PL80243B1 - Melting plating of non-metallic substrates[gb1279685a] - Google Patents
Melting plating of non-metallic substrates[gb1279685a] Download PDFInfo
- Publication number
- PL80243B1 PL80243B1 PL1969135205A PL13520569A PL80243B1 PL 80243 B1 PL80243 B1 PL 80243B1 PL 1969135205 A PL1969135205 A PL 1969135205A PL 13520569 A PL13520569 A PL 13520569A PL 80243 B1 PL80243 B1 PL 80243B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- compound
- metal
- phosphorus
- carbon atoms
- sodium
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 title description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 title 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 title 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 41
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 30
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 17
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000012434 nucleophilic reagent Substances 0.000 claims abstract description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 150000007514 bases Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims abstract description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 2
- -1 phosphorus compound Chemical class 0.000 claims description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 53
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 22
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 19
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical class N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 3
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 2
- 101100347612 Arabidopsis thaliana VIII-B gene Proteins 0.000 claims 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 claims 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical compound OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 19
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 13
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 8
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 abstract description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 7
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 abstract description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000005060 rubber Substances 0.000 abstract description 4
- 239000002023 wood Substances 0.000 abstract description 4
- 239000011111 cardboard Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004568 cement Substances 0.000 abstract description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract description 3
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 3
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 abstract description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 abstract description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N lithium;ethanolate Chemical compound [Li+].CC[O-] AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 2
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- UWKKBEQZACDEBT-UHFFFAOYSA-N CCCC[Mg] Chemical compound CCCC[Mg] UWKKBEQZACDEBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 abstract 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 abstract 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 abstract 1
- IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate Chemical compound CCC[O-] IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 37
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 18
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 18
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 15
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 15
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 14
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 10
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 9
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 6
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 6
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 6
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 5
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 5
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 5
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 5
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 3
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OBSZRRSYVTXPNB-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus Chemical compound P12P3P1P32 OBSZRRSYVTXPNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJGMBLNIHDZDGS-UHFFFAOYSA-N N-Ethylaniline Chemical compound CCNC1=CC=CC=C1 OJGMBLNIHDZDGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021205 NaH2PO2 Inorganic materials 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N butyl formate Chemical compound CCCCOC=O NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 239000012799 electrically-conductive coating Substances 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- IUYHWZFSGMZEOG-UHFFFAOYSA-M magnesium;propane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[CH-]C IUYHWZFSGMZEOG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N octadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- PFTAWBLQPZVEMU-DZGCQCFKSA-N (+)-catechin Chemical compound C1([C@H]2OC3=CC(O)=CC(O)=C3C[C@@H]2O)=CC=C(O)C(O)=C1 PFTAWBLQPZVEMU-DZGCQCFKSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloropropane Chemical compound CC(Cl)CCl KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMYOHQBLOZMDLP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-hydroxy-3-piperidin-1-ylpropoxy)phenyl]-3-phenylpropan-1-one Chemical compound C1CCCCN1CC(O)COC1=CC=CC=C1C(=O)CCC1=CC=CC=C1 DMYOHQBLOZMDLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGXAGETVRDOQFP-UHFFFAOYSA-N 2,6-dihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1C=O DGXAGETVRDOQFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexanoic acid Chemical class CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMKYTRPNOVFCGZ-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1S VMKYTRPNOVFCGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDCGTAAWGJIOW-UHFFFAOYSA-N 2h-indeno[1,2-g][1]benzofuran Chemical compound C1=C2C=CC=CC2=C2C1=C1OCC=C1C=C2 UTDCGTAAWGJIOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNJRNZBXNCPKHQ-UHFFFAOYSA-N 3-methoxyhexane Chemical compound CCCC(CC)OC QNJRNZBXNCPKHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylcyclohexene Chemical compound C=CC1CCC=CC1 BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPIWMDFVPRFCJG-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=CC=C1[Zn]C1=CC=CC=C1C Chemical compound CC1=CC=CC=C1[Zn]C1=CC=CC=C1C KPIWMDFVPRFCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl sulfide Chemical compound CCCCSCCCC HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N Dipropyl sulfide Chemical compound CCCSCCC ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000563924 Mitu Species 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 1
