Pierwszenstwo: Zgloszenie ogloszono: 30.05.1973 Opis patentowy opublikowano: 15.01.1975 75266 KI. 12e,2/01 MKP B01d 47/14 Twórcywynalazku: Marian Jedo, Marian Lesniak Uprawniony z patentu tymczasowego: „CEBEA" Osrodek Badawczo-Rozwojowy Przemyslu Budowy Urzadzen Chemicznych, Kraków (Polska) Urzadzenie ze zlozem fluidalnym do oczyszczania gazów i/lub wymiany masy Przedmiotem wynalazku jest kolumnowe urzadzenie ze zlozem fluidalnym przeznaczone do oczyszczania gazów, wymiany masy oraz do procesów neutralizacji.Znane sa urzadzenia kolumnowe ze zlozem fluidalnym przeznaczone do oczyszczania gazów i wymiany masy, w których wypelnienie, skladajace sie z elementów o ksztalcie kulistym, rozmieszczone jest na jednej wzglednie kilku pólkach. Aparat zraszajacy umieszczony jest w górnej czesci kolumny.Wada znanych urzadzen jest zuzywanie duzej ilosci cieczy zraszajacej oraz czeste awarie aparatów zraszajacych w wyniku czego proces oczyszczania gazów przebiega nieprawidlowo.Celem wynalazku jest opracowanie takiej konstrukcji aparatu, która zapewnilaby bezawaryjne, ciagle zwilzanie roboczej czesci kolumny wraz z wypelnieniem, dzieki czemu uzyskaloby sie optymalne warunki przebiegu zalozonego procesu technologicznego przez caly czas jego trwania.Cel ten osiagnieto dzieki temu, ze aparat kolumnowy którego przekrój poprzeczny posiada ksztalt dowolnej figury geometrycznej podzielony zostal przegroda ustawiona pod katem na dwie komory, dolna komore przelotowa, do której doprowadza sie gaz oraz komore górna fluidyzacyjna, wypelniona zlozem fluidalnym. W przegrodzie osadzone sa dysze. Ciecz zwilzajaca doprowadzana jest do dolnej czesci komory fluidyzacyjnej, lustro cieczy znajduje sie powyzej wylotu dysz.Przedmiot wynalazku w przykladzie wykonania uwidoczniono na zalaczonym rysunku, na którym pokazano aparat kolumnowy w przekroju pionowym.Urzadzenie wedlug wynalazku sklada sie z pionowej kolumny 1 wewnatrz której umocowana jest pod katem przegroda 2 dzielaca kolumne na dwie komory, komore przelotowa 3 oraz komore fluidyzacyjna 4.W przegrodzie 2 pionowo umieszczone sa dysze 5, przy czym ilosc dysz 5 jest tak dobrana aby stosunek powierzchni przekroju poprzecznego komory fluidyzacyjnej 4 do sumarycznej powierzchni swiatla dysz 5 wynosil 1 : 3 do 1 : 4. Taki stosunek wzajemny obu powierzchni zapobiega przedostawaniu sie cieczy zwilzajacej do wnetrza dysz 5. Komora fluidyzacyjna 4 wypelniona jest zlozem w postaci kulistych elementów 6 o róznej lub równej srednicy, przy czym minimalna srednica elementu kulistego 6 musi byc wieksza od wewnetrznej srednicy dyszy 5 od 10 do 15%. Ciezar wlasciwy zloza fluidyzacyjnego powinien byc zblizony do ciezaru wlasciwego cieczy nawilzajacej dzieki czemu osiaga sie optymalne warunki fluidyzacji. Komora przelotowa 32 75 266 zaopatrzona jest wkróciec doprowadzajacy 7, przez który wtlaczany jest gaz. Komora fluidyzacyjna 4 wyposazona jest wkróciec odprowadzajacy 8, przez który odprowadzany jest gaz oczyszczony. Króciec 8 umieszczony moze byc bezposrednio w górnej czesci kolumny 1, lub wprzypdku wyposazenia aparatu w kolektor 9, na nim. Króciec odprowadzajacy 9 wyposazony jest w rure 10 polaczona z dolna czescia komory fluidyzacyjnej 4 w celu odprowadzenia resztek cieczy nawilzajacej, która przedostala sie do czyszczonego gazu.Komora fluidyzacyjna 4 polaczona jest z urzadzeniem zalewowym 11, przy czym urzadzenie powinno byc tak umieszczone, aby lustro cieczy zwilzajacej znajdowalo sie powyzej wylotu dysz 5. Poprzez króciec odprowadzajacy 12 umieszczony w najnizszym punkcie komory fluidyzacyjnej 4 odprowadzana jest zanieczysz¬ czana ciecz zwilzajaca do odstojnika nie uwidocznionego na rysunku. Zanieczyszczony gaz wtlaczany poprzez króciec doprowadzajacy 7 po przejsciu poprzez komore przelotowa 3 i dysze 5 przedostaje sie do komory fluidyzacyjnej 4. Dzieki temu, ze wylot dysz 5 znajduje sie pod lustrem cieczy zraszajacej nastepuje duza burzliwosc kulek 6 stanowiacych zloze fluidalne. Ciecz zwilzajaca wraz ze strumieniem gazu podnoszona jest do góry, zwilzajac cale zloze, nastepuje zjawisko efektywnych zderzen nawilzonych czastek pylu ze zlozem wskutek czego ciecz zostaje wytracona ze strugi gazu, i opada na skosna przegrode 2 skad króccem odprowadza¬ jacym 12 lacznie z czescia cieczy zwilzajacej odprowadzona jest do odstojnika. Oczyszczony gaz odprowadzony jest króccem odprowadzajacym 8.Urzadzenie wedlug wynalazku pracuje w obiegu zamknietym cieczy zwilzajacej, ciecz zraszajaca po czesciowym oczyszczeniu w osadniku doprowadzana jest do urzadzenia zalewowego 11.Zastosowanie urzadzenia wedlug wynalazku zapewnia skuteczniejsze oczyszczanie gazu, dzieki intensyw¬ niejszemu zwilzaniu zloza fluidalnego. Praca w zamknietym obiegu cieczy zwilzajacej zapewnia minimalne zuzycie wody, co przy ogólnym deficycie wody jest niezmiernie wazne. PL PLPriority: Application