Uprawniony z patentu: Xerox Corporation, Rochester (Stany Zjednoczone Ameryki) Urzadzenie do rzutowania obrazu swietlnego Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do rzutowania obrazu swietlnego z nieruchomej plaszczyzny przedmiotowej na ruchoma powierzchnie w plaszczyznie obrazu a w szczególnosci ruchomy suport lampy z ukladem napedowym, przeznaczony do uzytku w optycznych urzadzeniach analizujacych.Przy kopiowaniu oryginaly takie jak arkusze, ksiazki lub przedmioty trójwymiarowe reprodukuje sie najdogodniej, jesli podczas procesu kopiowania sa one oparte wprost na plaskiej nieruchomej plycie lub desce.Uklad taki pozwala na duza swobode pod wzgledem rozmiarów, ksztaltu i ukladu materialu oryginalnego, który mozna reprodukowac. W samoczynnych urzadzeniach reprodukcyjnych kserograficznych obraz optyczny orygi¬ nalu rzuca sie na ogól na poruszajacy sie element swiatloczuly celem utworzenia na nim utajonego obrazu elektrostatycznego, który sie nastepnie sposobem kserograficznym wywoluje i zespala z materialem podklado¬ wym, uzyskujac trwala kopie oryginalu. Celem rzucenia obrazu nieruchomego oryginalu ria element poruSzajacy sie stosuje sie na ogól ruchomy uklad analizowania optycznego opisanego np. w amerykanskim opisie patentowym nr 3062094. Ruchome zródlo swiatla i ruchomy obiektyw sa przystosowane do wspóldzialania przy analizowaniu w poprzek kopiowanego oryginalu. Elementy ruchome tworza plynacy obraz optyczny w plaszczyznie przedmiotu, poruszajacej sie z predkoscia synchroniczna wraz z powierzchnia swiatloczula.Jakkolwiek znany i stosowany w praktyce jest caly szereg rodzajów suportów lamp i ukladów napedowych, to wszystkie te systemy wykazuja te sama powazna wade, ze nie nadaja sie do pracy 'z duzymi predkosciami, wymaganymi w nowoczesnych urzadzeniach reprodukcyjnych.Celem wynalazku jest ulepszenie kserograficznego urzadzenia analizujacego przez uniemozliwienie przecho¬ dzenia przez uklad analizujacy ubocznego swiatla i przeswietlania elementu swiatloczulego w okresach, gdy nie jest on w uzyciu, a ponadto opracowanie optycznego ukladu analizujacego do rzucania plynacego obrazu optycznego nieruchomego oryginalu na ruchoma powierzchnie swiatloczula, przeznaczonego do uzytku w samoczynnych szybkobieznych reprodukcyjnych urzadzeniach kserograficznych. Ponadto, celem wynalazku jest ulepszenie kserografii samoczynnej droga skrócenia czasu maszynowego traconego miedzy cyklami robo¬ czymi oraz opracowanie ruchomego urzadzenia analizujacego, w którym ruch powrotny mechanizmu analizujace¬ go jest znacznie szybszy od ruchu roboczego.Wedlug wynalazku plyta podtrzymujaca oryginal jest zamocowana w ramie urzadzenia tak, ze jej jedna krawedz boczna styka sie zasadniczo z pionowa sciana wspomnianej ramy tworzac naroznik, a otwór lampy,2 81 004 przepuszczajacy swiatlo, usytuowany jest równolegle do pionowej sciany, kierujac wiazke swiatla lampy do naroznika jaki towrzy plyta podtrzymujaca z rama.