PL68489B1 - - Google Patents

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 22.IV.1968 (P. 126 580) 24.IV.1967 dla zastrz. 1, 3, 10, 14 28.IV.1967 dla zastrz. 2, 4—9, 15, 16. 18, 19 30.VIII.1967 dla zastrz. 11—13, 17 Luksemburg 15.XII.1973 68489 KI. 32b,21/00 MKP C03c 21/00 UKD Wspóltwórcy wynalazku: Emile Plumat, Francois Toussaint, Jean Dut- hoit, Robert Van Laethem, Maurice Boffe Wlasciciel patentu: Glaverbel S.A., Watermael — Boitsfort (Belgia) Sposób chemicznego hartowania przedmiotów ze szkla, z materialu szklanokrystalicznego lub ceramicznego oraz urzadzenie do stoso¬ wania tego sposobu Przedmiotem wynalazku jest sposób chemiczne¬ go hartowania przedmiotów ze szkla, ,z materialu szklanokrystalicznego lub ceramicznego oraz urza¬ dzenie do stosowania tego sposobu.Znany jest sposób hartowania szkla za pomoca obróbki cieplnej, który polega na ogrzewaniu i na¬ stepnie szybkim chlodzeniu szkla, w celu wywo¬ lania w jego warstwach zewnetrznych naprezen sciskajacych, jako wyniku szybszego ochlodzenia tych warstw. Hartowania cieplnego nie mozna za¬ stosowac do bardzo cienkich arkuszy szkla, a na- . wet do grubszych arkuszy, gdyz takie hartowanie wywoluje nie dajace sie uniknac odksztalcenia i skazy optyczne.Szyby wykonane z hartowanego obróbka ciepl¬ na szkla maja po uderzeniu, mimo ze szyba po¬ zostaje w calosci, strukture drobnoziarnista, która bardzo istotnie pogarsza widocznosc.Znany jest równiez sposób chemicznego harto¬ wania szkla przez spowodowanie w odpowiednich warunkach dyfuzji jonów metalu z osrodka ak¬ tywnego do zewnetrznych warstw szkla. Mozna rozróznic dwa znane rodzaje procesu hartowania chemicznego szkla. W jednym rodzaju wymiana jonowa miedzy szklem i osrodkiem aktywnym przebiega w temperaturze dostatecznie wysokiej, aby wystapilo zanikanie naprezen w szkle i jony dyfundujace w szklo sa takie, ze nadaja zewnetrz¬ nym warstwom szkla mniejszy wspólczynnik roz¬ szerzalnosci cieplnej. W drugim rodzaju jony w 15 20 25 S0 2 zewnetrznych warstwach szkla wymieniane sa na wieksze jony i wymiana jonowa przeprowadzana jest, gdy zewnetrzne warstwy szkla znajduja sie w temperaturze nizszej od temperatury zanikania naprezen, w której lepkosc szkla wynosi 1013»2 puaza, tak, ze nie nastapi odprezanie. Za pomoca procesu hartowania chemicznego mozliwe jest osiagniecie na powierzchniach szkla duzych na¬ prezen sciskajacych, znacznie wiekszych niz te, które moga byc osiagniete za pomoca hartowania cieplnego, lecz grubosci zewnetrznych warstw szkla, w których pojawiaja sie naprezenia sciska¬ jace sa bardzo male i gradient naprezen sciska¬ jacych poza powierzchniami szkla jest bardziej stromy, niz gradient naprezen sciskajacych w szkle hartowanym cieplnie.Dla pewnych zastosowan szkla taki stromy gra¬ dient jest niekorzystny na skutek ujemnych wla¬ sciwosci podczas rozbicia tak hartowanego szkla.Celem wynalazku jest wyeliminowanie wymie¬ nionych niedogodnosci.Cel ten osiagnieto stosujac sposób chemicznego hartowania przedmiotów ze szkla, z materialu szklistokrystalicznego lub ceramicznego wedlug wynalazku, którego istota polega na tym, ze do¬ prowadza sie do zetkniecia co najmniej czesc po¬ wierzchni przedmiotu z osrodkiem aktywnym za¬ wierajacym jony i przyklada sie pole elektryczne obejmujace co najmniej czesc powierzchni gra¬ nicznej miedzy przedmiotem i osrodkiem aktyw- 68 48968849 3 4 nym, co najmniej jeden raz w kierunku od strony przedmiotu do osrodka aktywnego, a nastepnie zmienia sie kierunek pola elektrycznego na prze¬ ciwny.Dzieki zastosowaniu sposobu wedlug wynalazku stwierdzono, ze osiagnieto w szkle bardziej pla¬ skie gradienty naprezen sciskajacych niz dotych¬ czas uzyskiwane za pomoca hartowania chemicz¬ nego.Sposób wedlug wynalazku mozna zrealizowac przez zetkniecie przeciwleglych powierzchna arku¬ sza szkla ze zjonizowanym osrodkiem aktywnym o tym samym lub odmiennym skladzie przy czym te osrodki sa od siebie wzajemnie odizolowane i stykaja sie z róznymi elektrodami, a biegunowosc elektrod jest