- 229920001079 Thiokol (polymer) Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- YOMVJXWHNWGAMU-UHFFFAOYSA-N [Ag]#P Chemical compound [Ag]#P YOMVJXWHNWGAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZGATMSTTGBAIJ-UHFFFAOYSA-L [O-]OOOOOOOOOOOOO[O-].[Na+].[Na+] Chemical compound [O-]OOOOOOOOOOOOO[O-].[Na+].[Na+] TZGATMSTTGBAIJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLKISOCKGGPANH-UHFFFAOYSA-N acetonitrile;chlorobenzene Chemical compound CC#N.ClC1=CC=CC=C1 QLKISOCKGGPANH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 150000004791 alkyl magnesium halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- JENCOQNWECEFQI-UHFFFAOYSA-N azanide;barium(2+) Chemical compound [NH2-].[NH2-].[Ba+2] JENCOQNWECEFQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUXFWHMUNNXFHD-UHFFFAOYSA-N barium azide Chemical compound [Ba+2].[N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-] UUXFWHMUNNXFHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical class [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LKZCRGABYQYUFX-UHFFFAOYSA-L barium(2+);dithiocyanate Chemical compound [Ba+2].[S-]C#N.[S-]C#N LKZCRGABYQYUFX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BQDSDRAVKYTTTH-UHFFFAOYSA-N barium(2+);methanolate Chemical compound [Ba+2].[O-]C.[O-]C BQDSDRAVKYTTTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HURVAGUSUMZXNB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-diol;urea Chemical compound NC(N)=O.OC1=CC=CC(O)=C1 HURVAGUSUMZXNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJWQKBDLTVGKQE-UHFFFAOYSA-N benzene;cadmium(2+) Chemical compound [Cd+2].C1=CC=[C-]C=C1.C1=CC=[C-]C=C1 VJWQKBDLTVGKQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4-ol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Chemical group 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQNPSCRXHSIJTH-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);carbanide Chemical compound [CH3-].[CH3-].[Cd+2] VQNPSCRXHSIJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAOZEKFIIFTEAW-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);propane Chemical compound [Cd+2].C[CH-]C.C[CH-]C PAOZEKFIIFTEAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLCRXCPXQLBSEM-UHFFFAOYSA-N calcium diisocyanate Chemical compound [Ca++].[N-]=C=O.[N-]=C=O JLCRXCPXQLBSEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMRQTIAUOLVKOX-UHFFFAOYSA-L calcium;diphenoxide Chemical compound [Ca+2].[O-]C1=CC=CC=C1.[O-]C1=CC=CC=C1 ZMRQTIAUOLVKOX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JHLCADGWXYCDQA-UHFFFAOYSA-N calcium;ethanolate Chemical compound [Ca+2].CC[O-].CC[O-] JHLCADGWXYCDQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005392 carboxamide group Chemical group NC(=O)* 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- ADRVNXBAWSRFAJ-UHFFFAOYSA-N catechin Natural products OC1Cc2cc(O)cc(O)c2OC1c3ccc(O)c(O)c3 ADRVNXBAWSRFAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005487 catechin Nutrition 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 1
- XDPCFUNJJWMBFH-UHFFFAOYSA-N cesium;ethanolate Chemical compound [Cs+].CC[O-] XDPCFUNJJWMBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGUQDUKBUKFFRO-UHFFFAOYSA-N chembl3184098 Chemical class ON=C(C)C(C)=NO JGUQDUKBUKFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N chloric acid Chemical compound OCl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005991 chloric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229950001002 cianidanol Drugs 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid Chemical class OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007799 cork Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- LEKSIJZGSFETSJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;lithium Chemical compound [Li]C1CCCCC1 LEKSIJZGSFETSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000005534 decanoate group Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- SSVFMICWXDVRQN-UHFFFAOYSA-N ethanol;sodium Chemical compound [Na].CCO SSVFMICWXDVRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAFWKDXOUWXCDP-UHFFFAOYSA-N ethenylurea Chemical compound NC(=O)NC=C FAFWKDXOUWXCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071870 hydroiodic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 208000014674 injury Diseases 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001702 kydex Polymers 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N lithium methoxide Chemical compound [Li+].[O-]C JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940062135 magnesium thiosulfate Drugs 0.000 description 1
- VXWPONVCMVLXBW-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;iodide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[I-] VXWPONVCMVLXBW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TZKHCTCLSRVZEY-UHFFFAOYSA-L magnesium;dioxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [Mg+2].[O-]S([O-])(=O)=S TZKHCTCLSRVZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JESHZQPNPCJVNG-UHFFFAOYSA-L magnesium;sulfite Chemical compound [Mg+2].[O-]S([O-])=O JESHZQPNPCJVNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKUUVVYMPUDTGJ-UHFFFAOYSA-N methyl 5-hydroxy-4-methoxy-2-nitrobenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(O)=C(OC)C=C1[N+]([O-])=O ZKUUVVYMPUDTGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000012764 mineral filler Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBEGHXKAFSLLGE-UHFFFAOYSA-N n-phenylnitramide Chemical compound [O-][N+](=O)NC1=CC=CC=C1 VBEGHXKAFSLLGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005609 naphthenate group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NLEUXPOVZGDKJI-UHFFFAOYSA-N nickel(2+);dicyanide Chemical compound [Ni+2].N#[C-].N#[C-] NLEUXPOVZGDKJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- SNICXCGAKADSCV-UHFFFAOYSA-N nicotine Chemical compound CN1CCCC1C1=CC=CN=C1 SNICXCGAKADSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940074355 nitric acid Drugs 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N nitrous oxide Inorganic materials [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 229940038384 octadecane Drugs 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M octanoate Chemical class CCCCCCCC([O-])=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003209 petroleum derivative Substances 0.000 description 1
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M phenylmagnesium bromide Chemical compound Br[Mg]C1=CC=CC=C1 ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960004838 phosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCDGRLYFXMYHQB-UHFFFAOYSA-N potassium;diethylazanide Chemical compound [K+].CC[N-]CC WCDGRLYFXMYHQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGJADVGJIVEEGF-UHFFFAOYSA-M potassium;phenoxide Chemical compound [K+].[O-]C1=CC=CC=C1 ZGJADVGJIVEEGF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012255 powdered metal Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 1
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 1
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 1
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015424 sodium Nutrition 0.000 description 1
- QUVTUTZDQBDMFW-UHFFFAOYSA-N sodium ethylazanide Chemical compound [Na+].CC[NH-] QUVTUTZDQBDMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NESLWCLHZZISNB-UHFFFAOYSA-M sodium phenolate Chemical compound [Na+].[O-]C1=CC=CC=C1 NESLWCLHZZISNB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KJQQIRJBMLCRRL-UHFFFAOYSA-N sodium propylazanide Chemical compound [Na+].CCC[NH-] KJQQIRJBMLCRRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZWQDAUIUBVCDD-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenethiolate Chemical compound [Na+].[S-]C1=CC=CC=C1 RZWQDAUIUBVCDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HSFQBFMEWSTNOW-UHFFFAOYSA-N sodium;carbanide Chemical group [CH3-].[Na+] HSFQBFMEWSTNOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJTRRNALUYKHQE-UHFFFAOYSA-N sodium;diphenylmethylbenzene Chemical compound [Na+].C1=CC=CC=C1[C-](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UJTRRNALUYKHQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTNNIXSCSYFNFP-UHFFFAOYSA-N strontium;dicyanide Chemical compound [Sr+2].N#[C-].N#[C-] WTNNIXSCSYFNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- ZWZVWGITAAIFPS-UHFFFAOYSA-N thiophosgene Chemical compound ClC(Cl)=S ZWZVWGITAAIFPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000008733 trauma Effects 0.000 description 1
