PL79957B1 - - Google Patents

Description

Uprawniony z patentu: Rank Xerox Limited, Londyn (Wielka Brytania) Sposób wywolywania utajonego, kserograficznego obrazu elektrostatycznego i urzadzenie do wywolywania utajonego, kserograficznego obrazu elektrostatycznego Przedmiotem wynalazku jest sposób wywolywa¬ nia utajonego, kserograficznego obrazu elektrosta¬ tycznego i urzadzenie do wywolywania utajonego, kserograficznego obrazu elektrostatycznego.W dziedzinie kserografii, jak pierwotnie ujaw¬ niono w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 2 297 691, plyte majaca przewodzace pokrycie, na którym jest umieszczony fotoprzewo- dzacy material izolacyjny, laduje sie jednorodnie, po czym fotoprzewodzaca powierzchnia jest na¬ swietlana obrazem swietlnym powielanego orygina¬ lu. Powoduje sie, by fotoprzewodzace pokrycie stalo sie przewodzacym pod wplywem obrazu swietlnego tak, by selektywnie rozproszyc znajdujacy sie na nim ladunek elektrostatyczny, w celu wytworzenia tak zwanego utajonego obrazu elektrostatycznego.Wywolanie utajonego obrazu wykonuje sie zwy¬ kle przez elektrostatyczne przyciagniecie zywicy pigmentowej do obszarów obrazu na plycie. Ilosc materialu zywicy przyciagnietego do obszarów obrazu jest okreslona iloscia ladunku znajdujacego sie w tych obszarach. Mozna przyjac, ze zaczer¬ nienie obrazu jest proporcjonalne do ilosci ladunku, totez obszary o malej koncentracji ladunku staja sie obszarami o malym zageszczeniu tonera, a ob¬ szary o wiekszej koncentracji ladunku staja sie proporcjonalnie bardziej zaczernione. Trwaly za¬ pis oryginalu otrzymywany jest za pomoca przenie¬ sienia wywolanego obrazu na material nosny i utrwalenia na nim wywolanego obrazu. 10 15 20 25 30 Do wywolywania utajonego obrazu elektrosta¬ tycznego stosuje sie wiele zywic pigmentowych, na¬ zywanych ogólnie „tonerami". Material tonera jest zwykle dostarczany do obszarów obrazu za pomoca stosunkowo bardziej gruboziarnistego materialu zwanego nosnikiem przystosowanego do niesienia powierzchni jego ziaren pewnej ilosci tonera. Oba skladniki, toner i nosnik sa tak dobrane, ze gdy sa umieszczone blisko siebie, tak by stykaly sie trac o siebie nawzajem oddzialywuja na siebie elektro¬ statycznie wywolujac miedzy soba przyciaganie tryboelektryczne. Taki dwuskladnikowy material znany jest w dziedzinie kserografii jako „material wywolywacza", a nazwa ta jest w niniejszym opi¬ sie uzywana dla oznaczenia wywolywacza dwu¬ skladnikowego skladajacego sie z materialu nosni¬ ka i z materialu tonera.Znanych jest wiele nadajacych sie do pracy sy¬ stemów wywolywania kserograficznego jednak wiekszosc tych systemów okazala sie niepraktyczna w sensie oplacalnosci poniewaz sa one albo zbyt powolne, zbyt malo wydajne, albo zbyt zlozone by w latwy sposób przystosowac je do zastosowania w samoczynnych urzadzeniach kserograficznych.Wywolywanie kaskadowe, opisane w opisach pa¬ tentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 2 573 881 i 2 990 278, ze wzgledu na swe zalety, sta¬ lo sie jednym z najszerzej stosowanych sposobów wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego.W systemie wywolywania kaskadowego, material 79 9577dd57 3 4 dwuskladnikowy przenoszony jest, na przyklad za pomoca czerpaków, do punktu polozonego ponad plyta kserograficzna, na której niesiony jest obraz, po czym material wywolywacza jest narzucany kaskadowo na powierzchnie tej plyty. Toner, pod wplywem dzialania sil mechanicznych wspomaga¬ nych silami elektrostatycznymi, oddzielany jest od materialu nosnika i jest przyciagany do obszarów obrazu na fotoprzewodzacej plycie. Okazalo sie jednak, ze system kaskadowy jest systemem wy¬ magajacym duzo miejsca.Koniecznosc stosowania duzych przenosników lub im podobnych powoduje znaczne zwiekszenie wiel¬ kosci kserograficznego urzadzenia powielajacego.Ponadto, wzglednie gwaltowny spadek materialu wywolywacza, powodujfe powstawanie niepozada¬ nych chmur pylu, które, z kolei osadzaja niepoza¬ dany material tonera w obszarach tla. Ponadto, opadanie materialu wywolywacza na