zmieniana co najmniej jeden raz.Odmiana sposobu wedlug wynalazku polega na tym, ze stala metalowa elektrode umieszcza sie w bezposrednim zetknieciu z powierzchnia arkusza szklanego, podczas gdy druga powierzchnia styka sie z osrodkiem zjonizowanym, który jest polaczo¬ ny z druga elektroda i co najmniej jeden raz zmienia sie biegunowosc elektrod. W tych warun¬ kach, zasadnicze zmiany wystepuja tylko w cze¬ sciach arkusza i obie powierzchnie arkusza sa tak przygotowane, ze dalsze chemiczne hartowanie tych powierzchni mozna osiagnac przez stosowa¬ nie kolejnych zmian biegunowosci.W dalszym ciagu opis wynalazku bedzie doty¬ czyl glównie szkla dla unikniecia powtarzania od¬ niesienia do materialu szklanokrystalicznego.Za pomoca sposobu wedlug wynalazku uzyskuje sie niespodziewane wyniki. Na przyklad, zmiana biegunowosci przylozonego pola elektrycznego po¬ woduje co najmniej w czesci szkla warunki istot¬ nie odmienne od warunków pierwotnych. Stopien oddzialywania pola elektrycznego na zjawisko wy¬ miany jonowej zalezy miedzy innymi od czasu trwania wzglednych czasów trwania róznych faz pola i od wartosci oraz wzglednych wartosci na¬ piecia pola w kolejnych fazach. Przez dobranie tych czynników mozna osiagnac korzystne wlasci¬ wosci, a zwlaszcza mozna otrzymac mniejsze gra¬ dienty naprezen, jak to bedzie w dalszym ciagu przedstawione, niz gradienty uzyskiwane bez od¬ wrócenia biegunowosci. W przypadku szkla sodo- wo-wapniowego mozna otrzymac dobre wyniki przy zastosowaniu pola o napieciu od 10 do 20 wolt, gdy szklo ma temperature 500°C.Kolejne fazy procesu wedlug wynalazku, to zna¬ czy fazy róznej biegunowosci pola w stosunku do kierunku ustawienia szkla i osrodka aktywnego, odbywajace sie w polu elektrycznym, moga miec rózny czas trwania i rózne wartosci natezenia po¬ la elektrycznego.Istotna zaleta jest mozliwosc takiego prowadze¬ nia sposobu wedlug wynalazku, ze w jednej fazie pole elektryczne przechodzace przez powierzchnie graniczna miedzy szklem i osrodkiem zetkniecia ma wiekszy potencjal elektryczny po stronie szkla dla wzbudzenia wedrówki kationów od szkla, a w nastepnej tazie pole elektryczne przechodzace przez: powierzchnie graniczna ma wyzszy potencjal elek¬ tryczny po stronie osrodka aktywnego dla wzbu¬ dzenia wedrówki kationów z wymienionego osrod¬ ka do szkla.Porównawcze badania, przy zastosowaniu tylko jednorazowej zmiany biegunowosci, przy stosun- 5 kowo dlugotrwalych okresach trwania pierwszej i drugiej fazy, wykazaly, ze przylozenie po stronie szkla wzgledem powierzchni granicznej miedzy szklem i osrodkiem, najpierw dodatniego i na¬ stepnie ujemnego potencjalu nie jest bynajmniej równowazne do przylozenia najpierw ujemnego a potem dodatniego potencjalu po stronie szkla.Niezaleznie od zmian, jakie moga wystapic w jednej lub innej czesci arkusza, wywolanych wply¬ wem pola elektrycznego, na przyklad na jednej powierzchni i na brzegu, lub na jednej lub drugiej powierzchni arkusza, stwierdzono, ze jesli ma miej¬ sce tylko jedna zmiana biegunowosci, lepsze harto¬ wanie chemiczne dajace w wyniku bardziej plaski gradient naprezen sciskajacych tylko wtedy moz¬ na uzyskac, gdy do szkla od strony powierzchni granicznej miedzy szklem i osrodkiem, doprowa¬ dza sie nizszy potencjal elektryczny podczas gdy poprzednio posiadal on wyzszy potencjal elektrycz¬ ny. Wcale nie zaobserwowano polepszenia hartowa¬ nia chemicznego w czesci arkusza, gdy po stronie szkla od powierzchni granicznej miedzy szklem i osrodkiem jest najpierw nizszy potencjal, a po¬ tem wyzszy potencjal, wzgledem potencjalu w srodkowej czesci powierzchni granicznej.W ostatnim jednak przypadku stwierdzono, ze wymieniona czesc arkusza jest przygotowana do ulepszonego hartowania, które mozna osiagnac przez doprowadzenie arkusza w trzeciej fazie do stanu, w którym szklo od strony powierzchni gra¬ nicznej ma nizszy potencjal niz w czesci srodko¬ wej. Równiez stwierdzono, ze w kazdym takim przypadku pierwsza faza nie ma szkodliwego wpty- wu na dwie nastepne fazy. Przy