PL73378B2 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL73378B2
PL73378B2 PL14750371A PL14750371A PL73378B2 PL 73378 B2 PL73378 B2 PL 73378B2 PL 14750371 A PL14750371 A PL 14750371A PL 14750371 A PL14750371 A PL 14750371A PL 73378 B2 PL73378 B2 PL 73378B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
window
source
infrared radiation
radiation
mirror
Prior art date
Application number
PL14750371A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL14750371A priority Critical patent/PL73378B2/pl
Publication of PL73378B2 publication Critical patent/PL73378B2/pl

Links

Landscapes

  • Control Of Resistance Heating (AREA)
  • Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)

Description

Dotychczas znane wygodne w obsludze zródla promieniowania podczerwonego posiadaly obudo¬ we calo/szklana lub kwarcowa. Obudowy te ogra¬ niczaly jednak od góry zakres dlugofalowy wy¬ korzystywanego promieniowania od 2—3 ^m w pierwszym przypadku i do 4 ^um w drugim. Po¬ zbawione tej wady byly nastepujace zródla: luk elektryczny, zarnik silitowy, lampa Nernsta.Wymienione tazy zródla pokrywaja wprawdzie dosc duzy zakres podczerwieni blizszej, posred¬ niej i dalszej, ale maja szereg wad: dzieki temu, ze czesc grzejna pracuje w atmosferze, zródla te charakteryzuja sie mala trwaloscia, niezbyt do¬ bra stabilnoscia promieniowania i sa niewygod¬ ne w obsludze. Stabilnosc promieniowania luku elektrycznego w funkcji czasu jest bardzo zla w zwiazku z wystepowamietm efektu migotania oraz na skutek szybkiego zuzywania sie elektrod. Na niezbyt duza stabilnosc lampy Nemsta i zarnika silitowego ma wplyw duza wymiana ciepla z oto¬ czeniem i duzy temperaturowy wspólczynnik re¬ zystancji. Wplyw drugiego z wymienionych czyn¬ ników mozna czesciowo zmniejszyc stosujac sta¬ bilizacje napiecia zasilajacego.Omówione znane zródla promieniowania pod¬ czerwonego charakteryzuja sie duzymi wymiara¬ mi i koniecznoscia stosowania dodatkowego oprzy¬ rzadowania (oslony, urzadzenia chlodzace, apara¬ tura regulacyjna i nastawcza) — w zwiazku z tym zajmuja one duzo przestrzeni roboczej. Pomiesz¬ czenie, w którym je umieszczono musi byc inten- 5 sywnie wentylowane, przy czym przeplyw powie¬ trza wentylujacego moze powodowac dodatkowa niestabilnosc pracy zródla.Celem wynalazku jest opracowanie zródla pro¬ mieniowania podczerwonego pozbawionego wy- 10 mienionych ograniczen, ,wad i niedogodnosci.Cel wynalazku osiagnieto przez zbudowanie urzadzenia wedlug wynalazku, gdzie jako zródlo promieniowania podczerwonego wykorzystano za¬ rówke, w której za zarnikiem wolframowym is umieszczono zwierciadlo^ a przed zarnikiem w obudowie zródla umocowano okno korzystnie owalne wykonane z materialu przepuszczajacego promieniowanie podczerwone (np.: obustronnie polerowana plytka rubinowa: A1208). 20 Okno zabudowano na stale w obudowie zródla za pomoca zlacza próznioszczelnego. Okno usy¬ tuowano tak, aby zapewnic przechodzenie przez nie maksymalnego sitrumienia promieniowania po¬ chodzacego od zairnika tzn. na osi zródla. Sposób 25 uksztaltowania i umieszczenia zarnika zapewnia emisje maksymalnego strumienia promieniowania podczerwonego w kierunku okna i nie powoduje „ zbednego nagrzewania sie obudowy. Osiagnieto to przez umieszczenie parabolicznego zwierciadla 30 wkleslego na osi zródla po przeciwnej stronie 73 37873 378 3 zarnika niz okno. Zwierciadlo wklesle usytuowa¬ no zgodnie ze znanymi zasadami umieszczania zwierciadel: odblysników w reflektorach.Zachowano przez to wszystkie zalety zródel promieniowania podczerwonego typu: „zarówka'' jak: — bardzo duza wygoda obslugi, bardzo krót¬ ki czas uruchomienia, duza stabilnosc natezenia promieniowania w funkcji czasu i wartosci na¬ piecia zasilajacego, male rozmiary, male rozpra¬ szanie ciepla przez przewodnictwo, a wiec dobra sprawnosc energetyczna, brak produktów spala¬ nia, a jednoczesnie powiekszono zasieg uzytecz¬ nego promieniowania podczerwonego z 2—3 ^m (podczerwien posrednia) do 6 \im (podczerwien dalsza).Cechy wymienionych zródel promieniowania ze¬ stawiono w zalaczonej tabeli.Cechy zródel promieniowania podczerwonego Zarówka calosizklana Zarówka kwarcowa Luk weglowy Lampa Nems/ta Zarnilk sili/tawy Zródlo bedace przedmiotem wynalazku Zakres podczerwieni blizsza 0,7,2— —1,5 m + + + + + - + posred¬ nia 1,5- -^5,6 m cze¬ sciowo cze¬ sciowo + + + + dalsza 5,6— ^1000 m — — + + + cze¬ sciowo Cechy promieniowania stabilnosc promien. dobra dobra zla srednia dosc dobra dobra natezenie promien. (tern. zródla) duze (2850°K) duze (2850°K) duze (42Q0°K) male (1200°,K) male (1200°K) duze (2850°K) Trwa¬ losc duza duza mala mala mala duza Wygoda obslugi dobra i dobra zla zla zla dobra Zródlo promieniowania wedlug wynalazku w przykladzie wykonania pokazano na rysunku.Sklada sie ono z okna 1 wykonanego z materia¬ lu przepuszczajacego promieniowanie podczerwo¬ ne na przyklad z rubinu, polaczonego poprzez zlacze próznioszczelne 2 ze szklana obudowa zród¬ la 3 oraz z umieszczonego naprzeciwko okna 1 zarnika 4 wykonanego w postaci spirali z ma¬ terialu posiadajacego sftala emisji promieniowa¬ nia bliska jednosci i wysoka temperature pracy na przyklad z wolframu. Okno posiada ksztalt owalny ze wzgledu na najmniejsza mozliwosc wystapienia szkodliwych naprezen na zlaczu próz- nioszczelnym okno-szklo 2. Okno umieszczono w sposób zapewniajacy przechodzenie przez nie ma¬ ksymalnego strumienia promieniowania pochodza¬ cego od zarnika 4.Zarnik umocowany jest na dwu wspornikach metalowych 5 np. molibdenowych wyprowadzo¬ nych na zewnatrz obudowy 3 przez próznioszczel- ne przepusty me/tal szklo (np. molibden-szklo).Doprowadzenie elektryczne 7 np. w postaci tasie¬ mek niklowych polaczone sa ze znormalizowanym cokolem lam|powym 8. By zarnik 4 zapewnial emi¬ sje maksymalnego strumienia promieniowania podczerwonego w kierunku okna i nie powodo¬ wal zbednego' nagrzewania sie obudowy 3, na osi zródla po przeciwnej stronie zarnika niz okno umieszczono zwierciadlo wklesle 9. Zwierciadlo to usytuowano w bezposrednim sasiedztwie zar- 10 15 20 25 30 35 nika 4 i przymocowano przy pomocy izolatorów szklanych 10 (tak zwanych „perelek") do wspor¬ ników 5.Zródlo wedlug wynalazku dziala w sposób na¬ stepujacy. Do cokolu 8 przyklada sie napiecie za¬ rzenia zarnika 4. Zarzacy sie zarnik emituje pro¬ mieniowanie podczerwone. Do okna 1 dochodzi strumien pnomieniowania bezposrednio z zarnika, oraz odlbity od zwierciadla 9. Wykorzystywana jest czesc strumienia tego promieniowania, która przechodzi przez okno 1 na zewnatrz obudowy.Do kazdego egzemplarza zródla promieniowania podczerwonego zalacza sie spektralna charaktery¬ styke transmisji wmontowanego okna, lub spek¬ tralna charakterystyke emisji calkowitej zródla.Zródlo promieniowania podczerwonego wedlug wynalazku wykorzystuje sie w szerokim zakresie zastosowan mikroskopii podczerwonej, oraz przy produkcyjnych i laboratoryjnych badaniach spek¬ tralnych. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Zródlo promieniowania podczerwonego majace postac zarówki wolframowej, w której za zarni¬ kiem umieszczono zwierciadlo, znamienne tym, ze okno terialu przepuszczajacego promieniotwanie podczer¬ wone na przyklad rubinu jest zabuidowane na stale w obudowie zródla (3) za pomoca zlacza73 378 próznioszezelnego (2) w sposób zapewniajacy prze¬ chodzenie przez to okno maksymalnego sitrumie- nia promieniowania pochodzacego od zarnika (4) najkorzystniej na osi zródla naprzeciwko zarnika, 6 zas ulkszitaltoiwantiem zaamiiika (4) i jeigo uisyjtuoiwa- nieim wizgjleideim ziwieriCiadla •wfldejslelgio (9) zapew¬ nia sie emisje maksymalnego strumienia promie¬ niowania podczerwonego w kierunku okna (1). PL
PL14750371A 1971-04-13 1971-04-13 PL73378B2 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL14750371A PL73378B2 (pl) 1971-04-13 1971-04-13