powierzchnie plyty powoduje scieranie plyty, czego wynikiem jest stosunkowo szybkie pojawianie sie uszkodzen plyty. W systemie kaskadowym obserwuje sie rów¬ niez stosunkowo szybkie pojawianie sie uszkodzen materialu wywolywacza na skutek pekniec ziaren.W celu unikniecia niedogodnosci znanych sposo¬ bów, zwiazanych z wywolywaniem kaskadowym, opracowany zostal nowy sposób wywolywania kse¬ rograficznego polegajacy na tym, ze ruchoma po¬ wierzchnia fotoprzewodzacej plyty jest doprowa¬ dzana do zetkniecia z pewna iloscia materialu wy¬ wolywacza zawartego w obudowie lub podobnym elemencie. Na powierzchni, przejscia miedzy plyta a wywolywaczem ustawiony jest, dzieki wywola¬ nym silom tarcia, przeplyw materialu wywolywa¬ cza w kierunku ku górze. Te sily tarcia sa wystar¬ czajace do niesienia materialu wywolywacza z pred¬ koscia bliska predkosci bebna w styku z ruchoma powierzchnia plyty. Chociaz nie jest to calkowicie wyjasnione uwaza sie, ze wywolywanie dokonuje sie podczas okresu styku przeplywowego za pomoca klasycznej techniki wywolywania i czyszczenia opi¬ sanej w poprzednio wymienionych opisach patento¬ wych. Material wywolywacza po usunieciu go z powierzchni plyty powraca na zaplecze obudowy "wywolywacza, gdzie przed ponownym skierowa¬ niem go w obszar czynnego wywolywania jest uzu¬ pelniany. Taki system typu stykowo-przeplywowe¬ go Jest opisany we francuskim opisie patentowym nr 1 511 809.W zgloszeniu Gundlacha omawia sie wiele kon¬ figuracji geometrycznych, jednak wszystkie one opieraja sie na tej samej podstawowej zasadzie wywolywania. Chociaz wynaleziony przez Gundla¬ cha podstawowy sposób stykowo-przeplywowy usu¬ wa niektóre z poprzednio wymienionych niedogod¬ nosci, system stykowo-przeplywowy równiez ma pewne charakterystyczne dla niego wady. System stykowo-przeplywowy jest zasadniczo systemem po¬ wolnym gdyz podczas kazdego cyklu wywolywania przez uklad przechodzi stosunkowo niewielka ob¬ jetosc materialu wywolywacza. Ta mala predkosc objetosciowa przeplywu, z kolei, przejawia sie w malej predkosci mieszania wywolywacza i trybo- elektryzacji totez system ten nie nadaje sie do za¬ stosowania go w szybko dzialajacych urzadzeniach samoczynnych. Ponadto, do uzyskania optymalnych warunków dzialania systemu, potrzebny jestwzgled¬ nie duzy czas odpowiedzi od chwili uruchomienia urzadzenia.Innym problemem, wiazacym sie z podstawowym systemem stykowo-przeplywajacym, jest przykle¬ janie sie ziaren materialu nosnika do powierzchni plyty fotoprzewodzacej. Zaleznosc trybodektryczna, podobnie jak miedzy nosnikiem a tonerem, wyste¬ puje równiez miedzy powierzchnia fotoprzewodza- ca a materialem nosnika.Material nosnika po oddaniu tonera wykazuje za¬ leznosc ladunkowa z plyta o takiej polaryzacji i wielkosci, ze material nosnika jest elektrostatycz¬ nie przyciagany do powierzchni plyty w obszarach nie zajmowanych przez obraz.Powstale wiazanie chociaz slabe, jest wystarcza¬ jace by material nosnika byl wychwytywany przez powierzchnie ruchomej plyty ze wzglednie spokoj¬ nego strumienia przeplywu wywolywacza. Nosnik ten, przylegajacy do ruchomej plyty, moze byc przetransportowany do nastepnych stanowisk ope¬ racyjnych, gdzie moze spowodowac uszkodzenie.Stwierdzono równiez, ze w podstawowym ukla¬ dzie wywolywania stykowo-przeplywowego wyste¬ puje gromadzenie sie na materiale nosnika ladunku przestrzennego. Stwierdzono, ze wiekszosc poszcze¬ gólnych ziaren nosnika jest odizolowanych elektro¬ statycznie od neutralizujacego dzialania uziemio¬ nej obudowy po prostu przez inne ziarna nosnika otaczajace omawiane ziarna. Chociaz material no¬ snika jest w pewnym sensie odizolowany jednak nadal trwa elektrostatyczne gromadzenie sie nad¬ miernego ladunku wokól jego powierzchni, co jest ograniczone do nieskonczenie malego obszaru lub przestrzeni wokól ziarna. Taki ladunek przestrzen¬ ny w efekcie monopolizuje przestrzen wokól po¬ szczególnych ziaren nosnika i ma szkodliwy wplyw na równowage tryboelektryczna ukladu.Celem,, wynalazku jest podanie sposobu wywoly¬ wania utajonego kserograficznego