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical class NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-M valerate Chemical class CCCCC([O-])=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 235000013311 vegetables Nutrition 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical class [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NMLXKNNXODLJIN-UHFFFAOYSA-M zinc;carbanide;chloride Chemical compound [CH3-].[Zn+]Cl NMLXKNNXODLJIN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/2006—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
- C23C18/2046—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
- C23C18/2053—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment only one step pretreatment
- C23C18/206—Use of metal other than noble metals and tin, e.g. activation, sensitisation with metals
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M11/00—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with inorganic substances or complexes thereof; Such treatment combined with mechanical treatment, e.g. mercerising
- D06M11/83—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with inorganic substances or complexes thereof; Such treatment combined with mechanical treatment, e.g. mercerising with metals; with metal-generating compounds, e.g. metal carbonyls; Reduction of metal compounds on textiles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
Uprawniony z patentu: Hooker Chemicals and Plastics Corporation, Niagara Falls (Stany Zjednoczone Ameryki) Sposób metalizowania przedmiotów wykonanych z tworzywa niemetalicznego Przedmiotem wynalazku jest sposób metalizowa¬ nia przedmiotów wykonanych z tworzywa nieme¬ talicznego w celu uczynienia powierzchni tych przedmiotów podatnymi do wytwarzania na nich znanymi sposobami nieelektrycznymi lub elektroli¬ tycznymi powlok metalowych.Ostatnio wzrasta znacznie zapotrzebowanie na przedmioty, zwlaszcza niekosztowne przedmioty z tworzyw sztucznych, majace powierzchnie meta¬ lizowane. Przedmioty takie stosuje sie szeroko w przemysle motoryzacyjnym, do wyrobu urzadzen stosowanych w gospodarstwie domowym oraz w przemysle radiowym i telewizyjnym, jak równiez do wyrobu ozdobnych pojemników itp.Znane sposoby metalizowania przedmiotów z tworzyw sztucznych obejmuja, na przyklad po¬ krywanie przedmiotów lakierem czy szelakiem i na¬ stepnie sproszkowanym metalem w celu wytwo¬ rzenia przewodzacej warstwy i nastepnie galwani¬ zowanie przedmiotu, rozpylanie warstwy metalicz¬ nej za pomoca pistoletu, rozpylanie katodowe, osa¬ dzanie na powierzchni przedmiotu odparowywane¬ go metalu w komorach prózniowych, redukcje che¬ miczna zwiazków metali na pokrywanych po¬ wierzchniach oraz platerowanie. Wszystkie te spo¬ soby poza szeregiem zalet posiadaly równiez wady.Byly, albo drogie, albo dawaly nierównomierne powloki, które ulegaly zluszczaniu.Jedna z najstarszych, ale jednoczesnie najlep¬ sza ze znanych metod wykorzystywana do pokry- 25 30 wania mas plastycznych jest proces chemicznej redukcji. Polega na tym, ze na oczyszczonej po¬ wierzchni przeznaczonej do metalizowania tworzy sie cienka powloke ze srebra (lub miedzi) na dro¬ dze redukowania zwiazku metalu za pomoca czyn¬ nika redukujacego. W praktyce wykonywano to nastepujaco. Oczyszczono dokladnie przedmiot nie¬ metaliczny, nastepnie zanurzono w roztworze bia¬ lego fosforu rozpuszczonego w dwusiarczku wegla.Po wyjeciu przedmiotu z kapieli odczekiwano, az odparuje dwusiarczek wegla, a nastepnie szybko pokrywano przedmiot azotanem srebra, który na¬ tychmiast ulegal redukcji tworzac warstwe srebra na powierzchni. Stosowania tej metody musiano je¬ dnakze poniechac ze wzgledu na niebezpieczna prace z bialym fosforem, substancja palna, powo¬ dujaca zatrucia i trudno gojace sie poparzenia oraz ze wzgledu na toksycznosc dwutlenku siarki.Stosowano równiez metode wykorzystywana przy produkcji luster. Roztwory tlenku srebra reduko¬ wano za pomoca takich zwiazków jak formaldehyd, cukier gronowy czy sól Seignetta. Oczyszczony przedmiot polewano jednoczesnie roztworem za¬ wierajacym srebro i roztworem zwiazku redukuja¬ cego. Po krótkim czasie srebro ulegalo redukcji tworzac na przedmiocie powloke. Równiez ten spo¬ sób nie byl wolny od wad. W miejscach podtrzy¬ mywania przedmiotu nie uzyskiwano przewodza¬ cej powloki, a poza tym towarzyszyly takiej obrób¬ ce duze straty srebra. 80 24380243 Wynalazek ma na celu opracowanie sposobu me¬ talizowania przedmiotów wykonanych z róznego ro¬ dzaju tworzyw niemetalicznych, jst zwlaszcza po¬ limerów termoplastycznych.Sposób wedlug wynalazku umozliwia wytwarza¬ nie powloki metalowej silnie przylegajacej, nie ule¬ gajacej luszczeniu sie, dzialaniu podwyzszonej tem¬ peratury i korozji. Powloki wytworzone tym spo- sobem sa przewodnikami, przy czym elektrycznosc statyczna ulega latwo rozproszeniu z tych po¬ wierzchni. Powloki te chronia przedmioty przed scieraniem, zadrapywaniem i innymi mechaniczny¬ mi uszkodzeniami powierzchni, zmniejszaja ich po¬ rowatosc i zwiek&zaja przewodnictwo cieplne. Spo¬ sób wedlug wynalazku jest stosowany przy wy¬ twarzaniu luster, urzadzen do przechowywania wody i innych cieczy oraz do wytwarzania ochron¬ nych powlok na obudowach, pojazdach mechanicz¬ nych ladowych i wodnych, na slupach sieci ener¬ getycznych, slupach oswietlenia ulicznego, do re¬ gulowania przewodnictwa cieplnego odziezy oraz scian budynków itp.Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze przedmiot poddaje sie dzialaniu zwiazku fosforu o niskim stopniu utleniania, w celu osadzenia te¬ go zwiazku na powierzchni przedmiotu, po czym na te powierzchnie dziala sie roztworem soli me¬ talu lub zwiazku kompleksowego, wytwarzajac po¬ wloke metalo-fosfiorowa. Nastepnie przedmiot z po¬ wloka metalo-fosforowa poddaje sie procesowi gal- wanizacji, w celu wytworzenia przylegajacej po¬ wloki metalicznej, ewentualnie przedmiot z po¬ wloka metalo-fosforowa pokrywa sie przewodza¬ ca powloka metalowa sposobem nieelektrycznym i nastepnie galwanicznie na tej przewodzacej powloce wytwarza przylegajaca powloke metalowa o zadanej grubosci.Sposób wedlug wynalazku nadaje sie do meta¬ lizowania przedmiotów niemetalicznych, wykona¬ nych z tworzyw sztucznych, z materialów celulo¬ zowych i ceramicznych, takich jak materialy wló¬ kiennicze, papier, drewno, korek, tektura, glina, porcelana, skóra, szklo porowate, cement azbesto¬ wy itp. Typowymi przykladami tworzyw sztucznych, do których stosuje sie sposób wedlug wynalazku, sa hemopoHmery i kopolimery etylenowe niena¬ syconych weglowodorów alifatycznych, alicyklicz- nych i aromatycznych, takie jak: kopolimery polie¬ tylenu, polipropylenu, polibuitanu i etylenopropy- lenu, kopolimery etylenu ltib propylenu z innymi olefinami, poMibutadien, polimery butadienu, poli- izoprenu, naturalne i syntetyczne, polistyren i po¬ limery pentenu, heksenu, heptenu, oktenu, 2-me- tylopropenu, 4-metylotieksenu-l, dwucyklo-(2,2,l)-2- -heptenu, pentadienu, heksadienu, 2,3-dwumetylo- butadienu, 