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykladzie wykonania na rysunkach, na których: fig. 1 — czes¬ ciowy przekrój plyty podtrzymujacej I mechanizmu napedowego lampy wzdluz linii 12—12 uwidocznionej na fig. 6; fig. 2 — czesciowy widok boczny w przekroju, ukazujacy mechanizm analizowania, fig. 3 — czesciowy widok boczny z wyrwaniami, ukazujacy mechanizm napedowy obiektywu urzadzenia, fig. 4 — czesciowy widok ,boczny, ukazujacy suwak zamkniecia i nalezacy don mechanizm sterujacy, fig. 5 — czesciowy przekrój wzdluz linii 5—5 na fig. 4, ukazujacy szczeline ekspozycyjna i przynalezny mechanizm zamkniecia; fig. 6 — czesciowy widok z góry plyty podtrzymujacej i mechanizmu napedowego lampy, z wyrwaniem, fig. 7 — powiekszony rzut boczny w przekroju, ukazujacy suwak zamkniecia z przynaleznym mechanizmem napedowym, fig. 8 — czescio¬ wy widok perspektywiczny obiektywu i jego suportu, fig. 9 — czesciowy rzut przedni w przekroju zamkniecia, przedstawionego na fig. 2, fig. 10 —rzut boczny odmiany wykonania suportu lampy, przedstawionego na fig. 2 oraz fig. 11 — czesciowy widok w przekroju, ukazujacy mechanizm mocowania zwierciadel z fig. 2.W przedstawionym urzadzeniu oryginal (dokument lub ksiazke) umieszcza sie na przezroczystej plycie 14 i analizuje sie go za pomoca ruchomego ukladu analizowania optycznego celem utworzenia jego plynacego obrazu swietlnego. W zasadzie uklad analizowania obejmuje lampe z jednym otworem 15 i obiektyw 18, przystosowane do indywidualnego poruszania sie w poprzek plaszczyzny plyty. Droga optyczna ukladu jest zalamana za pomoca pary zwierciadel 19 i 20 tak, ze obraz swietlny rzuca sie na dolna powierzchnie bebna.Jednak przed rzuceniem obrazu swiatloprzewodna powierzchnie bebna laduje sie równomiernie za pomoca korotronu (nie pokazanego na rysunku). Pod wplywem plynacego obrazu swietlnego ten równomierny ladunek zostaje selektywnie rozladowany w miejscach gdzie nie pada obraz, dzieki czemu na powierzchni bebna tworzy sie utajony obraz elektrostatyczny oryginalu.Celem oszczedzania cennego czasu maszynowego w szybkobieznym samoczynnym urzadzeniu reprodukcyj¬ nym opisanego typu istotnym jest zredukowanie do minimum czasu powrotu lampy i obiektywu do ich polozen, odpowiadajacych poczatkowi analizowania. Stwierdzono, ze klasyczne sprezynowe urzadzenie powrotne, cofa obiektyw i lampe z duza predkoscia, co wywoluje w odnosnych mechanizmach naprezenia powodujace uszko- * dzenie elementów lamp i obiektywu. W niniejszym wynalazku zarówno suport lampy jak i ruchomy obiektyw sa w ramach cyklu roboczego napedzane i w fazie analizowania i podczas skoku powrotnego przez odpowiednie mechanizmy sterujace. Zespól analizowania optycznego uzyty do projekcji swietlnego obrazu nieruchomego oryginalu na poruszajaca sie powierzchnia? swiatloczula wirujacego bebna 11 obejmuje plyty boczne 55 i 56, które moga tworzyc calosc z glówna rama maszyny lub tez alternatywnie, jak przedstawiono na fig. 2 i 6, byc oddzielnymi, plytami przykreconymi lub zamocowanymi w inny sposób do glównej ramy. Obie plyty boczne sa polaczone ze soba na stale w polozeniu równoleglym do siebie i podtrzymuja umieszczony miedzy nimi walek napedu suportu lampy 58 i pret nosny suportu lampy 59.Nieruchoma plyta 14 jest osadzona w odpowiednim otworze górnej pokrywy 60 urzadzenia, jak to przedstawiono na fig. 2. Stolik przedmiotowy stanowi powierzchnia przepuszczajaca swiatlo 61, wykonana zwykle ze szkla optycznie czystego, osadzona w ramie 62, która jest zamocowana do