obrazu, w któ¬ rym tworzy sie utajony obraz elektrostatyczny na fotoprzewodzacej powierzchni i skonstruowanie urzadzenia do utajonego kserograficznego obrazu elektrostatycznego.Celem wynalazku jest równiez wyeliminowanie gromadzenia sie ladunku przestrzennego w styko- wo-przeplywowym ukladzie wywolywania, zwiek¬ szenie dostepnosci wywolywacza w urzadzeniu wy¬ wolywania stykowo-przeplywowego, zmniejszenie przyklejalnosci ziaren nosnika w kserograficznych urzadzeniach wywolujacych, zwlaszcza w urzadze¬ niu wywolujacym typu stykowo-przeplywowego, uzyskanie takiego urzadzenia do wywolywania sty¬ kowo-przeplywowego, które zapewnia stala ja¬ kosc wywolywania i moze byc zastosowane w sa¬ moczynnym urzadzeniu kserograficznym, zmniejsze¬ nie czasu potrzebnego na doprowadzenie urzadze¬ nia do wywolywania stykowo-przeplywowego do optymalnych warunków dzialania, oraz wyelimi¬ nowanie scierania plyty i pekniec ziaren nosnika w kserograficznym urzadzeniu wywolujacym.Cel wynalazku zostal osiagniety przez opracowa¬ nie sposobu wywolywania utajonego kserograficz- 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60Tfctsr 5 nego obrazu elektrostatycznego, w którym material wywolywacza doprowadza sie do obszaru czynnego wywolywania w sposób ciagly dla podtrzymania przeplywu materialu wywolywacza przez obszar czynnego wywolywania.Cel wynalazku zostal osiagniety równiez przez skonstruowanie urzadzenia wywolujacego, które ma obudowe z przewidzianym w niej otworem dla umieszczenia w nim czesci bebna, podajnik slima¬ kowy, usytuowany przy wejsciu do obszaru czyn¬ nego wywolywania, przylegly do powierzchni beb¬ na: dla ciaglego zasilania materialem wywolywa¬ cza poprzecznie do kierunku obrotu bebna, podaj¬ nik slimakowy usytuowany przy wylocie z obszaru czynnego wywolywania, przylegle do powierzchni bebna, zsuwnie dla polaczenia operacyjnego podaj¬ ników w stosunku do obracania podajników slima¬ kowych oraz zespól napedowy dla obracania podaj¬ ników w stosunku do obracanego bebna.Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przy¬ kladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia obudowe wraz z bebnem kserograficz¬ nym nadajace sie do zastosowania w samoczynnym urzadzeniu kserograficznym w widoku aksonome- trycznym, fig. 2 — schemat urzadzenia wywoluja¬ cego wedlug wynalazku przystosowanego do ciag¬ lej pracy w samoczynnym urzadzeniu kserograficz¬ nym, fig. 3 — urzadzenie wywolujace w przekroju poprzecznym wzdluz linii 3—3 na fig. 2 bez uwi¬ docznienia bebna kserograficznego, fig. 4 — schemat urzadzenia do wywolywania stykowo-przeplywowe- go znanego ze stanu techniki.Uwaza sie za uzasadnione, podac obecnie, w ce¬ lu pemi&jszego zrozumienia zasady niniejszego wy¬ nalazku, krótkie omówienie podstawowego ukladu wywolywania stykowo-przeplywowego i mechaniz¬ mu przeplywu polaczonego z nim. Znane urzadze¬ nie do wywolywania slykowo-przeplywowego za¬ wiera beben 1(V osadzony obrotowo tak, by poru¬ szal sie w pokazanym przez strzalke kierunku przez obudowe 15 w ksztalcie muszli (fig. 4). Obu¬ dowa 1& zawiera wystarczajaca ilosc materialu, wy¬ wolywacza 15. Powierzchnia obracajacego sie beb¬ na 10 w czasie-swego ruchu przez obudowe styka sie w sposób- ciagly z materialem wywolywacza IL Sily tarcia, ustalajace sie miedzy ruchoma powie¬ rzchnia bebna 10 i materialem wywolywacza 15 powoduja, ze cienka warstwa materialu wywolywa¬ cza 15 przylegla do powierzchni bebna 10 prze¬ mieszcza sie w kierunku ku górze w przyblizeniu z predkoscia bebna 10. Na skutek przemieszczania sie; materialu wywolywacza 15 w kierunku ku gó¬ rze na dnie obudowy 12 wytworzona zostaje pusta przestrzen, która jest wypelniana na skutek tego, ze- cala denna warstwa materialu wywolywacza 15- przemieszcza sie w przyblizeniu jako calosc w kie¬ runku ku dolowi. W ten, sposób wewnatrz obudowy 13 powstaje przeplyw materialu wywolywacza.Droga, po której odbywa sie przeplyw materialu wywolywacza 15 w kierunku ku górze, podczas gdy przemieszcza sie on w zetknieciu z powierzchnia bebna 10r stanowi obszar czynny wywolywania. Te¬ oretycznie, material wywolywacza 15, wlasciwie naladowany i ztonowany podawany jest na po¬ czatek, obszaru czynnego wywolywania z zasobnika * materialu wywolywacza usytuowanego na zapleczu ukladu. Material wywolywacza ,]£» w czasie gdy przeplywa, stykajac sie z bebnem 10* przez obszar czynnego wywolywania, wywoluje, utajony obraz 5 na bebnie 10* W tym czasie, toner jest pta$ciaga&y elektrostatycznie z materialu nosnika do silniej naladowanych obszarów obrazu. Z powodu stosun¬ kowo spokojnego dzialania przeplywu ustanowio¬ nego w obudowie 13, toner jedynie w malych ilo- io sciach lub wcale nie jest zbierany z materialu no¬ snika w sposób mechaniczny. Przemieszczanie sie materialu wywolywacza w wetknieciu z powierz¬ chnia ruchomego bebna 10- trwa az do momentu, gdy przestana wystepowac sifer tarcia utrzymujace 15 material wywolywacza w przyleganiu do powie¬ rzchni bebna 10, na przyklad, na skutek wyjscia bebna 10 ze styku z materialem wywolywacza UL Wzglednie wyladowany material wywolywacza 15 powraca do czesci tylnej ukladu gdzie jest on uau- 20 pelniany w trakcie swego ruchu, w kierunku k& dolowi, w celu zapelnienia pustej przestrzeni pozo¬ stawionej przez ciagly przeplyw materialu wywo¬ lywacza poruszajacego sie w kierunku ku górze.W podstawowym urzadzeniu wywolywania sty- 25 kowo-przeplywowego, predkosc przeplywu nie jest ograniczona przez przeplyw przez obszar czynnego wywolywania lecz raczej przez czas potrzebny na powrót materialu wywolywacza do obszaru czyn* nego wywolywania przez tylna czesc ukladu. Po- 30 niewaz uklad jest zamkniety, objetosciowa pradV kosc przeplywu przez obszar czynnego wywolywac nia musi byc równa predkosci objetosciowej prze¬ plywu w czesci tylnej ukladu. Próby wykazaly, ze sily dzialajace na powierzchni miedzyfazowej be- 35 ben — wywolywacz pozwalaja na zwiekszenie pred¬ kosci przeplywu 8—10 razy w stosunku do predko¬ sci wystepujacej w ukladzie podstawowym, przed¬ stawionym na fig. 4. Z powyzszego omówienia wy¬ nika, ze predkosc przeplywu w podstawowym 49 ukladzie stykowo-przeplywpwym jest ograniczona predkoscia przeplywu w czesci tylnej, a ta z kolei wynika z geometrycznego uksztaltowania drogi po* wrotnej. W celu uzyskania mozliwie najwiekszej predkosci przeplywu czesc tylna ukladu wywoly- 45 wania powinna byc korzystnie uksztaltowana moz¬ liwie najbardziej, stromo.W urzadzeniu podstawowym, do wywolywani*; stykowo-przeplywowego; kat naturalnego^ stpjoi materialu wywolywacza 15- ogranicza, uksztaltowac, so nie drogi powrotnej ukladu. Kat naturalnego- sto- ku jest to maksymalny kat z poziomem,pod jakim, pewna ilosc sypjriego materialu takiego- jak mate¬ rial wywolywacza 15Vpozostaje w swym naturalnym, polozeniu nie zeslizgujac sie. 55 Jak przedstawione ma fig. 4* kat naturalnego sto¬ ku wywolywacza w obudowie 13 w ksztalcie mu^ szli nie pozwala na stykanie sie wywolywacza1& z powierzchnia bebna 10 na znacznym- odcinku, podczas gdy beben 10 obraca sie w obudowie 13.. 66 Dla wiekszosci dostepnych w handlu materialów wywolywacza 15, zetkniecie bebna 10,z-materialem wywolywacza 15 nie moze byc osiagniete zanim* beben 10 nie dokona obrotu o okolo 45° od linfr pionowej. Kat naturalnego stoku: materialu, icisle 65 okresla uksztaltowanie drogi powrotu ukladu, a7 przez to ogranicza predkosc przeplywu jaka moz¬ na uzyskac w podstawowym urzadzeniu stykowo- przeplywowym.Pomimo tego, ze w podstawowym urzadzeniu wywolywania stykowo-przeplywowego predkosc objetosciowa przeplywu jest wzglednie mala, jed¬ nak uklad taki jest wysoce wydajny glównie dzie¬ ki temu, ze dobra reprodukcje kserograficzna moz¬ na uzyskac w urzadzeniu wykorzystujacym sposób wywolywania stykowo-przeplywowy o predkosci objetosciowej przeplywu wywolywacza 200—100 ra¬ zy mniejszej niz predkosc przeplywu w porówny¬ walnych urzadzeniach wykorzystujacych przeplyw kaskadowy wywolywacza. O tej niezwykle wysokiej wydajnosci swiadczy ponadto stan wyladowania zia¬ ren nosnika opuszczajacych obszar czynny wywoly¬ wania co swiadczy o tym, ze material nosnika oddal) podczas wywolywania wiekszosc