1,3,4-winylocykloheksenu, cyklopentadie- nu, metyllostyrenu itp.Mozna równiez stosowac zywice poliindenowe, indenokumaronowe, polimery chlorowcoetylenu, ta¬ kie jak policzterofluoroetylen i polimonochlorotrój- fluoroetylen, polimery estrów kwasu akrylowego i estrów kwasu metakrylowego, zywice akrylowe i metakrylowe, takie Jak ester etylowy kwasu akry¬ lowego, ester n4utylowy kwasu metakrylowego, ester izobutylowy kwasu metakrylowego, ester ety¬ lowy kwasu metakrylowego i ester metylowy kwasu metakrylowego, zywice alktdowe, pochodne celulozy, takie jak octan celulozy, acetyiomaslan celulozy, azotan celulozy, etyloceluloza, hydroksyetyloceluloza, 5 metyloceluloza, sól sodowa kartoksymetylocelulozy, zywice epoksydowe, zywice furazowe {alkohol fur- furylowy lub furfureloketon), zywice weglowodoro¬ we z ropy naftowej, zywice izobutylonowe (poli¬ izobutylen), zywice izocyijanianowe (poliuretany), 10 zywice melaminowe, takie jak zywica melamino- -formaWehydtoiWa i melamiaio^moczniiko-fonmaldehy- dowa, zywice olejowe, fenolowe, na przyklad fenolo- -formaldehydowe, fenolo-elastomery, epoksyfenole, fenolo-poliamidy, acetale fenolo-winylowe, polime- 15 ry poliamidowe, takie jak poliamidy, epoksy-polia¬ midy, a zwlaszcza dlugolanouchowe, syntetyczne po¬ limery amidowe, zawierajace powtarzajace sie gru¬ py karboksyamidowe jako elementy glównego lan¬ cucha, zywice poliestrowe, takie jak nienasycone 20 poliestry kwasów dwuzasadowych i zwiazków dwu- wodorotlenowych, zywice poliestrowe, elastomerowe i rezorcynowe, takie jak rezorcyno-formaldehydowe, rezorcyno-furfuralowe, irezorcynofenolo-formaldehy- dowe, rezorcyno-poliamidowe i rezorcyno-moczni- 25 kowe, kauczuk naturalny i syntetyczny, syntetyczny poliizopren, kauczuk regenerowany, kauczuk chloro¬ wany, polibutadien, kauczuk cyklizowany, kauczuk butadieno-akrylonitrylowy, kauczuk butadieno-sty- renowy, butylo-kauczuk, kauczuk neoprenowy (po- 30 lichloropren), polisiarczki (tiokol), zywice terpeno¬ we, mocznikowe i winylowe, takie jak polimery wi- nyloacetalu, octanu winylu lub kopolimery alkoholu winylowego i octanu winylu, alkohol winylowy, chlorek winylu, winylobutyrol, kopolimer chlorku 35 winylu i octamiu winylu, kopolimer wiinylopirolidonu i chlorek winylidenu, poliformaldehyd, tlenek poli- fenyilenu, polimery dwualililoftalanów i ftalanów, poliweglany fosgenu lub tiofosgenu, zwiazki dwu- . wodorotlenowe, takie jak dwufenole, termoplastycz- 40 ne polimery dwufenoli i epichlorohydryny, kopoli¬ mery szczepione i polimery nienasyconych weglo¬ wodorów z nienasyconym monomerem, takie jak szczepione kopolimery polibutadienu, styrenu i a- krylomitrylu, zywice ABS, polimery ABS — chlo- 45 rek poliwinylu, znane pod nazwa Cycovin oraz po¬ limery chlorku akrylo-poliwinylu, znane pod nazwa Kydex 100.Zgodnie z wynalazkiem mozna stosowac polimery bez wypelniaczy lub z wypelniaczaimi, takimi jak 50 wlókno szklane, sproszkowane szklo, ziarno szkla¬ ne, azbest, talk i inne wypelniacze mineralne, ma¬ ka drzewna i inne wypelniacze roslinne, wegiel w róznych postaciach, barwniki, pigmenty, woski itp. Jezeli jako wypelniacz stosuje sie wosk, to 55 korzystnie jest stosowac wosk twardy, gdyz wy¬ tworzona powloka lepiej przylega do przedmiotu.Przedmioty poddawane metalizacji wedlug wy¬ nalazku moga miec rózna postac fizyczna, na przyklad moga tworzyc ksztaltki, platy, prety, 60 wlókna, blony i materialy wlókniste.Wedlug wynalazku, przedmiot poddaje sie dzia¬ laniu co najmniej jednego zwiazku fosforu o nis¬ kim stopniu utlenienia, korzystnie w srodowisku rozpuszczalnika. Zwiazek fosforu o: niskim stop- 65 niu utlenienia, to jest nizszym niz 5, czyli o licz-80 243 nianie powierzchni tworzywa sztucznego i wnika- bie utlenienia —3 do +3, wytwarza sie przez reakcje pierwiastkowego fosforu, korzystnie fosforu bialego, jak równiez zanieczyszczonego fosforu tech¬ nicznego, zwanego zóltym, z odpowiednim odczyn¬ nikiem nukleofilowym lub zwiazkiem organometa- licznym, takze i zwiazkiem Grignarda.Odpowiednimi zwiazkami nukleofilowymi sa zwiazki zasadowe, majace wolna pare elektronów przy atomie wegla, tlenu, azotu, siarki lub fosforu.Korzystnymi reagentami nukleofilowymi sa zwiaz¬ ki o wzorze MZy, w którym M oznacza metal al-* kaliczny (grupa I A) lub metal ziem alkalicznych (grupa II A), y oznacza liczbe 1 lub 2, a Z ozna¬ cza gnupe wodorotlenowa, alkoholanowa, amidowa siarczynowa, tiosiarczanowa, merkaptydowa, cyja- nianowa, tiocyjanianowa, cyjankowa, azydlfcowa itp.Zwiazki organometaliczne stosowane wedlug wy¬ nalazku maja ogólny wzór RXD, w którym D ozna¬ cza metal z grupy I A, II lub III A okresowego ukladu pierwiastków, x oznacza liczbe 1—3, a R oznacza rodnik alkilowy o 1—18 atomach wegla, rodnik arylowy o 6—18 atomach wegla, rodnik ali- cykliczny o 5—18 atomach wegla, rodnik aralkiló- wy o 6—18 atomach wegla lub rodnik aUkOoarylo- wy o 6—18 atomach wegla* Rodniki te moga byc ewentualnie podstawione chlorowcem, grupami ni¬ trowymi lub innymi podstawnikami. Przykladami tych zwiazków organometalicznych sa: dwu-(n-bu- tylo)4cadm, dwufenylo-kadm, dwumetylo-kadm, dwuizopropylo-kadm, dwu-(p-nitrofenylo)- -kadm, trójfenylometylo-sód, dwuanilino-kadm< dwuetylo-cynk, dwu-(o-tolilo)-cynk, chlorek metylo- cynk, fenylo-liit, butylo-lit, cykloheksylo-lit, trójety- lo-glinitp. ^ Jako zwiazki organometaliczne stosuje sie wedlug wynalazku równiez znane zwiazki Grignarda, na przyklad halogenki alkilomagnezowe, takie jak jo¬ dek metylomagnezowy, bromek etylomagnezowy, chlorek n-propylomagnezowy, chlorek izopropylo- magnezowy, bromek fenylomagnezowy itp.Zgodnie z wynalazkiem jako wodorotlenek sto¬ suje sie na przyklad wodorotlenek sodowy, pota¬ sowy, litowy, cezowy, magnezowy, strontowy, wap¬ niowy, barowy itp., a jako alkoholany stosuje sie alkohole lub fenole, w których atom wodoru w grupie wodorotlenowej jest zastapiony przez metal.Zwiazki te maja ogólny wzór M(ÓR)y, w którym M, y i R maja wyzej podane znaczenie. Alkohol lub fe¬ nol, od których zwiazki te sa wyprowadzone moze byc podstawiony rodnikiem wodorotlenowym, atomami chlorowca, grupami nitrowymi itp. Przykladami ta¬ kich zwiazków sa: metanolan lito, etanolan litu, me- tanolan lub etanolan sodu, metanolan lub etanolan potasu, etanolan cezu, metanolan baru, etanolan wapnia, pentadekanolan sodu, fenolan sodu, feno- lan potasu, fenolan wapnia, chlorofenolan sodu, potasu lub baru, fenylan sodu, potasu lub magnezu, p-nitrofenolan sodu lub wapnia, fl-maftolan sodu, potasu lub wapnia itp.Jako amidlki metali stosuje sie zwiazki o wzorze MZy, w których Z oznacza grupe o wzorze R'R"N-f w którym R' i R" oznaczaja atomy wodoru lub rodnik R albo grupe o wzorze R—C—O, w któ¬ rym R ma wyzej podane znaczenie. Przykladami tych amidów sa: amidek sodu, potasu, litu, cezu, magnezu, wapnia lub baru, a-nilid sodu, nitroaniHd potasu, chloroanilid wapnia, etyloamid sodu* dwu- etyloamid potasu, propyloamid sodu, cyklopentylo- 5 amid sodu, N-acetyloamid sodu itp.Jako siarczyny li tiosiarczany stosuje sie na przy¬ klad siarczyn sodu, potasu, litu, wapnia, baru, ma¬ gnezu tiosiarczan sodu, potasu, wapnia, baru, mag¬ nezu itp., zas jako merkaptydy stosuje sie, na io przyklad metylomerkaptyd sodu, etylomerkaptyd potasu, propylomerkaptyd cezu, butylomerkaptyd wapnia, oktytomerkaptyd baru, fenylomerkaptyd sodu, nitrofenylomerkaptyd potasu, chlorofenylo¬ merkaptyd wapnia, tiolikrmerkaptyd sodu, p-etylo- 15 fenylomerkaptyd potasu itp. Jako cyjaniany, tio- cyjaniany, cyjanki i azydki stosuje sie na przyklad cyjanian sodu, potasu, baru