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL14750371A PL73378B2 (pl) 1971-04-13 1971-04-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL73378B2 true PL73378B2 (pl) 1974-08-31

Family

ID=19954047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL14750371A PL73378B2 (pl) 1971-04-13 1971-04-13

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL73378B2 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3639751A (en) Thermally dissipative enclosure for portable high-intensity illuminating device
US5672931A (en) Arc lamp filter with heat transfer attachment to a radial arc lamp cathode heat sink
SU810091A3 (ru) Светильник
US4841422A (en) Heat-dissipating light fixture for use with tungsten-halogen lamps
US6617806B2 (en) High brightness microwave lamp
US3936686A (en) Reflector lamp cooling and containing assemblies
EP0218178A2 (en) Infrared floodlight assembly
US4290097A (en) High-pressure discharge lamp and reflector combination
US1895887A (en) Incandescent electric lamp
US20050115498A1 (en) Reflector for UV curing systems
US3720822A (en) Xenon photography light
US4536832A (en) Replaceable light source assembly
US2466430A (en) Construction for projection lamps
KR20130091108A (ko) 모듈형 엘이디 조명기구의 케이싱 장치
PL73378B2 (pl)
CN220491838U (zh) 一种反光碗组件及气体放电灯
US3255345A (en) Light fixture
GB2107922A (en) High intensity discharge lamp with infrared reflecting means for improved efficacy
KR20000017153A (ko) 광조사식 가열장치의 냉각구조
GB2122024A (en) Lamp stems
JP2005116412A (ja) 赤外線電球及び加熱装置
US3177354A (en) Controlled beam high intensity flood lamp
JPH08106812A (ja) 光源装置
US2904714A (en) Electric lamp
JPH0685395B2 (ja) 半導体製造装置等における加熱装置