Pierwszenstwo: 01.06.1971 (P. 148549) Zgloszenie ogloszono: 10.04.1973 Opis patentowy opublikowano: 30.11.1974 72268 KI. 42k,46/07 MKP GOln 23/02 Twórcy wynalazku: Julian Auleytner, Józef Zmija, Andrzej Szczerbakow Uprawniony z patentu tymczasowego: Wojtkowa Akademia Techniczna im. Jaroslawa Dabrowskiego, Warszawa (Polska) Sposób odwzorowania defektów w monokrysztalach Przedmiotem wynalazku jest sposób odwzorowa¬ nia defektów w /monokrysztalach.Znany jest sposób odwzorowania defektów w mo¬ nokrysztalach polegajacy na tym, ze próbke wraz z filmem wprowadza sie w oscylacje wokól wspól¬ nej osi, przy czym film umieszczany jest równo¬ legle do badanego obszaru w mozliwie malej od¬ leglosci. Badany obszar próbki umieszcza sie stycz¬ nie lub w przecieciu z okregiem ogniskowania.W miejscu stycznosci lub przeciecia wartosc kata miedzy promieniem padajacym, a wybrana plasz¬ czyzna sieciowa spelnia warunki ugiecia, okreslone odlegloscia miedzyplaszczyznowa i wybrana dlugo¬ scia fali rentgenowskiego promieniowania wycho¬ dzacego rozbiezna wiazka ze zródla punktowego.Podczas obrotu próbki wokól osi obrotu lezacej na okregu ogniskowania, promien ugiety pochodzi od miejsca obszaru badanego, które odpowiada miejscu przeciecia lub stycznosci tegoz obszaru z okregiem ogniskowania, przy czym badany obszar i os pozostaja stale w jednej plaszczyznie. Promie¬ nie ugiete sa skupione w ognisku quasilin!iowym. równoleglym do osi obrotu, okreslonym wartoscia kata miedzy promieniem padajacym a wybrana plaszczyzna sieciowa, odlegloscia osi obrotu od zródla punktowego oraz katem miedzy uginajaca plaszczyzna sieciowa a badanym obszarem.Wyzej opisany sposób ma te wade, ze wystepuje rozciagniecie obrazu w kierunku równoleglym do osi obrotu, wynikajace z rozbieznosci wiazki, które 10 15 21 25 mozna tylko czesciowo zredukowac przez zblizenie filmu do próbki. Natomiast w kierunku prostopad,- lym do osi obrotu badany obszar jest odwzorowy¬ wany w skali 1 :1 przez co nastepuje deformacja obrazu. Ponadto sposób ten nie zapewnia naswiet¬ lenia filmu promieniowaniem o stalej dlugosci fali, co zmusza do stosowania filtrów oraz ¦¦— zwlaszcza w przypadku wiekszych próbek — wystepuja tu zaklócenia takie, jak na przyklad nakladanie sie obrazów pochodzacych od róznych plaszczyzn sie¬ ciowych.Celem wynalazku jest opracowanie takiego sposo¬ bu odwzorowania defektów w monokrysztalach, który laczy w sobie zalety sposobu opisanego po¬ wyzej. Przede wszystkim krótki czas ekspozycji wynikajacy z uzycia promieniowania charaktery¬ stycznego oraz latwosc wykonania urzadzen do sto=- sowania tego sposobu, wynikajaca z braku sprze¬ zen ruchów róznych elementów, a ponadto daje obszerniejsze, bardziej precyzyjne i wolne od za¬ klócen informacji o badanej próbce.Cel ten osiagnieto dzieki temu, iz auasiliniowe, równolegle do osi oscylacji ognisko, w którym zo¬ staja skupione promienie ugiete na badanym ob¬ szarze próbki ogranicza sie przeslona szczelinowa, a film umieszcza sie równolegle do osi oscylacji na drodze promieni ugietych na zewnatrz okregu ogni¬ skowania, przy czym wartosc kata nachylenia fil¬ mu do powierzchni próbki jest taka, ze wydluzenie obrazu obszaru badanego próbki w plaszczyznie 7226872268 prostopadlej do osi, wokól której oscyluja próbka wraz z filmem, równe jest wydluzeniu obrazu rów¬ noleglemu do tej osi, spowodowanemu rozbieznos¬ cia wiazki promieni rentgenowskich.Wynalazek zostanie ponizej szczególowo objasnio¬ ny na podstawie rysunku, który ilustruje przebieg promieni rentgenowskich pirzy odwzorowaniu de¬ fektów sposobem