lub wapnia, tiocyja- nian sodu, potasu, litu, magnezu lub baru, cyja¬ nek sodu, potasu lub strontu, azydek sodu, pota- 20 su, baru itp.Wedlug wynalazku, fosfor poddaje sie reakcji ze zwiazkiem mdcleofilowym lub organometalicz- nym w stosunku molowym fosforu do reagentu wynoszacym od 100:1 do 1:100, a korzystnie 10:1 25 do 1:10. Reakcje prowadzi sie zazwyczaj w tem¬ peraturze nizszej od temperatury rozkladu nukleo- filowego reagentu lub zwiazku organometalicznego i w temperaturze nizszej od temperatury wrzenia rozpuszczalnika, jezeli proces prowadzi sie w sro- 30 dowi&ku rozpuszczalnika. Korzystnie reakcje te prowadzi sie w temperaturze od —20°C do okolo 200°C, a zwlaszcza w temperaturze okolo 0—60°C.Czas trwania reakcji zalezy od rodzaju uzytego reagentu nukleofilowego lub zwiazku organometa- 35 licznego, rozpuszczalnika i temperatury i przewaz¬ nie wynosi od 1 minuty do 24 godzin.Otrzymane zwiazki fosforu o niskim stopniu utlenienia stosuje sie zwykle w srodowisku roz¬ puszczalnika, przy czym mozna poddawac reakcji 40 fosfor ze zwiazkiem nukleofiilowym lub organome- talicznym w rozpuszczalniku lub tez bez rozpusz¬ czalnika i otrzymany prodidot mieszac z rozpusz¬ czalnikiem. Na przyklad mozna poddawac reakcji fosfor z etanolanem sodu i mieszac z etanolem. 45 W podobny sposób mozna prowadzic reakcje fosforu z mieszanina zwiazków nukleofilowych w znanym rozpuszczalniku, albo poddawac fosfor kolejno reakcji z poszczególnymi zwiazkami i la¬ czyc otrzymane produkty. Jako rozpuszczalniki 50 lub rozcienczalniki stosuje sie rozpuszczalniki lub ich mieszaniny rozpuszczajace zwiazki fosforu ale nie reagujace z nimi tak, ze aktywnosc zwiazków moglaby byc zmniejszona. Mozna ewentualnie sto¬ sowac rozpuszczalniki zmniejszajace lub niweczace 55 powoli aktywnosc zwiazków fosforowych, jezeli równoczesnie maja one wlasciwosci kompensuja¬ ce straty aktywnosci, na przyklad jezeli powoduja one specznianie powierzchni obrabianego tworzy¬ wa. eo Korzystnie stosuje sie rozpuszczalniki obojetne lub slabo kwasne, polarne lub niepolarne, a zwlaszcza o wlasciwosciach silnie solwatujacych, protyczne lub dwupolarne aprotyazne. Bardzo od¬ powiednie sa rozpuszczalniki powodujace specz- 65 nianie powierzchni tworzywa sztucznego i wnika-80 243 8 jace pod te powierzchnie bez jej uszkadzania.Przykladami odpowiednich rozpuszczalników lub rozcienczalników sa zwiazki alifatyczne lub aro¬ matyczne zawierajace do 30 atomów wegla, a mia¬ nowicie weglowodory, etery, tioetery, zwiazki kar- bonylowe, takie jak estry i ketony, zwiazki zawie¬ rajace azot, takie jak amidy, aminy, nitryle i ni- trozwiazM, alkohole, fenole, merkaptazy i zwiazki chlorowcowe. Przykladami alkoholi sa: metanol, etanol, propanol, butanol, oktanol, dekanol, alkohol benzylowy, cykloheksanol, glikol etylenowy, glice¬ ryna itp. Przykladami weglowodorów aromatycz¬ nych o 6—18 atomach wegla, sa benzen, toluen, ksylen, etylobenzen, naftalen, tetralina itp., a przykladami eterów sa: eter metylowy, etylowy, propylowy, izo¬ propylowy, metylo-III-rzed. butylowy, 3-metoksy- heksan, anizol, karbitol, tlenek dwufenylu itp. Ja¬ ko alkany o 1—18 atomach wegla stosuje sie na przyklad metan, etan, propan, heksan, oktan, de- kan, oktadekan, cyklopentan, cykloektatetraen.Przykladami innych rozpuszczalników sa: siarczek dwupropylu, siarczek dwubutylu, sulfotlenek dwu- metylu, czterowodorotiofen, mrówczan butylu, oc¬ tan metylu, octan etylu, octan benzylu, weglan fe¬ nylu, formamid, dwumetyloformamid, amid kwasu octowego, N-metylo-2^pirolidon, aceton, nitroben¬ zen, monochlorobenzen, acetofenon, izoforon, cztero- wodorofuran, chlorowcowane weglowodory, takie jak chloroform, czterochlorek wegla, trójchloroety¬ len, trójchloroetan, dwuchloropropan, dwubromek etylu, chlorobromek etylu, anilina, heksyloamina, acetonitryl, benzonitryl, szesciometylofosfbroamid, dodecylomerkaptan, fenol, rezorcyna, katechina, hy¬ drochinon, p-III-irzed. butylofenol, p-chlorofenol, p-fenylofenol, krezol, tiofenol, merkaptofenol itp.Stezenie zwiazku fosforu o niskim stopniu utle¬ nienia, w przeliczeniu na fosfor, wynosi od okolo 0,0001% az do roztworu nasyconego, a korzystnie 0,01—0,5% w stosunku wagowym do ilosci roztworu, W wyniku traktowania zwiazkiem fosforu o nis¬ kim stopniu utlenienia, zwiazek ten odklada sie na powierzchni traktowanego przedmiotu, przy czym moze on równiez przenikac w glab tworzy¬ wa. Proces odkladania sie zalezy w pewnej mie¬ rze od rodzaju zastosowanego rozpuszczalnika, a mia¬ nowicie od dzialania rozpuszczalnika na tworzywo.Przed poddaniem dzialaniu zwiazków fosforu o niskim stopniu utlenienia powierzchnia przedmio¬ tu powinna byc oczyszczona. Nie jest jednak ko¬ nieczne stosowanie specjalnego wytrawiania czy polerowania. Dzialanie zwiazkami fosforu prowa¬ dzi sie zwykle w temperaturze nizszej od tempe¬ ratury mieknienia tworzywa i ponizej temperatu¬ ry wrzenia rozpuszczalnika. Zwykle stosuje sie temperature od okolo —30°C do okolo 135°, a ko¬ rzystnie okolo 15—100°C. Czas trwania procesu za¬ lezy od rodzaju tworzywa, rozpuszczalnika i tem¬ peratury procesu i zwykle wynosi od 1 sekundy do 1 godziny lub dluzej, a korzystnie 1—10 minut.Po potraktowaniu zwiazkiem fosforu przedmiot plucze sie rozpuszczalnikiem, suszy w atmosferze obojetnego gazu, takiego jak azot, dwutlenek we¬ gla itp. albo za pomoca napromienników lub w inny znany sposób. Czas suszenia wynosi od 1 se¬ kundy do 30 minut, korzystnie od 5 sekund do 10 minut, a najkorzystniej 5—120 sekund. Plukanie i suszenie nie sa zabiegami istotnymi dla przebiegu procesu wedlug wynalazku. Nastepnie traktowany przedmiot magazynuje sie lub poddaje dalszej fa- 5 zie procesu.W drugiej fazie procesu wedlug wynalazku, na przedmiot poddany uprzednio dzialaniu zwiazku iosforu dziala sie roztworem soli metalu lub kom¬ pleksowa sola metalu, która ma zdolnosc reago- io wania ze zwiazkiem fosforu o niskim stopniu utle¬ nienia, tworzac metalofosfiorowa powloke, to jest powloke utworzona na powierzchni obrabianego przedmiotu. Powloka ta moze miec charakter zwiazku jonowego lub roztworu (stopu). Jako me- 15 tale stosuje sie pierwiastki z grupy I B, II B, IV B, V B, VI B, VII B i VIII B okresowego ukladu pierwiastków, podanego na str. 60—61 dziela Lan¬ gego Hanbook of Chemistry, wydanie 10. Korzyst¬ nie stosuje sie sole takich metali jaik miedz, srebro, 20 zloto, chrom, mangan, kobalt, nikiel, pallad, tytan, cyrkon, wanad, tantal, kadm, wolfram, molibden, itp. Sole te moga zawierac rózne aminy, na przy¬ klad kwasów nieorganicznych, takich jak kwas siarkowy, soln,y bromowodorowy, jodowodorowy, 25 fluorowodorowy, azotowy, fosforowy, chlorowy, nad¬ chlorowy, borowy, weglowy, cyjanowodorowy itp.Mozna tez stosowac sole kwasów organicznych, takie jak mrówczany, octany, cytryniany, masla¬ ny, waleriany, kapryniany, heptylany, kaprylany, 30 nafteniany, 2-etylokaproniany, cynamoniany, ste¬ aryniany, oleiniany, palmitymiany, dwumetyloglio- ksymy itp. Ogólnie biorac kwasy organiczne sto¬ sowane w tym celu zawieraja 1—18 atomów wegla.Korzystnie stosuje sie na przyklad siarczan miedzi, 35 chlorek miedzi, azotan srebra lub cyjanek niklu.Mozna tez stosowac kompleksy soli ze zwiazkiem który daje roztwór o wartosci pH wiekszej niz 7.Szczególnie nadaja sie do tego celu amoniakalne kompleksy soli metalicznych, w których z sola 40 metalu zwiazane jest 1—6 czasteczek amoniaku.Przykladami takich kompleksów sa: NiS04, 6NH3? N1C12-6NH8, Ni(C2H800)2-6NH8, CuS04-6NH3, CuCl2-6NH3, AgN(V6NH8, NiS04-3NH8, CuS04- •4NH3, Ni(N08)2*4NH8 itp. Mozna tez stosowac 45 kompleksy zawierajace chinoline, aminy lub pirydy¬ ne. Korzystne sa takze zwiazki kompleksowe o wzorze MX2Oi, w którym M oznacza jon metalu, X oznacza atom chloru lub bromu, a Q oznacza chinoline. Przykladami takich zwiazków sa: Co 50 C12Q2, CoBr2Q2, NiCl^, NiBr2Q2, NiJ2Q2, MnCl*Q2, CuCl2Q2, CuBr2Q2 i ZnCl2Q2, jak równiez odpowia¬ dajace im zwiazki kompleksowe monochinolinowe, takie jak CoCl2Q. Mozna równiez stosowac kom¬ pleksy mono-(etylenodwuaminowe), bis-(etyleno- 55 dwuaminowe), trój-(etyleno-dwuaminowe), bis-(1,2- -propanodwuaminowe) i bis-(l,3-propanodwuamino- we) soli takich jak siarczan miedzi. Przykladami odpo¬ wiednich kompleksów pirydynowych sa: NiClatpyJj i CuCl2(py2, w których py oznacza pirydyne. 