spodu górnej pokrywy.Plyta jest oparta pewnie o rame z trzech stron, podczas gdy strona czwarta, tj. lewa na fig. 2 wystaje swobodnie przy krawedzi glównej ramy maszyny. Skosny element 63, przytwierdzony do lewej plyty bocznej 55, styka sie ze swobodnym brzegiem plyty tworzac z nia ciagla zalamana powierzchnie, o która mozna podczas naswietlania oprzec wygodnie i w sposób nie grozacy uszkodzeniem oprawny oryginal taki jak ksiazke, czasopismo lub tym podobne. Na fig. 2 przedstawiono liniami kreskowymi ksiazke 68 oparta na plycie. Do jednego z brzegów ramy 62 przymocowana jest zawiasowo odpowiednia pokrywa plyty (nie pokazana na rysunku), chroniaca górna powierzchnie plyty i utrzymujaca oryginal w dokladnym styku z nia.W opisanym tu szybkobieznymi kserograficznym urzadzeniu reprodukcyjnym niezbedna jest bardzo czula plyta swiatloprzewodzaca, tj. plyta wyjatkowo czula w sensie zarówno fotograficznym jak i kserograficznym, w celu zapewnienia pelnego jej naswietlenia podczas stosunkowo krótkiego czasu naswietlania. Z uwagi na czulosc plyty w opisanym urzadzeniu moze byc uzyte zródlo swiatla o stosunkowo malym natezeniu. Do tego celu przewidziano suport 71 oparty przesuwnie na walku napedowym 58 i precie podtrzymujacym 59 i przystosowany do przesuwania wydluzonego zródla swiatla 15 ruchem zwrotnym wzdluz drogi poprzecznej do plyty. Jak przedstawiono na fig. 2, 6 i 1, suport lampy 71 jest w zasadzie uksztaltowany na wiekszej czesci swej dlugosci w postaci „L" ima na swych przeciwleglych koncach zamocowana pionowo w polozeniu równoleglym do siebie pare uchwytów elektrycznych 70, sluzacych do podtrzymywania zródla swiatla.W preferowanym rozwiazaniu uchwyty lampy sa przystosowane do podtrzymywania jednej rurowej lampy fluorescencyjnej pod plyta przedmiotowa, przy czym os podluzna lampy jest równolegla do powierzchni plyty.Zewnetrzna powierzchnia lampy jest na ogól nieprzezroczysta i ma szczeline przepuszczajaca swiatlo 72,81 004 3 rozciagajaca sie w poprzek jej powierzchni. Celem zasilania lampy uchwyty jej sa polaczone elektrycznie z odpowiednim zródlem energii (nie pokazanym na rysunku) za pomcoa gietkiego przewodu.Czesto jest rzecza fizycznie niemozliwa umiescic zródlo swiatla w bezposredniej bliskosci powierzchni plyty w sposób opisany, w tym preferowanym rozwiazaniu niniejszego wynalazku. Wiadome jest, ie natezenie oswietlenia spada gwaltownie w miare oddalania, zródla od ciala opromieniowanego. Jest wiec zupelnie mozliwe, ze do wytworzenia zadanego natezenia oswietlenia powierzchni plyty okaze sie konieczne wiecej niz jedno zródlo swiatla. Alternatywne rozwiazanie suportu lampy przedstawiono na fig. 10, gdzie wsuporcie 69 osadzone sa dwie pionowo ustawione lampy 15 podobne do lampy opisanej wyzej. Podluzne otwory szczelinowe 72 lamp sa przystosowane do skupiania swiatla na pojedynczym skrawku plyty, lezacym wprzód od suportu lamp w kierunku analizowania. Jak widac, dzieki temu sposobowi osadzenia lamp uzyskuje sie znaczna elastycznosc ustawienia suportu lamp bez odbiegania od wskazan niniejszego wynalazku.Do sterowania zródla energii przewidziany jest przelacznik. Lampe zaczyna sie zasilac na poczatku okresu analizowania i utrzymuje to zasilanie przez okres czasu niezbedny