swego tonera.Na fig. 1—3 przedstawione jest urzadzenie we¬ dlug wynalazku. Wynalazek zostal opisany na przy¬ kladzie zastosowania w urzadzeniu kserograficz¬ nym typu bebnowego jednak wynalazek doskonale nadaje sie do zastosowania w kazdego typu samo¬ czynnym urzadzeniu do wykonywania reprodukcji kserograficznych.Jak przedstawiono na fig. 2, beben 10 jest osa¬ dzony na wale 11 podpieranym przez ramy boczne (nie przedstawiono na rysunku). Wokól bebna 10 usytuowane sa glówne zespoly procesu kserograficz¬ nego tak, ze moga one dzialac na powierzchnie bebna 10 podczas gdy obracajac sie w sposób ciag¬ ly przechodzi on przez rózne stanowiska.Ogólnie, mozna wymienic i opisac funkcjonalnie kilka stanowisk kserograficznych usytuowanych na drodze ruchu powierzchni bebna 10. Sa nimi stanowisko A, w którym na fotoprzewodzacej po¬ wierzchni bebna 10, zostaje wytworzony jednorod¬ ny ladunek elektrostatyczny, stanowisko B naswie¬ tlania, w którym w celu rozproszenia w naswietla¬ nych obszarach ladunku, aby utworzyc na powie¬ rzchni bebna utajony obraz elektrostatyczny repro¬ dukowanego oryginalu, na beben kserograficzny rzutowane jest swietlne lub z innego rodzaju pro¬ mieniowania odwzorcowanie powielanego orygina¬ lu, stanowisko C wywolywania, w którym ksero¬ graficzny material wywolujacy, zawierajacy czast¬ ki tonera o ladunku elektrostatycznym przeciwnego znaku niz ladunek obrazu elektrostatycznego, umie¬ szczony jest w styku z ruchoma powierzchnia beb¬ na 10, przy czym powoduje sie, by czastki tonera przywieraly do utajonego obrazu elektrostatyczne¬ go znajdujacego sie na bebnie 10, stanowisko D przenoszenia, w którym wywolany obraz elektro¬ statyczny przenoszony na material nosny oraz sta¬ nowisko E czyszczenia bebna 10 i rozladowywania, w którym dla usuniecia pozostalych na niej cza¬ stek tonera, powierzchnia bebna 10 jest czyszczona za pomoca szczotki i w tym samym czasie w celu spowodowania zasadniczo calkowitego rozladowania powierzchni bebna z pozostalego na niej szczatko¬ wego ladunku elektrostatycznego jest ona wysta¬ wiona na dzialanie stosunkowo silnego zródla swia¬ tla.Urzadzenie wedlug wynalazku zawiera obudowe 90 majaca w górnej swej czesci otwarcie przezna- 957 8 ozone do umieszczenia w nim obrotowego ksero¬ graficznego bebna 10. W dolnej swej czesci obudo¬ wa 20 ma w przekroju poprzecznym ksztalt wygie¬ tej lukowato muszli lub plyty 21 przyleglej do beb- 5 na i biegnacej wzdluz powierzchni bebna kiedy powierzchnia bebna i lukowato wygieta muszla sa ustawione w stanie czynnym, zostaje utworzona miedzy nimi szczelina 22 bedaca funkcjonalnie ob¬ szarem czynnego wywolywania, którego dzialanie io zostanie szczególowo wyjasnione ponizej. Reszta dolnej czesci obudowy ma w poprzecznym przekro¬ ju ksztalt rynien, które biegna wzdluz powierzchni bebna 10. Zasilajaca rynna 23 usytuowana jest na poczatku obszaru czynnego wywolywania, to jest 15 przy przeciwpradowym wejsciu do obszaru czynne¬ go wzgledem kierunku przemieszczania sie bebna 10. Rynna 24 jest podobnie usytuowana przy prze¬ ciwnym koncu lub wylocie pozapradowym obszaru czynnego wywolywania. Nalezy zauwazyc, ze oba 20 obszary rynnowe lacza sie z obszarem czynnym wywolywania wzdluz powierzchni bebna poprzez otwarcia 29 i 30.Obie rynny 23, 24 i obszar czynnego wywolywa¬ nia sa z obu stron zamkniete za pomoca czolowych 25 plyt 31 i 32. Plyty czolowe 31, 32 sa wyposazone w uszczelki 47 zabezpieczajace przed wyplywem ma¬ terialu wywolywacza z obudowy jak równiez sku¬ tecznie zabezpieczajace przed przeniknieciem do obudowy z zewnatrz brudu lub smaru, który mógl- 3o by uszkodzic powierzchnie bebna 10. Chociaz w omawianym przykladzie wykonania zastosowano uszczelnienie czolowe, oczywistym jest, ze dla sku¬ tecznego izolowania obszaru wywolywania mozna zastosowac kazdy inny rodzaj uszczelnienia, na 35 przyklad uszczelki dociskane promieniowo.Przy jednym koncu bebna 10 obudowa 20 jest przedluzona w celu utworzenia pochylonej, powro¬ tnej zsuwni 40. Zsuwnia 40 zamknieta jest plyta 42 z jednej strony a z drugiej strony