60 Wspomniane wyzej sole i ich kompleksy stosuje sie w srodowiskach jonowych, korzystnie w roz¬ tworach wodnych, ale mozna stosowac i inne roz¬ puszczalniki, na przyklad alkohole, takie jak alko¬ hol metylowy, etylowy, butylowy, heptylowy, de- 65 cylowy itp. a takze ich mieszaniny z woda lub80 243 9 10 z innymi rozpuszczalnikami. Stezenie tych roztwo¬ rów wynosi zwykle od okolo 0,1% w stosunku wa¬ gowym, az do stezenia roztworu nasyconego, a ko¬ rzystnie okolo 1—10% wagowych w stosunku do ilosci roztworu. Wartosc pH roztworu wynosi 4— 14, ale ogólnie jest wieksza niz 7 i korzystnie wy¬ nosi okolo 10—13.Reakcje z roztworem soli metalicznej przewaz¬ nie prowadzi sie w temperaturze ponizej tempe¬ ratury mieknienia tworzywa, z którego wytworzo¬ ny jest obrabiany przedmiot i ponizej temperatu¬ ry wrzenia zastosowanego rozpuszczalnika, a mia¬ nowicie przewaznie w temperaturze 30—110°C, a korzystnie 50—100°C. Czas trwania reakcja jest róz¬ ny dla róznych tworzyw, soli metali, temperatury procesu i ,wynosi okolo 1—30 minut, korzystnie 5— 10 minut.W zaleznosci od warunków stosowanych podczas pierwszych dwóch faz sposobu wedlug wynalazku i od rodzaju obrabianego tworzywa, otrzymuje sie powloke przewodzaca, która mozna latwo powle¬ kac galwanicznie znanymi sposobami, lub tez otrzy¬ muje sie powloke nieprzewodzaca. W drugim przy¬ padku obrabiana powierzchnia zawiera aktywne lub katalitycznie dzialajace czynniki, które czynia te powierzchnie podatna na dalsze nieelektryczne platerowanie, w wyniku którego na powierzchni tworzywa powstaje przewodzaca powloka, która mozna nastepnie powlekac galwanicznie za po¬ moca znanych metod.Przedmioty, których powierzchnie potraktowana zwiazkiem fosforu poddano dzialaniu roztworu soli metalu, mozna platerowac metoda nieelektryczna, znana tez pod nazwa metody platerowania che¬ micznego. Polega ona na tym, ze na katalityczna powierzchnie dziala sie roztworem soli metalu w takich warunkach, w których jon metaliczny z soli ulega redukcji do metalu i odklada sie na powierz¬ chni. Kapiel chemiczna, za pomoca której mozna na powierzchni wytworzonej sposobem wedlug wy¬ nalazku wytwarzac powloke z niklu, moze zawie¬ rac, na przyklad roztwór soli niklu w wodnym roztworze podfosforynu. Stosuje sie w tym celu podfosforyny metali alkalicznych, na przyklad so¬ du lub potasu, a takze podfosforyny metali ziem alkalicznych, na przyklad wapnia lub baru. Mozna tez stosowac inne sole metaliczne, wymienione wy¬ zej przy omawianiu dzialania sola metalu na przed¬ miot poddany uprzednio dzialaniu zwiazku fosforu.Jako srodek redukujacy stosuje sie równiez alde¬ hyd mrówkowy, hydrochinon lub hydrazyne. Do kapieli chemicznej mozna równiez dodawac inne srodki, na przyklad substancje buforowe lub da¬ jace kompleksy. Metoda ta jest opisana w Metal Finishing Guidebock Directory, 1967, wydanie Me¬ tals and Plastics Publications, Inc., Westwood N.J.W odmianie sposobu wedlug wynalazku, polega¬ jacej na stosowaniu platerowania nieelektrycznego, sól metalu lub jej kompleks stosuje sie w nie¬ elektrycznej kapieli platerujacej, totez dzialanie roztworem soli metalu lub jej kompleksu na przed¬ miot poddany dzialaniu zwiazków fosforu mozna prowadzic nie jako oddzielna faze procesu, lecz ra¬ zem z nieelektrycznym platerowaniem, jak poda¬ no wyzej.Powlekanie galwaniczne prowadzi sie w znany sposób, przy czym obrabiany przedmiot z reguly stanowi katode, a metal uzyty do powlekania jest w roztworze w kapieli wodnej lub w innym roz- 5 puszczalniku. Przewaznie stosuje sie anode z meta¬ lu, którym powleka sie, ale mozna stosowac takze anode weglowa lub inna obojetna.Sposób wedlug wynalazku jest blizej wyjasnio¬ ny w podanych nizej przykladach, w których, o io ile inaczej nie zaznaczono, czesci i procenty ozna¬ czaja czesci i procenty wagowe.Przyklad I. 0,5 Mola etanolami sodu wy¬ twarza sie przez rozpuszczenie 11,5 g sodu w 300 ml etanolu. Zwiazek fosforu o niskim stopniu utle- 15 nienia wytwarza sie mieszajac w ciagu kilku go¬ dzin w temperaturze pokojowej mieszanine 0,5 mo¬ la bialego fosforu z roztworem etanolanu sodu.W otrzymanym roztworze zanurza sie próbki po¬ liuretanu, szczepionego kopolimeru polibutadienu, 20 styrenu i akrylonitrylu nylu.Po uplywie 3 minut w temperaturze pokojowej próbki wystawia sie na dzialanie powietrza w ciagu 5 minut, plucze woda i zanurza w nieele- 25 ktrycznej kapieli, wytworzonej z 40 ml wody, 10 ml 28% NH4OH, 1,8 g NiCl2-6H20 i 1 g NaH2P02.Po uplywie 2 minut na próbkach tworzywa otrzy¬ muje sie przylegajaca powloke przewodzaca ele¬ ktrycznosc. Przewodnictwo otrzymanych próbek wy- 30 nosi 0—20 omów na 0,75 cm.Przyklad II. Zwiazek fosforu o niskim stop¬ niu utlenienia wytwarza sie z bialego fosforu i etanolanu sodu w sposób opisany w przykladzie 1 i w roztworze o temperaturze pokojowej zanu- 35 rza na okres 30 sekund próbki poliuretanu. Prób¬ ki te plucze sie nastepnie woda w ciagu 30 se¬ kund i zanurza w 5% roztworze amoniakalnym chlorku niklawego o temperaturze pokojowej na okres 10 minut. Próbke z utworzona przylegajaca 40 powloka niklowo-fosforowa plucze sie woda w ciagu 30 sekund i zanurza w nieelektrycznej ka¬ pieli, zawierajacej 100 ml NH4OH, 1,0 g NaH2P02 i 50 ml roztworu, wytworzonego przez rozpuszcze¬ nie 15 g NiCl2-6H20 w 300 ml wody. Po uplywie 45 95 sekund na próbce poliuretanowej powstaje przylegajaca powloka przewodzaca elektrycznosc.Przyklad III. Zwiazek fosforu o niskim stop¬ niu utlenienia wytwarza sie z 1 mola etanolanu sodu, 1 mola zóltego fosforu i 600 ml etanolu. 50 Próbke tworzywa ABS umieszcza sie w otrzyma¬ nym roztworze o temperaturze pokojowej na okres 2 minut, a nastepnie suszy w powietrzu w ciagu 1 minuty i zanurza w roztworze zawierajacym 5 g azotanu srebra, 100 ml wody i 100 ml stezo- 55 nego NH4OH. Po uplywie okolo 5 minut otrzymu¬ je sie na próbce srebrowo-fosforowa powloke.Próbke te plateruje sie nastepnie w sposób opisa¬ ny w przykladzie II, w temperaturze 70°C, otrzy¬ mujac przewodzaca powloke. 