do umozliwienia jej przejscia w poprzek calej powierzchni plyty. Gdy jednak suport wraca do polozenia odpowiadajacego poczatkowi analizowania, moc doprowadzana do lampy redukuje sie do poziomu lezacego ponizej progu napiecia lampy celem wylaczenia jej na czas skoku powrotnego. Do ramy maszyny przymocowana jest para wylaczników granicznych 73 i 74, których dzwignie ustawione sa tak, ze wspólpracuja z suportem lampy. Gdy ten ostatni rusza w przód przy skoku roboczym, styki wylacznika 73 zamykaja sie, co umozliwia przeplyw pradu ze zródla energii do lampy. Po zakonczeniu skoku styki wylacznika 74 powoduja wyslanie do zródla energii sygnalu, powodujacego zredukowanie napiecia na lampie do wartosci tuz ponizej progu. W ten sposób zmniejsza sie do minimum ilosc swiatla, przechodzacego przez uklad optyczny do plyty swiatloczulej, celem zapobiezenia przeswietleniu bebna.Jak przedstawiono na fig. 2, podluzny otwór przepuszczajacy swialto 72 w lampie jest ustawiony tak-ze rzuca pas swiatla sporo wprzód od suportu lampy w kierunku analizowania. Gdy lampy porusza sie od prawej strony ku lewej, jak przedstawiono na fig. 6, pas swiatla przesuwa sie w poprzek plyty do naroznika, utworzonego przez niepodparty brzeg plyty i skosny element 63. Jak widac, taki uklad umozliwia dotarcie urzadzenia analizujacego do narozy i innych niedostepnych miejsc.W prawym koncu suportu lampy znajduje sie obudowa lozyska 76, w której wmontowane jest lozysko slizgowe 77 (fig. 1) przystosowane do przesuwania sie po obrotowo ulozyskowanym walku napedowym 58, Kolek 78 przechodzi przewidzianym na to otworem zarówno przez obudowe, jak i lozysko i porusza sie swobodnie w rowku srubowym 79, uformowanym w walku. Walek wystaje przez plyte 56 i jest polaczony funkcjonalnie za posrednictwem pary spiralnych kól stozkowych 84 i 85 z kolem napedowym 82, sprzezonym z glównym ukladem napedowym. W ten sposób ruch suportu lampy jest skoordynowany czasowo z ruchem powierzchni bebna i obiektywu. Druga obudowa lozyska 80 znajduje sie na przeciwleglym koncu suportu lampy, przy czym jej wewnetrzna powierzchnia nosna jest przystosowana do przesuwania sie po precie podtrzymujacym 59. Zarówno pret ten jak i powierzchnia nosna sa wykonane z tworzywa sztucznego takiego jak nylon, czteroftalan polietylenu, lub czterofluoroetylen o malym wspólczynniku tarcia, wykazujacego dobra wytrzymalosc na rozciaganie i odpornosc na zuzycie w temperaturze pokojowej. Walek napedowy jest wykonany z podobnego materialu celem ulatwienia swobodnego ruchu suportu w tyl i w przód po zalozonej drodze.Podczas obracania walka napedowego w wyzej opisany sposób, jego srubowy rowek dziala na nieruchomy kolek 78, przesuwajac suport lampy po jego drodze pod plyta. Srubowy rowek 79 stanowi w efekcie walcowa krzywke, nadajaca suportowi lampy wymagany ruch. Na poczatku okresu analizowania krzywka ta nadaje najpierw suportowi duze przyspieszenie celem osiagniecia predkosci roboczej. Nastepnie suport napedza sie ruchem jednostajnym celem przeprowadzenia lampy w poprzek plyty podczas analizowania ze stala predkoscia.Przy koncu tej czynnosci predkosc suportu zmniejsza sie szybko do zera i nastepnie zmienia kierunek przesuwu.Krzywka nadaje suportowi szybki lecz plynny