czolowa plyta * 31 obudowy przez co zostal utworzony obszar za¬ sobnikowy, przeznaczony do umieszczenia w nim pewnej ilosci materialu wywolywacza. Czolowa plyta 31 posiada dwa kolowe otwory 43 i 44 przez które pochylona, powrotna zsuwnia 40 polaczona 45 jest odpowiednio z zasilajaca rynna 23 i powrotna rynna 24.Stozkowo zbiezny podajnik slimakowy 25 jest ulozyskowany obrotowo w lozyskach kulkowych osadzonych w dzielonych obudowach 33. Obudowy j 50 33 sa z kolei osadzone w plytach 32 i 42. Podajnik slimakowy 25 jest tak skonstruowany, ze obracajac sie w pokazanym kierunku transportuje material wywolywacza z dolnego konca zsuwni przez otwór 43 do zasilajacego rynny 23. Czop podajnika slima- 55 kowego 25 wystaje poza zasadnicza obudowe 20 i ma sztywno na nim zamocowane zebate kola 48 napedzane za pomoca odpowiedniego urzadzenia napedowego, na przyklad silnika 50. Zbieznosc po¬ dajnika slimakowego 25 jest dobrana ze wzgledu 6o na wybrana predkosc z jaka obraca sie tak, ze w czasie dzialania, material wywolywacza podawany z zsuwni 40 rozklada sie równomiernie wzdluz za¬ silajacej rynny 23. Zwrotna zastawka 37, osadzona przy koncu rynny 23, uniemozliwia gromadzenie sie 65 materialu wywolywacza przy czolowej plycie 32,i 79957 10 Podajnik slimakowy 26 jest w podobny sposób obrotowo osadzony w dzielonych lozyskach 33 usy¬ tuowanych w plytach 32 i 42. Czop podajnika sli¬ makowego 26 równiez wystaje poza obudowe i po¬ siada osadzone na nim zebate kolo 49. Kolo 49 jest napedzane za pomoca odpowiedniego urzadzenia napedowego, na przyklad silnika 51, tak, by podaj¬ nik slimakowy 26 obracajac sie w kierunku poka¬ zanym na fig. 2 przenosil material wywolywacza z rynny powrotnej 24 do zsuwni 40.Przed uruchomieniem, do urzadzenia wedlug wy¬ nalazku zaladowuje sie wystarczajaca do utrzymy¬ wania ciaglego dzialania ilosc materialu wywoly¬ wacza, a nastepnie nadaje sie podajnikom 25, 26 predkosci robocze. Stozkowo zbiezny podajnik sli¬ makowy 25 obraca sie w pokazanym kierunku przez co dostarcza w sposób ciagly mieszanine wy¬ wolywacza do zasilajacej rynny 23. Jak juz wyja¬ sniono powyzej, dzieki mieszajacemu dzialaniu stozkowo zbieznego podajnika material wywolywa¬ cza rozklada sie w rynnie zasilajacej równomier¬ nie. Boczna scianka 46 rynny 23, czyli scianka boczna usytuowana naprzeciwko wejscia do obszaru czynnego wywolywania, przedluzona jest w kierun¬ ku pionowym, przez co material wywolywacza mo¬ ze gromadzic sie do odpowiedniej wysokosci, przez co ziarnisty material wywolywacza bedzie zeslizgi¬ wac sie, po przekroczeniu kata naturalnego stoku, w otworze 29. Zeslizgiwanie sie materialu wywoly¬ wacza przy wejsciu do obszaru czynnego wywoly¬ wania powoduje wystepowanie w tym miejscu par¬ cia w kierunku poziomym, przez co zapewniony jest szybki, nieprzerwany, niezaklócony przeplyw materialu z rynny 23 w wejsciu obszaru czynnego wywolywania. Material wywolywacza, tak podawa¬ ny w obszar czynnego wywolywania zapelnia ob¬ szar wejsciowy umozliwiajac by obracajacy sie be¬ ben 10 po zetknieciu sie z materialem wywolywa¬ cza zabieral go. Material wywolywacza przeplywa przez obszar czynnego wywolywania pod dziala¬ niem powierzchni obracajacego sie bebna 10 a na¬ stepnie przechodzi przez otwarcie 30 do powrotnej rynny 24. Podajnik 26, obracajac sie w pokazanym kierunku, przemieszcza mieszanine wywolywacza w rynnie bocznie przez otwór 44 w czolowej ply¬ cie 31 do zsuwni 40. Material wywolywacza spada na spód zsuwni 40 skad jest ponownie zabierany przez podajnik 25.Od czasu do czasu mozna, w celu uzupelnienia ubytku materialu wywolywacza na skutek osadza¬ nia sie go na fotoprzewodzacym materiale izolacyj¬ nym przechodzacym przez urzadzenie wywolujace, dodawac uzupelniajacy material wywolywacza przez otwarta przykrywe zsuwni do obiegu. Do te¬ go celu mozna zastosowac jedno z wielu znanych w tej dziedzinie urzadzen samoczynnego zasilania materialem wywolywacza.Urzadzenie wedlug wynalazku pracuje na zasa¬ dzie zamknietego obiegu przeplywu z zastosowa¬ niem wysoko wydajnego mechanizmu stykowo-prze- plywowego, przy