Pierwszenstwo: 21.12.1971 i(P. 152369) Zgloszenie ogloszono: 30*05.1973 ©pis patentowy opublikowano: 15.01.1975 74502 KI. 42b,ll MKP GOlb 15/02 CZYTELNIA Urzedu Patentowego •i'4 Lumj Twórcy wynalazku: Andrzej Nowak, Jan Sadowski Uprawniony z patentu tymczasowego: Zjednoczone Zaklady Urzadzen Jadrowych „POLON" Zaklad Do¬ swiadczalny, Warszawa (Polska) Praenosna glowica pomicirowado pomiaru grubosci lub gramatury przy uzyciu promieniowania beta Przedmiotem wynalazku jest przenosna glowica pomiarowa, sluzaca do pomiarów gramatury lub grubosci przy uzyciu promieniowania beta. Urza¬ dzenie przeznaczone jest w szczególnosci do pomia¬ rów materialów takich, jak: papieru, cerat, tkanin, folii z tworzyw sztucznych, skór itp.Znane dotychczas przenosne urzadzenia pomia¬ rowe sluzace do pomiarów gramatury lub grubosci przy uzyciu promieniowania beta, w zaleznosci od przeznaczenia i przyjetej metody pomiaru wyposa¬ zone sa w glowice pracujace w oparciu o metode absorpcyjna wzglednie o metode odbiciowa. Dla kazdej z powyzszych metod pomiarowych konstruo¬ wane sa oddzielnie glowice pomiarowe.Z dotychczasowych praktycznych zastosowan tego typu glowic wynika, ze do pomiaru grubosci lub gramatury szerokich folii rozpietych na rolkach z dala od metalowych konstrukcji korzystnie jest stosowac glowice pracujace w oparciu o metode od¬ biciowa.Natomiast w przypadku wykonywania takich po¬ miarów materialów o niewielkiej szerokosci np. tasmy lub na brzegu arkusza w bezposrednim sa¬ siedztwie metalowych konstrukcji maszyny wiek¬ sza dokladnosc pomiaru mozna uzyskac stosujac glowice pracujaca w oparciu o metode absorpcyjna.W praktyce przemyslowej wystepuja bardzo zróz¬ nicowane warunki pomiarów jak równiez duza róz¬ norodnosc ksztaltu badanego materialu w róznych fazach produkcji. 10 15 25 30 Dla zapewnienia wlasciwej dokladnosci omawia¬ nych urzadzen w okreslonych warunkach koniecz¬ nym jest stosowanie róznych glowic pracujacych w oparciu o metode absorpcyjna lub odbiciowa, co zwieksza koszty urzadzenia.Celem wynalazku jest usuniecie tej niedogodnosci przez skonstruowanie jednej glowicy pomiarowej, przy uzyciu której mozliwe bedzie dokonanie po¬ miaru gramatury lub grubosci zarówno metoda absorpcyjna jak równiez metoda odbiciowa.Istota urzadzenia wedlug wynalazku polega na tym, ze urzadzenie pomiarowe posiada glowice po¬ miarowa wspólna dla odbiciowej i absorpcyjnej me¬ tody pomiarowej. Glowica ta wyposazona jest w nakladke odbijajaca, która stanowi podloze odbija¬ jace dla absorpcyjnej metody pomiaru.Zaleta urzadzenia wedlug wynalazku jest mozli¬ wosc zastosowania go do pomiarów róznorodnych materialów w róznych fazach i warunkach produk¬ cji, oraz zapewnienie optymalnej dokladnosci po¬ miaru przez zastosowanie tylko jednej glowicy po¬ miarowej.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przy¬ kladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia widok z boku glowicy pomiarowej przystosowanej do pomiaru absorpcyjnego, zas fig. 2 przedstawia widok z boku tej samej glowicy przy¬ stosowanej do pomiaru metoda odbiciowa. Glowica pomiarowa wedlug wynalazku sklada sie z korpu¬ su 5, wewnatrz którego znajduje sie odpowiednio 7450274502 usytuowane radioizotopowe zródlo promieniowania beta 7 oraz detektor promieniowania 3. Sygnal po¬ miarowy z detektora 3 podawany jest do elektro¬ nicznego ukladu pomiarowego 6, który wyposazo¬ ny jest w czlon zasilania, regulacji itp, oraz wskaz¬ nik 8 wartosci mierzonej gramatury lub grubosci.Do czolowej czesci korpusu glowicy 5 umocowana jest nakladka odbijajaca 1, stanowiaca podloze od¬ bijajace dla absorpcyjnej metody pomiaru. Mate¬ rial mierzony 9 wprowadzany jest w szczeline po¬ miarowa 2 pomiedzy nakladke 1 a czolowa plasz¬ czyzne korpusu glowicy 5. Uchwyt glowicy 4 ulat¬ wia obslugujacemu poslugiwanie sie glowica w cza¬ sie pomiaru przez odpowiednie usytuowanie glowi¬ cy w stosunku do polozenia mierzonego materialu.Przy pomiarze metoda absorpcyjna wiazka pro¬ mieniowania wyslanego przez radioizotopowe zródlo 7 przechodzi przez znajdujacy sie w szczelinie po¬ miarowej 2 mierzony material 9, który pochlania czesc tego promieniowania. Pozostala czesc promie¬ niowania ulega rozproszeniu i odbiciu od nakladki odbijajacej 1, przy czym korzystnie jest wykonac nakladke odbijajaca 1 z materialu o stosunkowo duzej liczbie atomowej Z. Odbita od nakladki 1 czesc promieniowania przechodzi powtórnie przez mierzony material 9, gdzie jest znów czesciowo przez niego pochlonieta, zas reszta promieniowania odbitego trafia do detektora 3. Oslabienie wiazki promieniowania zalezne jest od gramatury lub gru¬ bosci mierzonego materialu. 15 20 25 30 Dokonujac pomiaru metoda odbiciowa nalezy zde¬ montowac nakladke odbijajaca 1, a czolowa plasz¬ czyzne korpusu glowicy 5 przylozyc do mierzonego materialu 9. W tym przypadku wiazka promienior wania emitowana przez zródlo 7, po czesciowym rozproszeniu, a glównie po odbiciu od mierzonego materialu 9 przenika do detektora 3 wywolujac w nim sygnal zalezny od gramatury lub grubosci ma¬ terialu 9. Uklad elektroniczny 6 zawierajacy m.in. wskaznik 8 jest wspólny dla obu metod pomiaro¬ wych.Pokazana na rysunku geometria pomiaru moze byc zastapiona wersja kilku zródel i kilku detekto¬ rów wzglednie zastosowana moze byc komora z umieszczonym w jej srodkowej czesci zródlem promieniowania beta. Nakladka odbijajaca 1 moze miec poszerzony lub wydluzony koniec szczeliny pomiarowej 2 pozwalajacy na umieszczenie w nim nadmiaru mierzonego materialu 9. PL