ruch powrotny, w ramach którego podczas powrotnej czesci cyklu roboczego suport szybko przyspiesza, a pózniej zwalnia do predkosci = 0. Celem zmniejszenia do minimum czasu maszynowego, traconego miedzy skokami roboczymi, suport wraca do poczatkowego polozenia przebywajac droge okolo 10 cali wokolo 0,5 sekundy. Sily, powstajace podczas tych bardzo krótkich okresów przyspiesza¬ nia i opózniania oraz powrotnej czesci cyklu roboczego, sa stosunkowo duze. Poniewaz lampa wystaje poziomo na pewna odleglosc od walka napedowego, wiec podczas tych okresów powstaje duzy moment starajacy sie zgiac caly uklad. Po przeciwnej stronie suportu lampy jest don przytwierdzony przeciwciezar 88, wytwarzajacy moment o przeciwnym znaku i tej samej wielkosci w stosunku do walka napedowego. W wyniku tego na uklad dzialaja tylko sily osiowe przenoszone przez walek napedowy do ramy urzadzenia, które je pochlania.Dzieki opisanemu nowemu rozwiazaniu zamocowania lampy i ukladu napedowego istnieje mozliwosc napedzanego ruchu suportu lampy zarówno w fazie analizowania kazdego cyklu roboczego, jak i w fazie4 81 004 powrotnej, co pozwala na zastosowanie tak duzych przyspieszen i opóznien suportu, jakich dotychczas nie udalo sie zrealizowac w tego rodzaju urzadzeniach analizujacych.Bezposrednio po plyta znajduje sie suport optyczny 100, umieszczony tak, ze pada nan odbity obraz swietlny przedmiotu lub oryginalu, opartego na plycie. Uklad optyczny sklada sie w zasadzie z obiektywu 18, osadzonego w oprawie 103 oraz z dwóch zwierciadel 19 i 20; wszystkie te elementy mieszcza sie w odlewie 104.Ten ostatni opiera sie dokladnie obrobionymi powierzchniami na dwóch precyzyjnie wykonanych pretach 90 i 91, co umozliwia dokladne ulozyskowanie odlewu w okreslonym polozeniu wewnatrz ramy urzadzenia.Dolny brzeg kazdego ze zwierciadel jest osadzony w gietkim ceowniku 96 (fig. 11) wykonanym z elastome¬ ru lub filcu. Zwierciadla sa zamocowane w odlewie nastawnie w trzech punktach za pomoca urzadzen zaciskowych 93. Jak przedstawiono na fig. 5 i 11, kazde z tych urzadzen zawiera krzywke mimosrodowa 94, która daje sie obracac na czopie 95 osadzonym w odlewie. Element sprezysty 97 jest polaczony funkcjonalnie jednym koncem ze wspomniana krzywka, drugi zas jego koniec podpiera zwierciadlo, stykajac sie z jego tylna strona. Przez obracanie krzywek mozna nastawiac polozenie katowe poszczególnych zwierciadel w stosunku do drogi optycznej ukladu, przy czym rzutowany obraz swietlny przechodzi przez szczeline ekspozycyjna i pada na powierzchnie wirujacego bebna.Obiektyw 18 daje sie przesuwac po dwóch poziomych równoleglych do siebie pretach 105 i 106, osadzonych w górnej czesci odlewu suportu optycznego w sasiedztwie otworu, przez który jest rzutowany obraz.Obiektyw jest osadzony w oprawie 103, ta ostatnia zas z kolei opiera sie za posrednictwem lozysk slizgowych na wspomnianych pretach, przy czym oprawa moze sie swobodnie przesuwac w plaszczyznie w zasadzie równole¬ glej do plaszczyzny plyty 61. Jak widac na fig. 8, jedna strona oprawy obiektywu opiera sie na lozysku mimosrodowym 108, polaczonym z ramieniem nastawczym 109. To ostatnie ma szczeline 113, przez która przechodzi kolek 114, wkrecony w korpus obudowy oprawy. Urzadzenie