Pierwszenstwo: Zgloszenie ogloszono: 30.09.1972 Opis patentowy opublikowano: 30.10.1975 81912 KI. 42h,38 MKP G02b 5/18 CZYTELNIA Urzedu Patentowego Twórcawynalazku: Wieslaw Chabros Uprawniony z patentu tymczasowego: Wojskowa Akademia Techniczna im. Jaroslawa Dabrowskiego, Warszawa (Polska) Sposób otrzymywania holograficznych siatek dyfrakcyjnych Przedmiotem wynalazku jest sposób otrzymywania holograficznych siatek dyfrakcyjnych.Znany jest sposób otrzymywania holograficznych siatek dyfrakcyjnych polegajacy na tym, ze na plycie fotograficznej rejestruje sie interferencje dwóch rozbieznych fal sferycznych promieniowania spójnego, wysyla¬ nego na przyklad z lasera, przy czym jedna fala posiada promien rozbieznosci rzedu 50 cm, a druga promien rozbieznosci rzedu 200 cm, nastepnie naswietlona plyte wywoluje sie i utrwala w znany sposób. Wada tak otrzymanych siatek jest to, ze przy korzystaniu z nich, w celu otrzymania widma zogniskowanego nalezy zastosowac obiektyw skupiajacy miedzy szczelina wyjsciowa i siatka dyfrakcyjna.Celem wynalazku jest opracowanie sposobu otrzymywania samoogniskujacej siatki dyfrakcyjnej, za pomoca której mozna obserowac widmo zogniskowane, bez uzycia obiektywu skupiajacego.Istota wynalazku polega na tym, ze na plycie fotograficznej rejestruje sie interferencje dwóch fal sferycznych promieniowania spójnego, wysylanego na przyklad z lasera, z których jedna fala sferyczna stanowi fale rozbiezna, a druga fale zbiezna, przy czym wielkosc promienia tych fal dobiera sie w zaleznosci od wartosci dlugosci fal zródla swiatla badanego za pomoca siatki.Sposób wedlug wynalazku zostanie ponizej szczególowo objasniony na podstawie rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schemat ukladu do wytwarzania siatek holograficznych, fig. 2 — schemat ukladu z zastosowa¬ niem siatki transmisyjnej, a fig. 3 — schemat ukladu do otrzymywania zogniskowanego widma, zawierajacy siatke odbiciowa. Promien wychodzacy z lasera zostaje rozdzielony przez swiatlodzielaca kostke KS na dwa promienie, z których jeden pada na zwierciadlo Z,, a drugi na zwierciadlo Z2. Zwierciadlo Zx skierowuje promienie na uklad soczewek S2,S3, formujacy fale sferyczna zbiezna schodzaca sie w odleglosci R0 za plyta PF.Jednoczesnie zwierciadlo Z2 skierowuje promien na soczewke S1# formujaca fale sferyczna rozbiezna rozchodza¬ ca sie w odleglosci Rr od plyty fotograficznej PF. Fale biegna w stosunku do siebie pod katem aQ j wyswietlaja na plycie PF uklad linii interferencyjnych. Nastepnie naswietlona plyte wywoluje sie i utrwala w znany sposób.Kat Oq zawiera sie w granicach 10°—120° zaleznie od zadanej gestosci linii. Odleglosc R0, punktu zbieznosci od plyty fotograficznej zawiera sie w granicach 20cm-100cm, a odleglosc Rr, punktu rozbieznosci od plyty w granicach 100 cm-300 cm. Wielkosci odleglosci R0i Rr dobiera sie w zaleznosci od przeznaczenia siatki2 81912 dyfrakcyjnej to jest w zaleznosci od wartosci dlugosci fal badanego zródla swiatla. Czas naswietlania plyty zawiera sie w granicach 1—10 min, zaleznie od czulosci plyty fotograficznej i mocy promieniowania lasera.W celu uzyskania zogniskowanego widma dla fal o dlugosci od \{ do \2 za pomoca samoogniskujacej, transmisyjnej siatki dyfrakcyjnej (fig. 2) siatke SH umieszcza sie w odleglosci Rp równej 100—300 cm od szczeliny Sz umieszczonej miedzy zródlem swiatla S a siatka SH. Miedzy szczelina SZ a siatka dyfrakcyjna SH umieszczona jest przeslona P, zaslaniajaca obraz widmowy, dla fal o dlugosci Xi do X2 przed swiatlem wychodzacym bezposrednio ze szczeliny Sz. Zgodnie z teoria holografii dla dlugosci fali X, wychodzacej ze szczeliny Sz, holograficzna siatka dyfrakcyjna SH, tak jak kazdy hologram, daje obraz ugieciowy szczeliny w odleglosci RX okreslonej wzorem: RX-J--I(l+±l Rp Xr R0 Rr gdzie: Rp — oznacza odleglosc siatki dyfrakcyjnej od szczeliny R0 — odleglosc plyty fotograficznej od punktu skupienia fali zbieznej Rr — odleglosc plyty fotograficznej od punktu z którego rozchodzi sie fala rozbiezna Xr - dlugosc fali, która byla naswietlona plyta fotograficzna i pod katem a\, okreslonym wzorem: X sin a\ = — sin aó Xr gdzie: Xr — oznacza dlugosc fali która byla naswietlona plyta fotograficzna X — dlugosc fali wysylanej przez badane zródlo swiatla a0 — kat interferencji fali zbieznej i fali rozbieznej Pokrywajac warstwa metaliczna powierzchnie siatki dyfrakcyjnej otrzymanej sposobem wedlug wynalazku, otrzymuje sie siatke odbiciowa. Proces otrzymywania zogniskowanego widma za pomoca tej siatki jest takj sam jak przy siatce transmisyjnej z tym, ze obraz widma znajduje sie przed siatka (fig. 3).Przez zastosowanie sposobu wedlug wynalazku realizowanego za pomoca ukladu pokazanego na fig. 1, obraz ugieciowy jest obrazem rzeczywistym. Zatem widmo badanego zródla swiatla S mozna ogladac na matówce lub mozna go fotografowac bez pomocy optycznego ukladu skupiajacego, co znacznie upraszcza uklad spektrograficzny.Siatka wedlug wynalazku znajduje szerokie zastosowanie w analizach spektralnych, w dokladnych anali¬ zach waskich fragmentów widm oraz w dydaktyce. PL