czym przeplyw w czesci powrotnej ukladu moze byc sterowany. Przeplyw materialu przez uklad nie jest wymuszony uksztaltowaniem drogi powrotnej, lecz przez sterowanie ilosci mate¬ rialu podawanej podajnikiem slimakowym mozna utrzymywac zadana predkosc przeplywu materialu przez uklad.W korzystnym przykladzie wykonania urzadzenia 5 wedlug wynalazku, podajnik slimakowy 25 i pc*- dajnik slimakowy 26 sa dobrane tak, ze podczas jednego obrotu przenosza w przyblizeniu taka sama ilosc materialu. Podajnik 26 obraca sie jednak z predkoscia nieco wieksza niz podajnik 25. Uklad nie musi byc zatem przy niewielkich zmianach predkosci przeplywu materialu przez obszar czyn¬ nego wywolywania kompensowany. Niewielkie zmiany predkosci przeplywu materialu wywoly^ wacza przez obszar czynnego wywolywania poja¬ wiaja sie przy zmianach wilgotnosci lub przy za¬ stosowaniu innego materialu wywolywacza. Podaj¬ nik slimakowy jest nieczuly na takie zmiany, po¬ daje zatem nadal na wejscie obszaru czynnego wy¬ wolywania taka sama ilosc materialu wywolywacza.Fakt, ze predkosc obracania sie podajnika 26 jest wieksza niz podajnika 25, powoduje, ze zwieksza¬ nie predkosci przeplywu nie ma wplywu na efekty dzialania ukladu. Stwierdzono praktycznie, ze za¬ dowalajace rezultaty uzyskuje sie wtedy, gdy sto¬ sunek predkosci podajnika 26 do predkosci podaje nika 25 wynosi jak 1,4-5-1.Nalezy ponadto zauwazyc, ze w urzadzeniu we¬ dlug wynalazku usytuowanie podajników 25, 26 i wspólpracujacych z nimi rynien moze byc inne niz opisano na podstawie omawianego przykladu wykonania. W omawianym przykladzie wykonania zastosowany jest uklad wywolywania w przeply¬ wie pod góre, zatem rynna powrotna musi byc usy¬ tuowana wyzej niz rynna zasilajaca. Urzadzenie wedlug wynalazku moze byc stosowane przy róz¬ nych dlugosciach i róznym usytuowaniu obszaru czynnego wywolywania, przez co moze byc wyko¬ rzystane w urzadzeniach o róznej konstrukcji wspólpracujac z mechanizmami róznego typu. Przy¬ kladowo, obszar czynnego wywolywania moze byc przedluzony lub skrócony tak, by zoptymalizowac wywolywanie w urzadzeniach dzialajacych przy róznych predkosciach lub majacych rózne rozmia¬ ry bebnów. Dla fachowców powinno byc oczywi¬ stym, ze konstrukcja zawierajaca dwa podajniki slimakowe nie musi byc stosowana jedynie w po¬ laczeniu z cylindrycznym bebnem lecz moze byc w latwy sposób przystosowana do wspólpracy z wieloma róznymi ukladami fotoprzewodzacego pasa bez konca, jak równiez z ruchomymi plaskimi ply¬ tami fotoprzewodzacymi.Konstrukcja zawierajaca dwa podajniki slimako¬ we oddziela obszar czynny wywolywania od czesci powrotnej ukladu, przez co uzyskano urzadzenie o wiekszej elastycznosci dzialania niz bylo to moz¬ liwe w przypadku podstawowego ukladu stykowo- przeplywowego. Lukowato wygieta plyta 21 two¬ rzaca scianke denna obszaru czynnego wywolywa¬ nia usytuowana jest bardzo blisko ruchomej po¬ wierzchni fotoprzewodzacej i dziala zasadniczo w ten sam sposób jak w konwencjonalnym ukladzie wywolywania elektroda po przylozeniu do niej sta¬ lego napiecia polaryzujacego.Jak przedstawiono na fig. 2, lukowato wygieta plyta jest odizolowana elektrycznie od obudowy 20 15 20 25 80 35 40 45 50 55 60Tfttsr a w celu wytlumienia wywolywania tla oraz w celu dalszego zwiekszenia zdolnosci pokrywania pelne¬ go obszaru jest spolaryzowana napieciem stalym o wystarczajacej wielkosci. Dalsze informacje do¬ tyczace dzialania takich elektrod mozna znalezc w opisach patentowych Stanów Zjednoczonych Ame¬ ryki nr 2 573 881 i nr 2 725 304.Stwierdzono, ze wystarczajace dla uzyskania sku¬ tecznego mieszania wywolywacza i tryboelektryza- cji pobudzanie materialu wywolywacza zachodzi w calym zakresie dzialania urzadzenia wedlug wy¬ nalazku. Oznacza to, ze uklad taki jest zdolny do podawania odpowiednio wymieszanego i nalado¬ wanego materialu wywolywacza do wejscia obsza¬ ru czynnego wywolywania bez wzgledu na utrzy¬ mana w ukladzie predkosc przeplywu. Praca ukla¬ du polega nie na mieszaniu wywolywacza w prze¬ plywie przez przestrzen miedzyfazowa