to umozliwia ustalenie lozyska mimosrodowego w okreslonym polozeniu. Drobna regulacja polozenia obiektywu w kierunku poziomym jest v mozliwa po zluznieniu kolka 114 i obróceniu nastawczego ramienia w zadanym kierunku. Obrót lozyska powoduje wychylenie oprawy dokola preta 106 w celu zmiany polozenia osi optycznej ukladu w kierunku poprzecznym wzgledem powierzchni bebna. Przez podnoszenie lub opuszczanie mozna tak ustawic obiektyw w stosunku do plaszczyzn przedmiotu i obrazu, aby uzyskac najlepsza jakosc tego ostatniego.Jak przedstawiono na fig. 2, na górnej czesci odlewu obudowy suportu optycznego znajduje sie przykrywa 97 zakrywajaca wieksza czesc górnego otworu obudowy. Pokrywa ma otwór 98 do przepuszczenia promieni swietlnych oraz ruchoma mieszkowa przyslone 99 z otworem, przez który z zachowaniem swiatloszczelnosci przechodzi obiektyw. Pozostala czesc obudowy jest równiez swiatloszczelna, tak ze do jej wnetrza dochodzi jedynie swiatlo przepuszczane przez obiektyw. W ten sposób powierzchnia swiatloczula jest chroniona przed zaswietleniem przez swiatlo uboczne, które mogloby przedostac sie przypadkowo do ukladu.Do otworu wyjsciowego dla swiatla w obudowie suportu optycznego sasiadujacego z dolna powierzchnia bebna, przytwierdzona jest szczelinowa oslona swietlna 110 z podluzna szczelina lub otworem 111, przystoso¬ wana do ustawienia poprzecznego w poprzek dolnej czesci powierzchni bebna. Oslona dziala jako ogranicznik wielkosci pola obrazu padajacego na powierzchnie bebna.Obraz oryginalu nie moze byc rzutowany w calosci bezposrednio na powierzchnie swiatloprzewodzaca bebna kserograficznego, gdyz powierzchnia ta jest zakrzywiona, beben zas jest w czasie dzialania urzadzenia w ciaglym ruchu. Celem uzyskania na powierzchni bebna czystego i wyraznego obrazu obiektyw porusza sie i rzutuje ciagly obraz kolejnych odcinków oryginalu na ruchoma powierzchnie bebna podczas analizowania w poprzek plyty. Ruch obiektywu jest zsynchronizowany z ruchem bebna przez uklad napedowy, tak,,ze kolejne odcinki sa prawidlowo ulozone w kolejnosci i po przejsciu przez ogranicznik pola obrazu padaja na beben, tworzac dokladna reprodukcje oryginalu.W celu uzyskania równomiernego oswietlenia oryginalu zródlo swiatla porusza sie jednostajnie w poprzek oryginalu jak opisano wyzej, ruch ten zas jest skoordynowany z ruchami obiektywu i powierzchni bebna. Te synchronizacje i koordynacje ruchów obiektywu w korelacji ze zródlem swiatla i ruchoma powierzchnia bebna uzyskuje sie za pomoca ukladu sterowania obiektywu, zawierajacego krzywke napedowa i uklad dzwigniowy i napedzanego mechanizmem napedowym sprzezonym z walkiem bebna 12.Nawiazujac do fig. 3, dwugarbna krzywka 120 i zwiazany z nia mechanizm napedowy sa napedzane przez walek 12 i zespól zmontowany wewnatrz ramy urzadzenia w odlewie .121. Ramie dzwigni krzywki 122 jest osadzone w odlewie obrotowo na czopie 123 i polaczone funkcjonalnie z jednym koncem ramienia wahacza 125 za pomoca sruby nastawczej 124. Ramie wahacza jest ulozyskowane obrotowo w odlewie 127, przytwierdzonym do dolnej czesci odlewu suportu optycznego za posrednictwem walka 129. Przeciwlegly koniec ramienia wahacza jest polaczony ruchowo z oprawa obiektu za pomoca czlona 