Sposób wytwarzania szkla plaskiego na cieklej kapieli metalicznej oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia szkla plaskiego na cieklej kapieli metalowej, zawartej w czesciowo zamknietej kadzi, oraz urza¬ dzenie do stosowania tego sposobu, zawierajace ze¬ spoly regulacji temperatury, sluzace do regulowa¬ nia spadku temperatury stopionego szkla przy je¬ go ruchu naprzód na stopionym materiale, zespo¬ ly do poboru gazu z wnetrza zbiornika ponad gór¬ na powierzchnia kapieli ze stopionego materialu i do doprowadzania tego gazu do co najmniej jednego innego miejsca w zbiorniku w celu wy¬ tworzenia przeplywów gazu ochronnego, jak rów¬ niez umieszczone pomiedzy zespolami odprowadze¬ nia i doprowadzenia gazu, zespoly do obróbki po¬ branego gazu, zlozone z co najmniej jednego zbior¬ nika absorbcyjnego zawierajacego srodek czysz¬ czacy, absorbujacy z gazu materialy szkodliwe przy produkcji szkla i nie oddajacy tych szkodliwych materialów przy zetknieciu z obrabianym gazem.Znany jest sposób calkowitego napelniania wne¬ trza kadzi zawierajacej ciekla kapiel metalowa, powodujac cyrkulacje gazów ochronnych. W ten sposób czesc zawartych w powietrzu pierwiast¬ ków aktywnych, takich, jak tlen, nie moze wejsc w reakcje chemiczna z metalem i utworzyc zwiaz¬ ków metali zdolnych do zanieczyszczenia szkla.Znany jest równiez sposób przeprowadzania ochronnych gazów, na przyklad wodoru, poprzez ciekla kapiel. Gazy te przechodzac przez kapiel w postaci pecherzy przyspieszaja odparowanie 10 15 20 25 30 istotnej czesci pierwiastków aktywnych, na przy¬ klad siarki. W ten sposób odparowane skladniki lacza sie z pecherzami gazu i wydostaja sie na powierzchnie cieklej kapieli metalowej. W celu unikniecia zanieczyszczenia szkla powstalymi w ten sposób produktami reakcji, nalezy doprowadzic ga¬ zy ochronne w miejscach wybranych w ten spo¬ sób, zeby pecherze przy wychodzeniu z cieklej ka¬ pieli mogly wydostac sie bezposrednio do wnetrza zbiornika bez przenikania przez szklo." Mimo stosowania tych sposobów majacych na celu zmniejszenie ilosci skladników zanieczyszcza¬ jacych szklo, stwierdzono, ze szklo po opuszczeniu zbiornika zawiera jeszcze plamy powierzchniowe spowodowane zanieczyszczeniami.Istotna przyczyna uszkodzenia powierzchni szkla jest zbyt duze stezenie gazowych.zwiazków metali, powstajacych w wyniku stosunkowo zbyt wolnego przeplywu gazów ochronnych, które przenikaja przez sciany boczne zbiornika. W wyniku tego, w znanych urzadzeniach, moga powstac takie stru¬ mienie, poniewaz ilosci gazów kierowanych do wnetrza zbiornika jest zasadniczo funkcja lepszej lub gorszej szczelnosci zbiornika. Poniewaz z dru-' giej strony na skute*k wzglednie burzliwego ^odply¬ wu innych strumieni gazu ochronnego wewnatrz zbiornika, gazy grupy stosunkowo skoncentrowa¬ nych odparowanych zwiazków metali moga byc porywane tymi innymi strumieniami gazów ochron¬ nych, podczas ich spotkania ze strumieniami prze- 8015480154 mieszczajacymi sie wolniej i w ten sposób moga byc przemieszczone w kierunku tej czesci kadzi, która zawiera zimna strefe kapieli metalowej. Po¬ niewaz szukajac ujscia z kadzi te mieszaniny ga¬ zów, zawierajace skoncentrowane grupami odparo¬ wane zwiazki metali, napotykaja na swej drodze takie przedmioty jak scianki czy przegrody lub chlodnice o nizszej temperaturze, to czesc tych