewnia uzyskanie korzystnej jasnosci obrazu i wiernosci odwzorowania. PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób wyznaczania polozenia osi optycznych krysztalów przezroczystych, znamienny tym, ze po uzyskaniu na ekranie obrazu interferencyjnego, powstalego wskutek przeswietlenia krysztalu wiazka swiatla spolaryzowanego, obraca sie polaryzator analizujacy dokola osi optycznej ukladu o kat, przy którym obraz interferencyjny zostaje zredukowany do czterech punktów, stanowiacych wierzcholki kwadratu, z polozenia których na naniesionej na ekranie podzialce w postaci wspólsrodkowych okregów ze skala katowa, wyznacza sie polozenie osi optycznych krysztalu wzgledem wiazki swiatla, przy czym polaryzator analizujacy umieszcza sie miedzy zródlem swiatla a badanym krysztalem lub miedzy badanym krysztalem a ekranem, prostopadle do osi wiazki swiatla. Prac. Poligraf. UP PRL. Naklad 120 + 18 egz. Cena 10 zl PL PL
PL14929771A 1971-07-07 1971-07-07 PL83195B2 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL14929771A PL83195B2 (pl) 1971-07-07 1971-07-07

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL14929771A PL83195B2 (pl) 1971-07-07 1971-07-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL83195B2 true PL83195B2 (pl) 1975-12-31

Family

ID=19954950

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL14929771A PL83195B2 (pl) 1971-07-07 1971-07-07

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL83195B2 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201530093A (zh) 厚度線上即時檢測之光學干涉裝置及其方法
ATE51300T1 (de) Ellipsometrisches verfahren sowie ellipsometrische vorrichtung zur untersuchung der physikalischen eigenschaften von proben bzw. oberflaechenschichten von proben.
CN106768396A (zh) 一种基于微分相衬成像还原定量相位图像的方法及系统
de Sande et al. Polarimetry with azimuthally polarized light
JP2022508111A (ja) 複屈折欠陥に関してガラス系基板の自動化された評価を行うためのシステムおよび方法
Sun et al. The application of SLM in shearography detecting system
Pezzaniti et al. Imaging polarimeters for optical metrology
Inoue A method for measuring small retardations of structures in living cells
PL83195B2 (pl)
Lesniak et al. An innovative polariscope for photoelastic stress analysis
US3620593A (en) Method of surface interference microscopy
WO2016010670A1 (en) Method and apparatus for measuring optical systems and surfaces with optical ray metrology
US3589812A (en) Processes and devices for measuring stresses within a transparent body for electromagnetic waves
Rosenhauer et al. The measurement of the optical transfer functions of lenses
JP4072190B2 (ja) 微分干渉顕微鏡
Kagalawa et al. Computational model of image formation process in DIC microscopy
RU95106440A (ru) Способ контроля качества объектива и устройство для его осуществления
Marchant et al. The reproducibility of MTF measurements
Cameron Apparatus and techniques for the measurement of certain optical properties of ore minerals in reflected light
SU1053625A1 (ru) Способ определени состо ни пол ризации объектной волны
RU2528609C2 (ru) СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ОРИЕНТАЦИИ КРИСТАЛЛОГРАФИЧЕСКИХ ОСЕЙ В АНИЗОТРОПНОМ ЭЛЕКТРООПТИЧЕСКОМ КРИСТАЛЛЕ КЛАССА 3m
RU2071047C1 (ru) Голографический способ определения оптических характеристик прозрачных объектов
RU191566U1 (ru) Лазерный триангуляционно-интерферометрический измерительный комплекс оптических характеристик прозрачных биологических тканей и плёнок
RU2031398C1 (ru) Способ определения оптической анизотропии горных пород и руд
SU1140082A1 (ru) Способ определени ориентировки плоских неоднородностей показател преломлени в прозрачных монокристаллах