130. Podczas pracy rolka krzywki 132 jest doprowadzana do styku z powierzchnia robocza krzywki sila wywierana na ramie wahacza przez sprezyne 126, tak, ze wszelkie przewidziane ruchy krzywki sa za posrednictwem zwiazanego z nia mechanizmu przekazywane81004 5 oprawie obiektu. Czolo kazdego garbu krzywki jest tak uksztaltowane, ze oba garby nadaja oprawie obiektywu ruch obejmujacy jednostajne analizowanie w poprzek plyty i szybki powrót da polozenia poczatkowego.Niniejsze urzadzenie jest tak skonstruowane, ze na kazdy obrót bebna daje dwie kopie, a zatem podczas kazdego obrotu bebna krzywka musi dwukrotnie przeprowadzic oprawe obiektywu ruchem zwrotnym przez caly cykl roboczy. Nalezy jednak zdac sobie sprawe, ze niniejsze urzadzenie nadaje sie doskonale do rzucania na powierzcnnie bebna obrazu dowolna liczbe razy na jeden jego obrót i nie jest ograniczone do przedstawionego tu szczególnego rozwiazania z krzywka dwugarbna. Nalezy zwrócic uwage, ze krzywka steruje ruchy obiektywu zarówno podczas skoku roboczego jak i powrotnego. Nalezy tez zauwazyc, ze urzadzenie optyczne opisanego typu moze byc uzyte do reprodukcji w wielkosci naturalnej, powiekszeniu lub zmniejszeniu. W przypadku reprodukcji w skali 1 :1 obiektyw umieszcza sie w równej odleglosci optycznej od oryginalu i od poruszajacej sie powierzchni bebna. Jezeli potrzebna jest reprodukcja w zmniejszeniu, obiektyw musi byc ustawiony w mniejszej odleglosci optycznej od bebna kserograficznego, niz od oryginalu; w przypadku reprodukcji w powiekszeniu ustawienie musi byc oczywiscie odwrotne.'W opisanej odmianie, z obiektywem ustawionym w polowie drogi optycznej miedzy oryginalem i bebnem kserograficznym, obiektyw musi przesuwac sie o odcinek równy co najmniej polowie dlugosci oryginalu z predkoscia równa po'owie predkosci postepowej powierzchni bebna, podczas gdy zródlo swiatla, przesuwaja¬ ce sie co najmniej o dlugosc oryginalu, porusza sie z taka sama predkoscia jak powierzchnia bebna.Celem dokonania zadanego analizowania powierzchnie krzywek ukladu napedowego obiektywu i walcowej krzywki napedu ukladu lampy sa uksztaltowane tak, ze ruchy krzywek sa wzajemnie powiazane i skoordynowa¬ ne celem napedzania odnosnych ukladów z zadanymi predkosciami. Ruchy obiektywu i lampy sa ponadto powiazane przez dwa odnosne uklady krzywkowe, tak , ze oba te elementy sa szybko cofane do polozenia poczatkowego i koordynowane, w wyniku czego na poczatku kazdego skoku roboczego ruszaja naprzód w scislej zgodnosci. Optyczny uklad analizujacy niniejszego urzadzenia, bedac sprzezonym z walkiem bebna, znajduje sie w ruchu tylko wtedy, gdy porusza sie powierzchnia bebna. Podczas pracy, po wlaczeniu urzadzenia jego uklad logiczny utrzymuje stanowiska obróbki kserograficznej wstanie gotowosci.sPoumieszczeniu na plycie oryginalu ustawia sie na liczniku urzadzenia zadana liczbe kopii i naciska przycisk uruchamiajacy kopiowanie. W tym czasie beben zaczyna sie obracac i utrzymuje sre w tym ruchu do chwili zakonczenia niezbednej liczby cykli analizowania. Gdy licznik kopii dojdzie do nastawionej liczby, urzadzenie wraca do stanu gotowosci, beben zas i uklad analizowania optycznego zostaja ustawione na bieg jalowy. Jest rzecza zrozumiala, ze gdy beben