announced: May 30, 1973 Patent description was published: January 15, 1975 75266 KI. 12e, 2/01 MKP B01d 47/14 Creators of the invention: Marian Jedo, Marian Lesniak Authorized by the provisional patent: "CEBEA" Research and Development Center of Przemysł Budowy Urzadzen Chemicznych, Kraków (Poland) A device with a fluidized bed for gas purification and / or mass exchange The subject of the invention is a column fluidized bed device for gas purification, mass exchange and neutralization processes. Fluidized bed column devices for gas purification and mass exchange are known, in which the filling, consisting of spherical-shaped elements, is arranged on The sprinkler is placed in the upper part of the column. The disadvantage of known devices is the consumption of large amounts of spraying liquid and frequent failures of sprinkler devices, as a result of which the gas purification process is incorrect. The aim of the invention is to develop such a device structure that would ensure failure-free, continuous operation. wetting the working Czech These columns with the filling, thanks to which the optimal conditions for the course of the assumed technological process would be achieved throughout its duration. This goal was achieved thanks to the fact that the column apparatus, the cross-section of which has the shape of any geometric figure, was divided into two chambers at an angle, the lower one a passage chamber to which gas is supplied; and an upper fluidization chamber filled with a fluidized bed. There are nozzles embedded in the partition. The wetting liquid is fed to the lower part of the fluidization chamber, the liquid surface is above the nozzle outlet. The subject of the invention in the embodiment example is shown in the attached drawing, which shows the column apparatus in a vertical section. The device according to the invention consists of a vertical column 1 inside which is mounted at the angle of partition 2 dividing the column into two chambers, passage chamber 3 and fluidization chamber 4. In partition 2, nozzles 5 are placed vertically, the number of nozzles 5 is selected so that the ratio of the cross-sectional area of the fluidization chamber 4 to the total lumen area of nozzles 5 is 1: 3 to 1: 4. Such a ratio of both surfaces prevents the penetration of the wetting liquid into the nozzles 5. The fluidization chamber 4 is filled with a bed in the form of spherical elements 6 of different or equal diameter, but the minimum diameter of the spherical element 6 must be greater from the inside diameter of the nozzle 5 from 10 to 15%. The specific weight of the fluidization bed should be close to the specific weight of the humidifying liquid, thanks to which optimal fluidization conditions are achieved. The passage chamber 32 75 266 is provided with a feed pipe 7 through which gas is injected. The fluidization chamber 4 is equipped with an exhaust port 8 through which the purified gas is discharged. The pipe 8 can be placed directly in the upper part of the column 1, or if the apparatus is equipped with a collector 9 thereon. The discharge port 9 is equipped with a pipe 10 connected to the lower part of the fluidization chamber 4 in order to discharge the residual wetting liquid that has penetrated into the gas to be cleaned. The fluidization chamber 4 is connected to the priming device 11, the device should be positioned so that the liquid mirror is The wetting fluid is located above the outlet of the nozzles 5. The contaminated wetting liquid is discharged through the discharge 12 at the lowest point of the fluidization chamber 4 to a decanter not shown in the figure. Contaminated gas injected through the feed pipe 7 after passing through the passage chamber 3 and nozzles 5 gets into the fluidization chamber 4. Due to the fact that the nozzle outlet 5 is located under the surface of the spraying liquid, the balls 6 constituting the fluidized bed are turbulent. The moisturizing liquid with the gas stream is lifted upwards, wetting the entire bed, the phenomenon of effective collisions of moistened dust particles with the bed takes place, as a result of which the liquid is lost from the gas stream, and falls onto the oblique partition 2, which is then wetted with the drain port 12 with the liquid part. it is drained to the clarifier. The cleaned gas is discharged through a discharge port 8. The device according to the invention works in a closed circuit of the wetting liquid, the spraying liquid, after partial cleaning in the settling tank, is fed to the deluge device 11. The use of the device according to the invention provides more effective gas cleaning due to more intensive wetting of the fluidized bed. Working in a closed wetting liquid circuit ensures minimum water consumption, which is extremely important with the general water deficit. PL PL