60 Przyklady IV—XIII. Próbki tworzywa ABS poddaje sie dzialaniu zwiazku fosforu o niskim stopniu utlenienia w temperaturze pokojowej w ciagu 3 minut, nastepnie suszy w powietrzu i pla¬ teruje metoda nieelektryczna, jak opisano w przy- 65 kladzie II, otrzymujac przylegajace powloki prze-80 243 11 wodzace elektrycznosc. Zwiazek fosforu o niskim stopniu utlenienia otrzymuje sie przez rozpuszcze- Tablica 1 Przyklad IV V VI VII VIII IX X XI XII XIII Zwiazek nukleofilowy lub metaloorganiczny propanolan sodu butanolan sodu wodorotlenek sodowy wodorotlenek sodowy etanolan sodu metanolan sodu bromek butylomagne- zowy amidek sodu Il-rzed. butylomerka- ptyd sodu trójtylek glinu Rozpuszczalnik alkohol propylowy butanol metanol etanol etanol metanol eter etylowy etanol etanol czterowodoro- furan 10 15 12 nie zwiazków roukleofitowych lub zwiazków orga- nometalicznych podanych w tablicy 1 w rozpusz¬ czalnikach podanych równiez w tej tablicy i dodanie bialego fosforu do otrzymanych roztworów w sto¬ sunku molowym 1:1.Przyklady XIV—XXVI. Próbki tworzywa podane w tablicy 2 poddaje sde dzialaniu zwiazków fosforu o niskim stopniu utiendenia w tempera¬ turze pokojowej w ciagu 1—3 minut, nastepnie suszy, plucze woda i poddaje nieelektrycznemu pla¬ terowaniu w sposób opisany w przykladzie II.Proces prowadzi sie w róznych rozpuszczalnikach, podanych w tablicy 2. We wszystkich przypadkach otrzymuje sie powloke przewodzaca elektrycznosc.O ile nie podano inaczej w tablicy 2, zwiazek nu¬ kleofilowy lub organometaHczny dodaje sie do bia¬ lego fosforu w rozpuszczalniku.Tablica 2 Przyklad XIV XV XVI XVII XVIII XIX XX XXI XXII XXIII XXIV xxv xxv* Tworzywo ABS polichlorek winylu poliuretan polipropylen ABS polichlorek winylu ABS ABS folia poliestrowa folia poliestrowa polipropylen ABS ABS Zwiazek nukleo¬ filowy lub meta¬ loorganiczny metanolan sodu etanolan sodu etanolan sodu metanolan sodu trójetylek glinu etanolan sodu metanolan sodu metanolan sodu metanolan sodu metanolan sodu metanolan sodu metanolan sodu metanolan sodu Rozpuszczalnik benzen benzen etanol czterowodoro- furan czterowodoro- furan heksan benzonitryl pirydyna N-metylo-2- -pirolldon morfolina dwumetylo- formam&d acetonitryl chlorobenzen Uwagi fosfor dodaje sie do miesza¬ niny re¬ agenta zanu¬ rzenie 5 sekund zanu¬ rzenie 1 sekunda Przyklady XXVII—XXX. Próbki tworzywa ABS zanurza sie na 10 minut w temperaturze po¬ kojowej w roztworze wytworzonym przez zmiesza¬ nie zóltego fosforu, etanolu i etanolanu sodu, po czym suszy sie je w powietrzu w ciagu 1 minuty, plucze woda i wyciera do sucha. Nastepnie próbki zanurza sie na 15 minut, a w przykladzie XXX na 20 minut w 1 litrze kapieli o skladzie podanym w tablicy 3, otrzymujac przylegajace powloki prze¬ wodzace elektrycznosc.Tablica 3 45 50 55 Przyklad XXVII Sklad kapieli Kwasna kapiel niklowa: chlorek niklu glikolan sodu podfosforyn sodu pH ±-fi temperatura 88°C w g/litr 30 50 10 1 XXVIII XXIX xxx Zasadowa kapiel niklowa: chlorek niklu cytrynian sodu chlorek amonu podfosforyn sodu temperatura 88°C Kapiel kobaltowa: chlorek kobaltu cytrynian sodu chlorek amonu podfosforyn sodu pH 9—10 temperatura 90—95°C Kapiel miedziowa: azotan miedzi wodoroweglan sodu cytrynian sodu wodorotlenek sodu aldehyd mrówkowy 38% pH 11,5 temperatura pokojowa 30 100 50 10 30 [ 35 \ 50 t 20 I 15 l 10 L 30 20 L 100 ml/litr F80 243 13 U Przyklad XXXI. Próbke nowolaku fenolo- formaldehydowego poddaje sie dzialaniu roztworu zwiazku fosforu o niskim stopniu utleniania, wy¬ tworzonego przez dodanie 1 mola sodu do 600 ml etanolu i nastepnie dodanie 1 mola fosforu. Prób¬ ke utrzymuje sie w tym roztworze w ciagu 3 mi¬ nut w temperaturze pokojowej, po czym suszy w powietrzu w ciagu 1 minuty, nastepnie w prze¬ plywowej suszarce powietrznej o temperaturze 85°C w ciagu 20 minut, po czym 1 minute w powietrzu, a nastepnie plucze woda i wyciera do sucha. Tak przygotowana próbke plateruje sie w sposób opi¬ sany w przykladzie II.Przyklad XXXII. Plytke w ksztalcie kola z tworzywa ABS poddaje sie w ciagu 10 minut w temperaturze pokojowej dzialaniu zwiazku fos¬ foru o niskim stopniu utlenienia wymienionym w przykladzie VIII, nastepnie suszy w ciagu 2 minut w powietrzu i pokrywa niklem metoda nieelek¬ tryczna, w ciagu 3 minut w kwasnym roztworze Mac Dercndd Electroless Nickel nr 28. Nastepnie plytke pokrywa sie galwanicznie miedzia w ka¬ pieli kwasnej, przy gestosci pradu 4 A/dm2. Sto¬ pien przylegania metalowej powloki do powierzch¬ ni tworzywa, mierzony jako sila potrzebna do oderwania paska metalu od powierzchni tworzy¬ wa, wynosi 2,4 kG/cm.Przyklad XXXIII. Do roztworu zwiazku fos¬ foru o niskim stopniu utlenienia, wymienionym w przykladzie IX, dodaje sie metanolu i po uply¬ wie 5 dni w roztworze tym o temperaturze 50°C zanurza plytke z tworzywa ABS na przeciag 5 mi¬ nut, po czym plytke suszy sie w powietrzu w cia¬ gu 15 sekund, a nastepnie w suszarce o tempe¬ raturze 85°C w ciagu 2 minut i po tym znów w powietrzu w ciagu 15 sekund. Próbke te plucze sie woda w ciagu 30 sekund i wyciera do sucha bi¬ bula, a nastepnie plateruje metoda nieelektrycz¬ na i po tym metoda galwaniczna jak w przy¬ kladzie XXXI, lecz utrzymujac w kapieli pierw¬ szej w ciagu 2 minut. Sila potrzebna do oderwa¬ nia paska utworzonej powloki wynosi 3,2 kG/cm.Przyklady XXX—XXXIX. Postepujac w sposób opisany w przykladzie XXXII, metalizuje sie tworzywa podane w tablicy 4.Tablica 4 Przyklad XXXIII XXXIV xxxv XXXVI XXXVII XXXVIII XXXIX Tworzywo polietylen polistyren polimetylometakrylan tektura papier cement azbestowy drewno Przyklady XL—XLII. Tworzywa wymienio¬ ne w tablicy 5 poddaje sie w ciagu 15 sekund dzialaniu zwiazku fosforu o niskim stopniu utle¬ nienia, wymienionego w przykladzie XXII, suszy w ciagu 1 minuty w powietrzu i 2 minuty w su¬ szarce o temperaturze 85°C i plucze woda. Nastep¬ nie próbki wystawia sie na dzialanie kapieli nie- 25 30 35 40 45 elektrycznej Mac Dermid Electroless Nickel nr 28, wytwarzajac przylegajace powloM przewodzace ele¬ ktrycznosc.Tablica 5 10 Przyklad I XL XLI 1 XLII 1 Tworzywo porcelana kauczuk neoprenowy szklo Przyklad XLIII. Kilka próbek tworzywa ABS zanurza sie w (roztworze zwiazku fosforowe- 15 go, otrzymanym przez dodanie 7 g Mitu do 600 ml bezwodnego etanolu i wymieszanie tego roztworu z 31 g zóltego fosforu, a nastepnie wymieszanie 20 ml otrzymanego roztworu z 600 ml etanolu.Zawartosc fosforu w tym roztworze wynosi okolo 20 0,20% wagowych. Próbki zanurza sie na okres 3 minut w roztworze o temperaturze 25*C, po czym suszy w powietrzu w ciagu 3 minut i pokrywa nik¬ lem metoda nieelektryczna w ciagu 3 minut w temperaturze 85—88°C.Nastepnie próbki pokrywa sie galwanicznie nik¬ lem, stosujac próbke jako katode i anode niklowa, w kapieli Watts*a. Otrzymuje sie powloke, której sila przylegania wynosi okolo 3,3 kG/cm.Przyklad XLIV. Postepujac w sposób opisa¬ ny w przykladzie XLIII, lecz zamiast zanurzania opryskuje sie próbki roztworem zwiazku fosforu o niskim stopniu utleniania za pomoca rozpylacza pracujacego bez powietrza a z azotem, otrzymuje sie powloki przylegajace dobrze do powierzchni tworzywa.W sposobie wedlug wynalazku mozna stosowac pewne odmiany w sposobie postepowania, na przy¬ klad przed poddaniem przedmiotu dzialaniu zwiaz¬ ku fosforu o niskim stopniu utlenienia mozna po¬ wierzchnie tego przedmiotu wytrawiac chemicznie lub mechanicznie. PL PL
Claims (8)
1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób metalizowania przedmiotów wykona¬ nych z tworzywa niemetalicznego w celu uczynie¬ nia powierzchni tych przedmiotów podatnymi do wytwarzania na nich powlok metalowych sposo¬ bami nieelektrycznymi i/lub elektrolitycznymi, 50 znamienny tym, ze przedmioty poddaje sie dziala¬ niu, co najmniej jednego zwiazku fosforu o niskim stopniu utlenienia, korzystnie w srodowisku roz¬ puszczalnika, w celu osadzenia tego zwiazku na powierzchni przedmiotu, po czym na te powierzch- 55 nie dziala sie roztworem soli metalu lub zwiazku kompleksowego metalu, wytwarzajac powloke me- talo-fosforowa.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako zwiazek fosforu o niisMm stopniu utlenienia eo stosuje sie produkt reakcji bialego fosforu z odpo¬ wiednim odczynnikiem nukleofilowym, lub zwiaz¬ kiem metaloorganicznym.