znajduje sie przez dluzszy czas w spoczynku jego powierzchnia sasiadujaca z ogranicznikiem wielkosci pola obrazu jest stale wystawiona na dzialanie ubocznejo swiatla, które przechodzi przez uklad optyczny gdy pokrywa plyty jest uniesiona.Jak zaznaczono wyzej, dluzsze wystawienie powierzchni bebna na dzialanie swiatla moze bardzo niekorzystnie wplynac na jej wlasnosci pod wzgledem przewodnosci swietlnej. Po pewnym czasie ta bardzo czula powierzchnia ulegnie zmeczeniu, co spowoduje nierównomiernosc otrzymywanych reprodukcji. W niniej¬ szym urzadzeniu przewidziano samoczynne zamkniecie oznaczone ogólnie jako 140, które przywiera szczelnie do ekranu swietlnego i zamyka otwór w ograniczniku pola obrazu gdy powierzchnia bebna nie porusza sie.Zamkniecie sklada sie zasadniczo z plaskiej sztywnej plyty 141 o brzegach 142 wywinietych ku górze, prowadzonych suwliwie w korytkach 143. (fig. 9) w sposób zabezpieczajacy przed przenikaniem swiatla.Korytka sa osadzone w dwóch pionowych ramach 145 (fig. 9), przytwierdzonych do spodu ekranu 110.Na dolnej powierzchni zamkniecia zamocowana jest para zebatek 150 przystosowanych do zazebiania sie z para segmentowych kól zebatych 151. Walek 152 jest ulozyskowany obrotowo w blokach lozyskowych 155, .osadzonych w pionowych elementach 145. Segmentowe kola zebate sa zamocowane na walku w okreslonych polozeniach, zapewniajacych zazebienie sie ich z zebatkami przytwierdzonymi do plyty zamkniecia. Walek wystaje poza prawy element 145 jak pokazano na fig. 9 i ma na swym koncu zamocowana korbe 156., Silnik napedowy MOT-1, wbudowany w bocznej czesci odlewu suportu optycznego 104, jest polaczony funkcjonalnie ze wspomniana korba za pomoca pary dzwigni 157 i 158. Podczas obrotu walu silnika o 180° plyta zamkniecia przesuwana jest poprzecznie z zachowaniem swialtoszczelnosci w stosunku do ekranu i zamyka otwór ogranicza¬ jacy wielkosc pola obrazu. Dalszy obrót walu silnika w zakresie nastepnych 180° powoduje cofniecie plyty zamkniecia przez uklad dzwigni laczacych jak pokazano na fig. 4, co umozliwia przejscie swiatla przez ogranicznik pola do powierzchni bebna. Na walku silnika osadzone jest równiez ramie 159 przystosowane do utrzymywania wylacznika 160 w polozeniu zamknietym podczas obrotu silnika o 180°. Wylacznik 160 jest polaczony elektrycznie z urzadzeniem sterujacym 161 (fig. 4) wchodzacym w sklad ukladu logicznego kopiarki.Z chwila osiagniecia przez licznik tego ukladu nastawionej wartosci i zatrzymania sie bebna zostaje do urzadzenia 161 wyslany sygnal elektryczny, powodujacy uruchomienie silnika MOT-1. Silnik obraca sie w nakazanym kierunku do chwili zmiany polozenia wylacznika 160. Jak widac, polozenie to zmienia sie co kazde 180° obrotu walu, co powoduje otwieranie lub zamykanie otworu ogranicznika pola przez zamkniecie.Oznacza to, ze z chwila odbioru sygnlu zmieniajacego polozenie wylacznika silnik powoduje zmiane polozenia zamkniecia na przeciwne.6 81 004 Jakkolwiek niniejszy wynalazek opisano w oparciu o przedstawione rozwiazanie konstrukcyjne, zakres jego nie ogranicza sie do przedstawionych szczególów, a niniejsze zgloszenie ma na celu objecie takich modyfikacji lub zmian, jakie moga sie miescic w ramach ponizszych zastrzezen. PL PL PL PL