wedlug wynalazku.Badany obszar próbki umieszcza sie w przecieciu lub stycznie do okregu ogniskowania w pozycji AB i wprowadza w ruch oscylacyjny wokól osi A le¬ zaca} na okregu ogniskowania we wspólnej plasz¬ czyznie z obszarem badanym. Promienie rentge¬ nowskie, o widmie charakterystycznym, wychodza¬ ce ze zrófdla punktowego O zostaja ugiete tylko przez te miejsca obszaru badanego próbki, w któ¬ rych obszar ten przecina sie lub jest styczny z okre¬ giem ogniskowania, a wiec tylko wtedy, gdy spel¬ niony jest warunek, ze kat miedzy promieniem pa¬ dajacym a wybrana plaszczyzna sieciowa jest rów¬ ny zadanemu katowi Q. Tak ugiete promienie zo¬ staja skupione w quaailiniowymt równoleglym do osi ognisku K, które ograniczono nieruchoma prze¬ slona szczelinowa P. Przeslona P zapewnia, iz do obszaru poza okregiem ogniskowania nde przedosta¬ ja sie (promienie o dlugosci fali roznej od zadanej lut) ugiete przez plaszczyzne sieciowa rózna od wy¬ branej.Dla unikniecia deformacji obrazu wystepujacych podczas oscylacji próbki na przyklad w zakresie kata a od pozycji AB do pozycji AB', gdy film be¬ dzie oscylowal równolegle do obszaru badanego od¬ powiednio od pozycji CD do pozycji CD' konieczne jest uzyskanie w plaszczyznie prostopadlej do osi A wydluzenia równego powstalemu wskutek roz¬ bieznosci wiazki w plaszczyznie równoleglej do osi A, zatem stosunek dlugosci obrazu na filmie w pla¬ szczyznie prostopadlej do osi obrotu do odpowiada¬ jacej mu dlugosci obszaru badanego musi byc rów¬ ny stosunkowi dlugosci drogi optycznej miedzy zródlem promieni a filmem do dlugosci drogi op¬ tycznej miedzy zródlem a badanym obszarem prób¬ ki. W tym celu fiUm umieszcza sie równolegle do osi A tak, by jeden jego koniec C opieral sie na prostej AC przechodzacej przez os A i ognisko K, a drugi koniec E slizgal sie po prostej BF równoleglej do prostej AC Przy obrocie badanego obszaru próbki na przy¬ klad o kat a od pozycji AB do pozycji AB' ora* filmu odpowiednio od pozycji CE do pozycji C'E't w której jego konce leza na prostych równoleglych AC i BF', odcinek AB bedzie odwzorowany w po¬ staci odcinka CE', czyli rozciaganie obrazu obsza¬ ru badanego w plaszczyznie równoleglej do osi A . bedzie równe rozciagnieciu w plaszczyznie prosto¬ padlej do osi A przy spelnieniu warunku OA^ AB. s Dzieki ograniczeniu ogniska promieni ugietych przeslona szczelinowa i umieszczeniu filmu na dro¬ dze promieni ugietych na zewnatrz okregu ognisko¬ wania, film zostaje naswietlony promieniowaniem o okreslonej dlugosci fali, ugietym przez jedna, 10 okreslona plaszczyzne sieciowa. Pozwala to unik¬ nac zaklócen w postaci na przyklad zaczernien fii- mu wynikajacych z naswietlenia promieniowaniem o róznej od zadanej dlugosci fali lub wynikajacych z ugiecia promieni przez plaszczyzny sieciowe róz- 15 ne od wybranej.Nachylenie filmu do badanej próbki daje równo¬ mierne rozciagniecie obrazu próbki, a wiec umozli¬ wia otrzymywanie zdjec czytelnych i latwych do interpretacji. 20 Urzadzenia pracujace na zasadzie sposobu wedlug wynalazku pozwalaja na umieszczenie filmu w róz¬ nych odleglosciach od badanej próbki, przez co moz¬ na bardziej jednoznacznie lokalizowac defekty sie¬ ci oraz okreslac niektóre wielkosci z tymi defekta- 25 mi zwiazane, jak na przyklad dezorientacje bloków mozaiki. Ponadto sposób wedlug wynalazku, przez wyeliminowanie filtrów, pozwala na uzyskanie czy¬ telnych obrazów przy czasie ekspozycji nie przekra¬ czajacym jednej godziny. so Dodatkowa zaleta stanowi mozliwosc swobodnego wyboru linii widma charakterystycznego. 35 PL PL