PL80154B1 - - Google Patents

Description

Sposób wytwarzania szkla plaskiego na cieklej kapieli metalicznej oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia szkla plaskiego na cieklej kapieli metalowej, zawartej w czesciowo zamknietej kadzi, oraz urza¬ dzenie do stosowania tego sposobu, zawierajace ze¬ spoly regulacji temperatury, sluzace do regulowa¬ nia spadku temperatury stopionego szkla przy je¬ go ruchu naprzód na stopionym materiale, zespo¬ ly do poboru gazu z wnetrza zbiornika ponad gór¬ na powierzchnia kapieli ze stopionego materialu i do doprowadzania tego gazu do co najmniej jednego innego miejsca w zbiorniku w celu wy¬ tworzenia przeplywów gazu ochronnego, jak rów¬ niez umieszczone pomiedzy zespolami odprowadze¬ nia i doprowadzenia gazu, zespoly do obróbki po¬ branego gazu, zlozone z co najmniej jednego zbior¬ nika absorbcyjnego zawierajacego srodek czysz¬ czacy, absorbujacy z gazu materialy szkodliwe przy produkcji szkla i nie oddajacy tych szkodliwych materialów przy zetknieciu z obrabianym gazem.Znany jest sposób calkowitego napelniania wne¬ trza kadzi zawierajacej ciekla kapiel metalowa, powodujac cyrkulacje gazów ochronnych. W ten sposób czesc zawartych w powietrzu pierwiast¬ ków aktywnych, takich, jak tlen, nie moze wejsc w reakcje chemiczna z metalem i utworzyc zwiaz¬ ków metali zdolnych do zanieczyszczenia szkla.Znany jest równiez sposób przeprowadzania ochronnych gazów, na przyklad wodoru, poprzez ciekla kapiel. Gazy te przechodzac przez kapiel w postaci pecherzy przyspieszaja odparowanie 10 15 20 25 30 istotnej czesci pierwiastków aktywnych, na przy¬ klad siarki. W ten sposób odparowane skladniki lacza sie z pecherzami gazu i wydostaja sie na powierzchnie cieklej kapieli metalowej. W celu unikniecia zanieczyszczenia szkla powstalymi w ten sposób produktami reakcji, nalezy doprowadzic ga¬ zy ochronne w miejscach wybranych w ten spo¬ sób, zeby pecherze przy wychodzeniu z cieklej ka¬ pieli mogly wydostac sie bezposrednio do wnetrza zbiornika bez przenikania przez szklo." Mimo stosowania tych sposobów majacych na celu zmniejszenie ilosci skladników zanieczyszcza¬ jacych szklo, stwierdzono, ze szklo po opuszczeniu zbiornika zawiera jeszcze plamy powierzchniowe spowodowane zanieczyszczeniami.Istotna przyczyna uszkodzenia powierzchni szkla jest zbyt duze stezenie gazowych.zwiazków metali, powstajacych w wyniku stosunkowo zbyt wolnego przeplywu gazów ochronnych, które przenikaja przez sciany boczne zbiornika. W wyniku tego, w znanych urzadzeniach, moga powstac takie stru¬ mienie, poniewaz ilosci gazów kierowanych do wnetrza zbiornika jest zasadniczo funkcja lepszej lub gorszej szczelnosci zbiornika. Poniewaz z dru-' giej strony na skute*k wzglednie burzliwego ^odply¬ wu innych strumieni gazu ochronnego wewnatrz zbiornika, gazy grupy stosunkowo skoncentrowa¬ nych odparowanych zwiazków metali moga byc porywane tymi innymi strumieniami gazów ochron¬ nych, podczas ich spotkania ze strumieniami prze- 8015480154 mieszczajacymi sie wolniej i w ten sposób moga byc przemieszczone w kierunku tej czesci kadzi, która zawiera zimna strefe kapieli metalowej. Po¬ niewaz szukajac ujscia z kadzi te mieszaniny ga¬ zów, zawierajace