3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako odczynnik nukleofilowy stosuje sie zwiazki 65 zasadowe majace wolna pare elektronów przy ato-80 243 15 mie wegla, tlenu, azotu, siarki lub fosforu, korzy¬ stnie zwiazki ó wzorze MZy, w którym M oznacza metal alkaliczny lub ziem alkalicznych, Z oznacza grupe wodorotlenowa, alkoholanowa, amidowa, siarczynowa, tiosiarczanowa, merkaptydowa, cyja- nianowa, taocyjanianowa, cyjankowa, azydkowa itp. a y oznacza liczbe 1 lub 2.
4. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako zwiazek organometaliczny stosuje sie zwiazek o wzorze RxD, w którym R oznacza rodnik alki¬ lowy o 1—18 atomach wegla, rodnik arylowy o 6— 18 atomach wegla, rodnik alicykliczny o 5—18 ato¬ mach wegla, rodnik aralkilowy o 6—18 atomach wegla lub rodnik alkiloarylowy o 6—18 atomach wegla, przy czym rodniki te moga byc ewentualnie podstawione atomami chlorowca, grupami nitro¬ wymi lub innymi podstawnikami, x oznacza licz¬ be 1—3 a D oznacza metal z grupy I-A, II lub III-A ukladu okresowego pierwiastków. 10 15 16
5. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako zwiazek metaloorganiczny stosuje sie zwiazek Grignarda.
6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze na przedmiot poddany poprzednio dzialaniu zwiaz¬ ku fosforu dziala sie roztworem soli metalu lub zwiazku kompleksowego metalu posiadajacym zdol¬ nosc reagowania ze zwiazkiem fosforu o niskim stopniu utlenienia.
7. Sposób wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze stosuje sie sole kwasów organicznych lub nieor¬ ganicznych metali z grupy I-B, II-B, IV-B, V-B, VI-B, VII-B i VIII-B ukladu okresowego pier¬ wiastków.
8. Sposób wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze stosuje sie kompleksy soli ze zwiazkiem, który daje roztwór o wartosci pH powyzej 7, korzystnie kom¬ pleksy amoniakalne, kompleksy zawierajace chino¬ line, aminy lub pirydyne. CZYI ELN1A Urzedw Patentowego Pelnili tamrtt^- ci iSriW,ej LDA — Zaklad 2 — Typo, zam. 588/75 — 115 egz. Cena 10 zt PL PL
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US75047768A | 1968-08-06 | 1968-08-06 | |
| US83908069A | 1969-07-03 | 1969-07-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL80243B1 true PL80243B1 (en) | 1975-08-30 |
Family
ID=27115280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1969135205A PL80243B1 (en) | 1968-08-06 | 1969-08-02 | Melting plating of non-metallic substrates[gb1279685a] |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| BE (1) | BE737095A (pl) |
| ES (1) | ES370257A1 (pl) |
| FR (1) | FR2015155A1 (pl) |
| GB (1) | GB1279685A (pl) |
| NL (1) | NL6911998A (pl) |
| PL (1) | PL80243B1 (pl) |
| SE (1) | SE358664B (pl) |
-
1969
- 1969-07-17 GB GB3610669A patent/GB1279685A/en not_active Expired
- 1969-08-02 PL PL1969135205A patent/PL80243B1/pl unknown
- 1969-08-05 ES ES370257A patent/ES370257A1/es not_active Expired
- 1969-08-05 FR FR6926905A patent/FR2015155A1/fr not_active Withdrawn
- 1969-08-05 BE BE737095D patent/BE737095A/xx unknown
- 1969-08-05 SE SE1094769A patent/SE358664B/xx unknown
- 1969-08-06 NL NL6911998A patent/NL6911998A/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE737095A (pl) | 1970-02-05 |
| ES370257A1 (es) | 1972-05-16 |
| GB1279685A (en) | 1972-06-28 |
| DE1940049A1 (de) | 1970-02-12 |
| DE1940049B2 (de) | 1976-07-15 |
| FR2015155A1 (pl) | 1970-04-24 |
| NL6911998A (pl) | 1970-02-10 |
| SE358664B (pl) | 1973-08-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101109006B1 (ko) | 촉매 조성물 및 침착 방법 | |
| EP1453988B1 (en) | Metallization of non-conductive surfaces with silver catalyst and electroless metal compositions | |
| US3620834A (en) | Metal plating of substrates | |
| US4125649A (en) | Pre-etch conditioning of polysulfone and other polymers for electroless plating | |
| US3650803A (en) | Metal plating of substrates | |
| EP2712885B1 (en) | A method for electroless metallization | |
| KR101923915B1 (ko) | 랙 금속화를 방지하기 위한 전기도금 랙의 처리 | |
| CA2062461C (en) | Hydroprimer for metallising substrate surfaces | |
| US3607350A (en) | Electroless plating of plastics | |
| US3544432A (en) | Electroplating plastic articles | |
| US3533828A (en) | Metal plating of plastic surfaces | |
| US3523874A (en) | Metal coating of aromatic polymers | |
| US3629922A (en) | Metal plating of plastics | |
| US4063004A (en) | Metal plating of plastics | |
| US3709714A (en) | Metalizing substrates | |
| US3650911A (en) | Metallizing substrates | |
| PL80243B1 (en) | Melting plating of non-metallic substrates[gb1279685a] | |
| US3709727A (en) | Metalizing substrates | |
| US3642584A (en) | Process for metal plating of substrates | |
| KR100387663B1 (ko) | 엔지니어링 플라스틱상에의 도금방법 | |
| US5316867A (en) | Method for adhering metal coatings to thermoplastic addition polymers | |
| US3622370A (en) | Method of and solution for accelerating activation of plastic substrates in electroless metal plating system | |
| US3666637A (en) | Process for metallizing substrates | |
| US3650914A (en) | Metal plating plastics | |
| US4495251A (en) | Shielded plastic microwave oven cavity |