zwiazków kondensuje sie na tych przedmiotach.Znaczenie czesci zwiazków skondensowanych w ten sposób jest tym wieksze, im wyzszy jest stopien koncentracji odparowanych zwiazków me¬ tali w mieszaninie gazowej. Poddane nastepnie dzialaniu gazu redukujacego, takiemu jak wodór, w zasadzie lacznie z gazem stosowanym do ochro¬ ny metalu, te zwiazki metali przeksztalcaja sie w liczne czastki metalu, które po przedostaniu sie na górna powierzchnie szkla stopionego tworza zwiekszona ilosc uszkodzen tej powierzchni.Znane jest z opisu patentowego NRD nr 58578, ze przy wytwarzaniu szkla plaskiego na kapieli stopionego metalu w piecu z atmosfera gazu ochronnego, w celu eliminacji zaklócen powierzch¬ ni górnej szkla, przeciwdzialaja kondensacji zwiaz¬ ków metalu wyparowanych z kapieli stopionego metalu i powstawaniu opadu powstalych w wy¬ niku reakcji z gazem ochronnym czasteczek meta¬ lu odplywajacych na powierzchnie górna szkla.Znane jest równiez z opisu patentowego W. Bry¬ tanii nr 1 065 749, ze mozna odciagac czesc atmo¬ sfery gazu ochronnego przy wytwarzaniu szkla plaskiego i czyscic przez chlodzenie i przepuszcze¬ nie nad lozem z silikazelu, lub przez stopiona cy¬ ne. W ten sposób oddzielona zostaje przede wszy¬ stkim para wodna.Celem wynalazku jest unikniecie wymienionych wad i niedogodnosci przez oddzielenie siarkowodo¬ ru z atmosfery gazu ochronnego.Cel ten osiagnieto przez opracowanie sposobu wytwarzania szkla plaskiego na cieklej kapieli me¬ talowej, znajdujacej sie w zbiorniku czesciowo zamknietym, w którym chlodzi sie stopione szklo w trakcie przesuwania go po kapieli metalowej a jednoczesnie pobiera sie gaz z nad górnej po¬ wierzchni kapieli metalowej i doprowadza sie ten gaz do co najmniej jednego innego miejsca w zbiorniku w celu wytworzenia przeplywu gazu ochronnego, przy czym przepuszcza sie ten gaz przez co najmniej jeden zbiornik absorbcyjny za¬ wierajacy srodek czyszczacy, absorbujacy materia¬ ly zanieczyszczajace, znajdujace sie w cyrkuluja- cym gazie i nie oddajacy zaabsorbowanych mate¬ rialów zanieczyszczajacych z powrotem do gazu cyrkuluj'acego. Istota wynalazku polega na tym, ze jako srodek czyszczacy stosuje sie reagent absor¬ bujacy caly siarkowodór w postaci siarczku.Korzystnie jest, jezeli jako srodek czyszczacy stosuje sie czynnik staly absorbujacy siarkowodór na drodze chemicznej, np. sode kaustyczna w po¬ staci lusek, lub limonit, jeszcze latwiejszy w sto¬ sowaniu od sody kaustycznej.Zastosowany material absorbcyjny posiada duza skutecznosc absorbcji siarkowodoru, nawet przy jego malej zawartosci. Przy przepuszczaniu gazu przez zloze z silikazelu pozostaje w gazie duza za¬ wartosc siarkowodoru.Równiez przy przepuszczaniu gazu przez stopio¬ na cyne absorbcja siarkowodoru jest niezadawala- 5 jaca, poniewaz reakcja cyny z siarka okreslona jest równowaga, przy której nawet niewielka za¬ wartosc siarkowodoru nie jest absorbowana, a gdy przez kapiel cyny przepuszczony zostanie gaz bez zawartosci siarkowodoru, to w przypadku obecno- io sci siarki gaz wychodzacy zawierac bedzie siar¬ kowodór.Substancja absorbcyjna nie powinna wydzielac w ciagu dalszej obróbki gazu zawierajacego siar¬ kowodór i gazy, lub pary szkodliwe dla wytwarza- 15 nia szkla.Okreslone chemiczne czynniki, które moga byc stosowane zgodnie z wynalazkiem np. soda kau¬ styczna, absorbuja