skoncentrowane grupami odparo¬ wane zwiazki metali, napotykaja na swej drodze takie przedmioty jak scianki czy przegrody lub chlodnice o nizszej temperaturze, to czesc tych zwiazków kondensuje sie na tych przedmiotach.Znaczenie czesci zwiazków skondensowanych w ten sposób jest tym wieksze, im wyzszy jest stopien koncentracji odparowanych zwiazków me¬ tali w mieszaninie gazowej. Poddane nastepnie dzialaniu gazu redukujacego, takiemu jak wodór, w zasadzie lacznie z gazem stosowanym do ochro¬ ny metalu, te zwiazki metali przeksztalcaja sie w liczne czastki metalu, które po przedostaniu sie na górna powierzchnie szkla stopionego tworza zwiekszona ilosc uszkodzen tej powierzchni.Znane jest z opisu patentowego NRD nr 58578, ze przy wytwarzaniu szkla plaskiego na kapieli stopionego metalu w piecu z atmosfera gazu ochronnego, w celu eliminacji zaklócen powierzch¬ ni górnej szkla, przeciwdzialaja kondensacji zwiaz¬ ków metalu wyparowanych z kapieli stopionego metalu i powstawaniu opadu powstalych w wy¬ niku reakcji z gazem ochronnym czasteczek meta¬ lu odplywajacych na powierzchnie górna szkla.Znane jest równiez z opisu patentowego W. Bry¬ tanii nr 1 065 749, ze mozna odciagac czesc atmo¬ sfery gazu ochronnego przy wytwarzaniu szkla plaskiego i czyscic przez chlodzenie i przepuszcze¬ nie nad lozem z silikazelu, lub przez stopiona cy¬ ne. W ten sposób oddzielona zostaje przede wszy¬ stkim para wodna.Celem wynalazku jest unikniecie wymienionych wad i niedogodnosci przez oddzielenie siarkowodo¬ ru z atmosfery gazu ochronnego.Cel ten osiagnieto przez opracowanie sposobu wytwarzania szkla plaskiego na cieklej kapieli me¬ talowej, znajdujacej sie w zbiorniku czesciowo zamknietym, w którym chlodzi sie stopione szklo w trakcie przesuwania go po kapieli metalowej a jednoczesnie pobiera sie gaz z nad górnej po¬ wierzchni kapieli metalowej i doprowadza sie ten gaz do co najmniej jednego innego miejsca w zbiorniku w celu wytworzenia przeplywu gazu ochronnego, przy czym przepuszcza sie ten gaz przez co najmniej jeden zbiornik absorbcyjny za¬ wierajacy srodek czyszczacy, absorbujacy materia¬ ly zanieczyszczajace, znajdujace sie w cyrkuluja- cym gazie i nie oddajacy zaabsorbowanych mate¬ rialów zanieczyszczajacych z powrotem do gazu cyrkuluj'acego. Istota wynalazku polega na tym, ze jako srodek czyszczacy stosuje sie reagent absor¬ bujacy caly siarkowodór w postaci siarczku.Korzystnie jest, jezeli jako srodek czyszczacy stosuje sie czynnik staly absorbujacy siarkowodór na drodze chemicznej, np. sode kaustyczna w po¬ staci lusek, lub limonit, jeszcze latwiejszy w sto¬ sowaniu od sody kaustycznej.Zastosowany material absorbcyjny posiada duza skutecznosc absorbcji siarkowodoru, nawet przy jego malej zawartosci. Przy przepuszczaniu gazu przez zloze z silikazelu pozostaje w gazie duza za¬ wartosc siarkowodoru.Równiez przy przepuszczaniu gazu przez stopio¬ na cyne absorbcja siarkowodoru jest niezadawala- 5 jaca, poniewaz reakcja cyny z siarka okreslona jest równowaga, przy której nawet niewielka za¬ wartosc siarkowodoru nie jest absorbowana, a gdy przez kapiel cyny przepuszczony zostanie gaz bez zawartosci siarkowodoru, to w przypadku obecno- io sci siarki gaz