beben — wywolywacz lecz raczej na mieszaniu powodowa¬ nym przez obracajace sie w sposób ciagly podaj¬ niki Oba podajniki oprócz przemieszczania i miesza¬ nia materialu wywolywacza, spelniaja równiez inna role. Podajnik slimakowy 25, stykajacy sie z wiek¬ szoscia ziarnistego materialu wywolywacza zanim material ten zostanie podany do obszaru czynnego wywolywania jest uziemiony, w celu odprowadze¬ nia mogacego sie wytworzyc na materiale nosnika ladunku przestrzennego. Podajnik 26 uzyty jest do wytlumienia zlepiania sie ziaren. Podajnik ten jest odizolowany elektrycznie od obudowy i spolaryzo¬ wany napieciem stalym. Jest on usytuowany bar¬ dzo blisko powierzchni bebna i spolaryzowany la¬ dunkiem o takim znaku i wielkosci, ze zapewnione jest przyciaganie ziaren nosnika tryboelektrycznie przylegajacych do powierzchni bebna.Korzystnym jest by spolaryzowany elektrycznie slimak powrotny obracal sie w kierunku przeciw¬ nym do kierunku ruchu wskazówek zegara, przez co ziarna nosnika wchodzace w zasieg jego dzia¬ lania, to jest ziarna elektrostatycznie odlaczane od powierzchni bebna, sa sciagane ku dolowi, w kie¬ runku dennego obszaru rynny 24, przez co uniemo¬ zliwia sie ucieczke ziaren z ukladu przez szczeline miedzy obudowa i powierzchnia bebna. PL PL

Claims (9)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wywolywania utajonego kserograficz¬ nego obrazu elektrostatycznego, w którym tworzy sie utajony obraz elektrostatyczny na fotoprzewo- dzacej powierzchni, po czym przemieszcza sie te powierzchnie w kierunku pod góre, przy czym utrzymuje sie pewna ilosc materialu wywolywacza w styku z poruszajaca sie ku górze powierzchnia dla spowodowania przeplywu materialu wywoly¬ wacza w styku z ruchoma powierzchnia przez ob- 5 szar czynnego wywolywania o dlugosci wystarcza¬ jacej do wywolania obrazu, znamienny tym, ze material wywolywacza doprowadza sie do obszaru czynnego wywolywania w sposób ciagly dla pod¬ trzymania przeplywu materialu wywolywacza przez obszar czynnego wywolywania.

2. Urzadzenie do wywolywania utajonego ksero¬ graficznego obrazu elektrostatycznego zawierajace ruchoma fotoprzewodzaca powierzchnie przeznaczo¬ na do naniesienia na niej utajonego obrazu elek¬ trostatycznego, zespól do napedzania tej powierzch¬ ni, plyte usytuowana przylegle do poruszajacej sie fotoprzewodzacej powierzchni, tworzaca z fotoprze¬ wodzaca powierzchnia szczeline o szerokosci rów¬ nej szerokosci obrazu na powierzchni, znamienne tym, ze ma obudowe (20) posiadajaca otwór dla umieszczenia w nim czesci bebna (10), podajnik slimakowy (25) usytuowany przy wejsciu do obsza¬ ru czynnego wywolywania, przylegly do powierzch¬ ni bebna (10), dla ciaglego zasilania materialem wywolywacza poprzecznie do kierunku obrotu beb¬ na (10), podajnik slimakowy (26) usytuowany przy wylocie z obszaru czynnego wywolywania, przyle¬ gle do powierzchni bebna (10), zsuwnie (40) dla polaczenia operacyjnego podajników slimakowych (25, 26) oraz zespól napedowy dla obracania podaj¬ ników (25, 26) w stosunku do obracanego beb¬ na (10).

3. Urzadzenie wedlug zastrz. 2, znamienne tym, ze podajnik (25) ma ksztalt stozka zbieznego w kierunku od zsuwni (40) do plyty (32).

4. Urzadzenie wedlug zastrz. 2, znamienne tym, ze podajnik (25) jest uziemiony.

5. Urzadzenie wedlug zastrz. 2, znamienne tym, ze podajnik (26) ma predkosc obrotowa wieksza niz podajnik (25).

6. Urzadzenie wedlug zastrz. 2 albo 5, znamien¬ ne tym, ze stosunek predkosci obrotowej podajni¬ ka (26) do predkosci obrotowej, podajnika (25) wy¬ nosi okolo 1,4.

7. Urzadzenie wedlug zastrz. 2, znamienne tym, ze plyta (21) stanowi czlon przewodzacy i ma ze¬ spól dla spolaryzowania jej potencjalem elektrycz¬ nym.

8. Urzadzenie wedlug zastrz. 2, znamienne tym, ze zawiera zespól dla polaryzowania podajnika (26).

9. Urzadzenie wedlug zastrz. 2, znamienne tym, ze ma plyty (31, 32) zamykajace obszar czynnego wywolywania. 15 20 29 30 45KI. 57e,13/08 70 957 MKP G03g 13/08 Fig. 2KI.57e,13/08 79957 MKP G03g 13/08 Fig. 3 PZG Bydg., zam. 2496/75, nakl. 100+20 Cena 10 zl PL PL