siarkowodór przy uwolnieniu wody, lecz ilosci jej sa minimalne, poniewaz od- 20 powiadaja stechiometryeznie niewielkim ilosciom siarkowodoru. Woda istniejaca w gazie moze byc wydalona w innym absorbencie, tak, ze uwolnie¬ nie niewielkich ilosci pary wodnej nie przedsta¬ wia soba istotnej wady. 25 Wynalazek obejmuje równiez urzadzenie do sto¬ sowania sposobu wedlug wynalazku, zawierajace zespoly regulacji temperatury, sluzace do regulo¬ wania spadku temperatury stopionego szkla przy jego ruchu naprzód na stopionym materiale, ze- 30 spoly do poboru gazu z wnetrza zbiornika ponad górna powierzchnia kapieli ze stopionego materia¬ lu i do doprowadzania tego gazu do co najmniej jednego innego miejsca w zbiorniku w celu wy¬ tworzenia przeplywów gazu ochronnego, jak rów- 35 niez umieszczone pomiedzy zespolami odprowadze¬ nia i doprowadzenia gazu, zespoly do obróbki po¬ branego gazu, zlozone z co najmniej jednego zbior¬ nika absorbcyjnego zawierajacego srodek czysz¬ czacy, absorbujacy z gazu materialy szkodliwe 40 przy produkcji szkla i nie oddajacy tych szkodli¬ wych materialów przy zetknieciu z obrabianym gazem.Istota wynalazku polega na tym, ze pomiedzy zbiornikiem absorbcyjnym a zespolem do ponow- 45 nego wprowadzania gazu, umieszczony jest zespól absorbujacy pare wodna.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przy¬ kladzie wykonania na rysunku.Przewód 65 urzadzenia odprowadzajacego gaz 50 jest polaczony przewodem 66 z zaworami 67a i 67b umieszczonymi po obu stronach przewodu 65.W kierunku przeplywu do zaworu 67a zgodnie ze strzalka 68, przewód 66 jest polaczony z przewo¬ dem 69 poprzez zawór 70 i przewód odgalezienia 55 71; polaczony z kondensatorem 72. Kondensator 72 zawiera zbiornik 73, którego górna czesc podzielo¬ na jest scianka dzialowa 76 na dwa przedzialy 74 i 75, a jego dolna czesc ma ksztalt lejka 77 z za¬ worem 78. Przedzialy 74 i 75 mieszcza sie ze- 60 spoly chlodzace 79 i 80 z zaworami regulacji prze¬ plywu czynnika chlodzacego 81, 82, 83 i 84. Elek¬ tryczne elementy grzewcze 85 umieszczone sa pierscieniowo wokolo lejka 77 i utrzymuja odpo¬ wiednia temperature w dolnej czesci zbiornika. 65 Kondensator 72 jest polaczony z filtrem 86 prze-5 80154 6 wodem laczacym 86'. Po ochlodzeniu w konden¬ satorze 72 i po filtracji, gaz ochronny przepusz¬ czany jest przez absorber 87, w którym absorbo¬ wany jest siarkowodór.Kondensator jest polaczony z absorberem przez przewód 88, zawór 91a, przewody 90 i 93, pomoc¬ nicza dmuchawa 92, przewody 94 i 95, zawór 96a i przewód 99.Absorber 87 posiada zbiornik metalowy 100 wy¬ pelniony substancja stala, np. limonitem, tworzaca duza powierzchnie reakcji z gazem ochronnym.Substancja stala moze byc równiez soda kaustycz¬ na w postaci lusek.Absorber 87 jest przez zawór 103 i przewód ~102 polaczony z komora odtleniania 101. Tlen z gazu ochronnego laczy sie tu w obecnosci katalizatora z wodorem tworzac wode. Katalizatorem jest tle¬ nek glinu impregnowany metalicznym palladem.Komora odtleniania 101 jest polaczona przez za¬ wór 111 i przewód 110 z zespolem chlodzacym. Ze¬ spól chlodzacy obniza temperature gazu ochron¬ nego, z wartosci bedacej wynikiem egzotermicznej reakcji w komorze odtleniania 101 do wartosci po¬ nizej 25°C przed doprowadzeniem do kolumny 116 przez zawór 118 i przewód 117. Kolumna 116 za¬ wiera zbiornik 