wychodzacy zawierac bedzie siar¬ kowodór.Substancja absorbcyjna nie powinna wydzielac w ciagu dalszej obróbki gazu zawierajacego siar¬ kowodór i gazy, lub pary szkodliwe dla wytwarza- 15 nia szkla.Okreslone chemiczne czynniki, które moga byc stosowane zgodnie z wynalazkiem np. soda kau¬ styczna, absorbuja siarkowodór przy uwolnieniu wody, lecz ilosci jej sa minimalne, poniewaz od- 20 powiadaja stechiometryeznie niewielkim ilosciom siarkowodoru. Woda istniejaca w gazie moze byc wydalona w innym absorbencie, tak, ze uwolnie¬ nie niewielkich ilosci pary wodnej nie przedsta¬ wia soba istotnej wady. 25 Wynalazek obejmuje równiez urzadzenie do sto¬ sowania sposobu wedlug wynalazku, zawierajace zespoly regulacji temperatury, sluzace do regulo¬ wania spadku temperatury stopionego szkla przy jego ruchu naprzód na stopionym materiale, ze- 30 spoly do poboru gazu z wnetrza zbiornika ponad górna powierzchnia kapieli ze stopionego materia¬ lu i do doprowadzania tego gazu do co najmniej jednego innego miejsca w zbiorniku w celu wy¬ tworzenia przeplywów gazu ochronnego, jak rów- 35 niez umieszczone pomiedzy zespolami odprowadze¬ nia i doprowadzenia gazu, zespoly do obróbki po¬ branego gazu, zlozone z co najmniej jednego zbior¬ nika absorbcyjnego zawierajacego srodek czysz¬ czacy, absorbujacy z gazu materialy szkodliwe 40 przy produkcji szkla i nie oddajacy tych szkodli¬ wych materialów przy zetknieciu z obrabianym gazem.Istota wynalazku polega na tym, ze pomiedzy zbiornikiem absorbcyjnym a zespolem do ponow- 45 nego wprowadzania gazu, umieszczony jest zespól absorbujacy pare wodna.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przy¬ kladzie wykonania na rysunku.Przewód 65 urzadzenia odprowadzajacego gaz 50 jest polaczony przewodem 66 z zaworami 67a i 67b umieszczonymi po obu stronach przewodu 65.W kierunku przeplywu do zaworu 67a zgodnie ze strzalka 68, przewód 66 jest polaczony z przewo¬ dem 69 poprzez zawór 70 i przewód odgalezienia 55 71; polaczony z kondensatorem 72. Kondensator 72 zawiera zbiornik 73, którego górna czesc podzielo¬ na jest scianka dzialowa 76 na dwa przedzialy 74 i 75, a jego dolna czesc ma ksztalt lejka 77 z za¬ worem 78. Przedzialy 74 i 75 mieszcza sie ze- 60 spoly chlodzace 79 i 80 z zaworami regulacji prze¬ plywu czynnika chlodzacego 81, 82, 83 i 84. Elek¬ tryczne elementy grzewcze 85 umieszczone sa pierscieniowo wokolo lejka 77 i utrzymuja odpo¬ wiednia temperature w dolnej czesci zbiornika. 65 Kondensator 72 jest polaczony z filtrem 86 prze-5 80154 6 wodem laczacym 86'. Po ochlodzeniu w konden¬ satorze 72 i po filtracji, gaz ochronny przepusz¬ czany jest przez absorber 87, w którym absorbo¬ wany jest siarkowodór.Kondensator jest polaczony z absorberem przez przewód 88, zawór 91a, przewody 90 i 93, pomoc¬ nicza dmuchawa 92, przewody 94 i 95, zawór 96a i przewód 99.Absorber 87 posiada zbiornik metalowy 100 wy¬ pelniony substancja stala, np. limonitem, tworzaca duza powierzchnie reakcji z gazem ochronnym.Substancja stala moze byc równiez soda kaustycz¬ na w postaci lusek.Absorber 87 jest przez zawór 103 i przewód ~102 polaczony z komora odtleniania 101. Tlen z gazu ochronnego laczy sie tu w obecnosci katalizatora z