123 z lozem wypelnionym tlenkiem glinu sluzacym do osuszania gazu.Po opuszczeniu dolnego konca kolumny 116 gaz wplywa do przewodu 129 poprzez przewód dopro¬ wadzajacy 124 i zawór 127. Gaz przeplywa prze¬ wodem 129 do. chlodniejszego konca zbiornika, gdzie ksztaltuje sie plaskie szklo.Przedstawione na rysunku urzadzenie jest para podstawowych urzadzen,- które pracowac moga przemiennie. Blizniacze urzadzenie jest polaczone przewodami 66, 90 i 126 zaopatrzonymi w zawory 67b, 91b, 96b i 128. Podczas pracy przedstawionych oddzielnie urzadzen zawory sa zamkniete.Przed przepuszczaniem gazu ochronnego ze zbior¬ nika, w którym ksztaltuje sie plaskie szklo, przez urzadzenie czyszczace, czesc zespolów w kazdym z urzadzen zostaje przemyte swiezym gazem ochronnym, ze zbiornika wypelnionego, np. 95% azotu i 5°/o wodoru.W tym celu zawory 67a, 78, 91a, 96a, 103, 111, 118, 1(27 zostaja zamkniete, a swiezy gaz jest pom¬ powany dmuchawa pomocnicza do urzadzenia czyszczacego, w miejsca oznaczone przerywanymi strzalkami 130a, przez przewody 69, 97, 105, 112 i 119 podczas, gdy zawory 70, 98, 107, 11'4, 122 w tych przewodach sa otwarte. Prad gazu prze¬ mywajacego opuszcza urzadzenie w miejscach ozna¬ czonych przerywanymi strzalkami 130b, tzn. przez zawór 89, zawór 106 i przewód 104, zawór 125 i przewód 113, zawór 121 i przewód 120 i przez zawór 125. W ten sposób powietrze znajdujace sie w urzadzeniach zostanie usuniete przez gaz ochronny.Po wypelnieniu urzadzen gazem ochronnym, za¬ wory 70, 89, 98, 106, 107, 114, 115, 121* 122 i 125 zostaja zamkniete, a zawory 67a, 91a, 96a, 103, 111, 118 i 127 otwarte. Uruchomiona wtedy zostaje dmuchawa pomocnicza 92 do zassania gazu ochronnego ze zbiornika, w którym ksztaltuje sie szklo.Zgodnie ze strzalka 68, gaz przechodzi ze zbior¬ nika do kondensatora 72. Przed wejsciem do kon¬ densatora temperatura gazu utrzymana jest ria po¬ ziomie dostatecznie wysokim dla zapobiezenia przedwczesnej kondensacji. Podczas przejscia przez przedzialy 74 i 75 gaz zostaje ochlodzony, tak, ze niektóre ze skladników uniesione z wnetrza zbior¬ nika, np. cyna i siarczek cyny w przypadku ka¬ pieli ze stopionej cyny, skondensuja sie.Kondensat gromadzi sie w dolnej czesci kon¬ densatora 72 i utrzymuje sie w stanie cieklym pod wplywem elektrycznych elementów grzejnych 85.Gdy czyszczony przeplyw gazu przelaczony zosta¬ nie na drugie urzadzenie pary blizniaczej lejek 77 zostanie oprózniony przez otwarcie zaworu 78.W nastepnym stopniu oczyszczania tzn. w filtrze 86 oddzielone zostana stale lub zestalone skladniki, tzn. przy zastosowaniu kapieli ze stopionej cyny, tlenek cyny.Po przejsciu przez kondensator i filtr pod wply¬ wem dmuchawy 92, czesciowo oczyszczony gaz, przechodzi przez nastepne urzadzenie przeznaczone do oddzielenia zanieczyszczen niekondensujacych sie w niskiej temperaturze, tzn. przez absorber 87, komore ochladzania tlenu 101, urzadzenie chlodza¬ ce 109 i kolumne 116 absorbujaca pare wodna.Gaz opuszczajacy kolumne 116 jest w ten sposób praktycznie wolny od zanieczyszczen, które naj¬ prawdopodobniej tworza substancje zanieczyszcza¬ jace szklo. Oczyszczony gaz jest doprowadzany do chlodniejszego konca zbiornika majac temperature równa temperaturze otoczenia, lub tez temperatu¬ ra gazu moze byc podwyzszana lub obnizana przed jego wdmuchiwaniem do zbiornika. PL PL