wodorem tworzac wode. Katalizatorem jest tle¬ nek glinu impregnowany metalicznym palladem.Komora odtleniania 101 jest polaczona przez za¬ wór 111 i przewód 110 z zespolem chlodzacym. Ze¬ spól chlodzacy obniza temperature gazu ochron¬ nego, z wartosci bedacej wynikiem egzotermicznej reakcji w komorze odtleniania 101 do wartosci po¬ nizej 25°C przed doprowadzeniem do kolumny 116 przez zawór 118 i przewód 117. Kolumna 116 za¬ wiera zbiornik 123 z lozem wypelnionym tlenkiem glinu sluzacym do osuszania gazu.Po opuszczeniu dolnego konca kolumny 116 gaz wplywa do przewodu 129 poprzez przewód dopro¬ wadzajacy 124 i zawór 127. Gaz przeplywa prze¬ wodem 129 do. chlodniejszego konca zbiornika, gdzie ksztaltuje sie plaskie szklo.Przedstawione na rysunku urzadzenie jest para podstawowych urzadzen,- które pracowac moga przemiennie. Blizniacze urzadzenie jest polaczone przewodami 66, 90 i 126 zaopatrzonymi w zawory 67b, 91b, 96b i 128. Podczas pracy przedstawionych oddzielnie urzadzen zawory sa zamkniete.Przed przepuszczaniem gazu ochronnego ze zbior¬ nika, w którym ksztaltuje sie plaskie szklo, przez urzadzenie czyszczace, czesc zespolów w kazdym z urzadzen zostaje przemyte swiezym gazem ochronnym, ze zbiornika wypelnionego, np. 95% azotu i 5°/o wodoru.W tym celu zawory 67a, 78, 91a, 96a, 103, 111, 118, 1(27 zostaja zamkniete, a swiezy gaz jest pom¬ powany dmuchawa pomocnicza do urzadzenia czyszczacego, w miejsca oznaczone przerywanymi strzalkami 130a, przez przewody 69, 97, 105, 112 i 119 podczas, gdy zawory 70, 98, 107, 11'4, 122 w tych przewodach sa otwarte. Prad gazu prze¬ mywajacego opuszcza urzadzenie w miejscach ozna¬ czonych przerywanymi strzalkami 130b, tzn. przez zawór 89, zawór 106 i przewód 104, zawór 125 i przewód 113, zawór 121 i przewód 120 i przez zawór 125. W ten sposób powietrze znajdujace sie w urzadzeniach zostanie usuniete przez gaz ochronny.Po wypelnieniu urzadzen gazem ochronnym, za¬ wory 70, 89, 98, 106, 107, 114, 115, 121* 122 i 125 zostaja zamkniete, a zawory 67a, 91a, 96a, 103, 111, 118 i 127 otwarte. Uruchomiona wtedy zostaje dmuchawa pomocnicza 92 do zassania gazu ochronnego ze zbiornika, w którym ksztaltuje sie szklo.Zgodnie ze strzalka 68, gaz przechodzi ze zbior¬ nika do kondensatora 72. Przed wejsciem do kon¬ densatora temperatura gazu utrzymana jest ria po¬ ziomie dostatecznie wysokim dla zapobiezenia przedwczesnej kondensacji. Podczas przejscia przez przedzialy 74 i 75 gaz zostaje ochlodzony, tak, ze niektóre ze skladników uniesione z wnetrza zbior¬ nika, np. cyna i siarczek cyny w przypadku ka¬ pieli ze stopionej cyny, skondensuja sie.Kondensat gromadzi sie w dolnej czesci kon¬ densatora 72 i utrzymuje sie w stanie cieklym pod wplywem elektrycznych elementów grzejnych 85.Gdy czyszczony przeplyw gazu przelaczony zosta¬ nie na drugie urzadzenie pary blizniaczej lejek 77 zostanie oprózniony przez otwarcie zaworu 78.W nastepnym stopniu oczyszczania tzn. w filtrze 86 oddzielone zostana stale lub zestalone skladniki, tzn. przy zastosowaniu kapieli ze stopionej cyny, tlenek cyny.Po przejsciu przez kondensator i filtr pod wply¬ wem dmuchawy 92, czesciowo oczyszczony gaz, przechodzi przez nastepne urzadzenie przeznaczone do oddzielenia zanieczyszczen niekondensujacych sie w niskiej temperaturze, tzn. przez absorber 87, komore ochladzania tlenu 101, urzadzenie chlodza¬ ce 109 i kolumne 116 absorbujaca pare wodna.Gaz opuszczajacy kolumne 116 jest w ten sposób praktycznie wolny od zanieczyszczen, które naj¬ prawdopodobniej tworza substancje zanieczyszcza¬ jace szklo. Oczyszczony gaz jest doprowadzany do chlodniejszego konca zbiornika majac temperature równa temperaturze otoczenia, lub tez temperatu¬ ra gazu moze byc podwyzszana lub obnizana przed jego wdmuchiwaniem do zbiornika. PL PL

Claims (6)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania szkla plaskiego na cie¬ klej kapieli metalowej, znajdujacej sie w zbiorni¬ ku czesciowo zamknietym, w którym chlodzi sie stopione szklo w trakcie jego przesuwania po ka¬ pieli metalowej, a jednoczesnie pobiera sie gaz znad górnej powierzchni kapieli metalowej i do¬ prowadza sie ten gaz do co najmniej jednego in¬ nego miejsca w zbiorniku w celu wytworzenia przeplywu gazu ochronnego, przy czym przepusz¬ cza sie ten gaz przez co najmniej jeden zbiornik absorpcyjny zawierajacy srodek czyszczacy, absor¬ bujacy materialy zanieczyszczajace znajdujace sie w cyrkulujacym gazie i nie oddajacy zaabsorbo¬ wanych materialów zanieczyszczajacych z powro¬ tem do gazu cyrkulujacego, znamienny tym, ze jako srodek czyszczacy stosuje sie reagent absor¬ bujacy caly siarkowodór w postaci siarczku.

2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako srodek czyszczacy stosuje sie reagent staly, absorbujacy siarkowodór na drodze chemicznej.

3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako srodek czyszczacy stosuje sie sode kaustycz¬ na.

4. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze stosuje sie sode kaustyczna w postaci lusek.

5. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako srodek czyszczacy stosuje sie limonit. 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 6080154

6. Urzadzenie do wykonywania sposobu wedlug zostrz. 1, zawierajace zespoly regulacji temperatu¬ ry; sluzace do regulowania spadku temperatury stopionego szkla przy jego ruchu naprzód na sto- p:onym materiale, zespoly do poboru* gazu z wne¬ trza zbiornika ponad górna powierzchnia kapieli ze stopionego materialu i do doprowadzania tego gazu do co najmniej jednego innego miejsca w zbiorniku w celu wytworzenia przeplywów gazu ochronnego, jak równiez umieszczone pomiedzy ze- 8 spolami odprowadzenia i doprowadzenia gazu, ze¬ spoly do obróbki pobranego gazu, zlozone z co najmniej jednego zbiornika absorbcyjnego zawie¬ rajacego srodek czyszczacy, absorbujacy z gazu materialy szkodliwe przy produkcji szkla i nie oddajacy tych szkodliwych ,materialów przy zetknieciu z obrabianym gazem, znamienne tym, ze pomiedzy zbiornikiem absorbcyjnym a zespolem do ponownego wprowadzania gazu, umieszczony jest zespól absorbujacy pare wodna. ,27 55sstftit) ,n FIG.2 y24d56d W 58 22 8 W80154 F/G.3 62c 62b $2a 6/80154 FIG 5 8S86' 1304 \M 75 76„n67a,656B67b 99-fefl IJOb 97 98 93^£L^ 92 — 55 Z20/ fs«0A 125 ^ifc /20 -729 F/G-S 139'137'\ \m FiG-7 */ 162 165c165bl65a 160, \ \ _^r~i 1 //« DN-7 — Zam. 924/75 Cena 10 zl CZYTELNIA y Urzedy Palantowego PL PL