stosowaniu wie¬ cej niz jednego odwrócenia biegunowosci lub na¬ wet odwrócen biegunowosci nastepujacych z wiel¬ ka czestotliwoscia, bardziej plaski gradient napre¬ zen sciskajacych powstaje w wyniku kolejnych par faz, w których szklo od strony powierzchni gra¬ nicznej miedzy szklem i osrodkiem, ma wyzszy po¬ tencjal w pierwszej parze faz, lecz ma nizszy po¬ tencjal w drugiej parze faz.Wskazane jest stosowanie sposobu wedlug wy¬ nalazku przy wytwarzaniu pola elektrycznego mie¬ dzy zjonizowanym osrodkiem stykajacym sie z dwoma strefami powierzchni przedmiotu szklane¬ go, na przyklad z dwoma przeciwleglymi powierz¬ chniami arkusza szkla. W szczególnosci pojedyncze odwrócenie biegunowosci moze byc zastosowane np. do hartowania szyby pojazdu tak, ze w po¬ wierzchni zewnetrznej i wewnetrznej szyby wysta¬ pia rózne naprezenia.Dyfuzja wewnetrzna jonów moze odbywac sie miedzy powierzchnia szkla i osrodkiem cieklym tworzacym powloke na tej powierzchni lub miedzy kapiela, w której zanurzona jest powierzchnia szkla, wzglednie miedzy powierzchnia szkla i osrod¬ kiem gazowym.Odpowiednie aktywne osrodki ciekle obejmuja roztwory elektrolityczne, korzystnie osrodki zawie¬ rajace stopiona sól lub stopione sole. 16 20 25 30 35 40 45 50 55 605 68 489 6 Nadawanie róznej biegunowosci faz mozna do¬ konac w odstepach czasu lub tez moze nastepowac bezposrednio jedna za druga.We wszystkich procesach wedlug wynalazku jest wskazane, aby odwrócenie kierunku pola przez po¬ wierzchnie graniczna bylo powtórzone raz lub wie¬ le razy. Tak wiec, mozliwe jest przylozenie prze¬ miennego potencjalu, przykladowo o czestotliwosci okolo 10 Hz, lub wielokrotna zmiana biegunowosci elektrod pozostawiajac odstep czasu miedzy kolej¬ nymi fazami procesu tak, aby dyfuzja jonów, które przeniknely do szkla mogla przebiegac bez dodatkowej pomocy, obnizajac w ten sposób zu¬ zycie mocy. Powtarzanie odwracania biegunowosci ma zalete, poniewaz w bardzo krótkim czasie moz¬ na wytworzyc gradient naprezen sciskajacych o mniej stromej charakterystyce. Mozna zastosowac pola o bardzo duzej czestotliwosci, na przyklad pola o czestotliwosciach w obszarze 100 kHz.Zastosowanie tak duzych czestotliwosci przyczy¬ nia sie do skrócenia czasu obróbki i powoduje bardzo duza jednorodnosc hartowania obrabianej powierzchni szkla.Sposób wedlug wynalazku stosuje sie glównie do zastosowania w procesach chemicznego harto¬ wania obejmujacych dyfuzje wewnetrzna jonów metali alkalicznych lub jonów metali ziem alka¬ licznych. Szczególnie korzystnie wynalazek mozna zastosowac do obróbki szkla o zwyklym skladzie, to znaczy szkla wytworzonego z latwo dostepnych i tanich skladników, na przyklad z krzemionki, sody, technicznego tlenku wapniowego i skalenia.Szkla takie mozna hartowac przez wywolanie dy¬ fuzji jonów litowych do szkla w celu zastapienia jonów sodowych w temperaturze wyzszej od tem¬ peratury zanikania naprezen w szkle lub mozna spowodowac dyfuzje jonów potasowych do szkla w celu zastapienia jonów sodowych w tempera¬ turze nizszej od temperatury zanikania naprezen.Jednakowoz przez zastosowanie pola elektrycznego wedlug wynalazku wymiana jonów nastepuje na wiekszej glebokosci od powierzchni szkla.Zaleta ta jest widoczna zwlaszcza przy porów¬ naniu procesów obejmujacych podstawienie jonów potasowych w miejsce jonów sodowych, przepro¬ wadzanych bez pomocy przemiennego pola elek¬ trycznego. Przy braku pola elektrycznego jony po¬ tasowe przenikaja normalnie w szklo nie glebiej niz na grubosc kilku setnych mikrometra.Przy zastosowaniu przemiennego pola elektrycz¬ nego mozna spowodowac, ze przenikaja one znacz¬ nie glebiej. Zgodnie z odmiana sposobu wedlug wynalazku, zwiazana z podstawieniem danych jo¬ nów wiekszymi jonami, w temperaturze ponizej temperatury zanikania naprezen w szkle, stosowa¬ ny osrodek aktywny w temperaturze roboczej nie tylko dostarcza wiekszych jonów, lecz równiez umozliwia mniejszy udzial jonów mniejszych niz jony bedace do wymiany.Zalete tej wlasciwosci mozna zilustrowac na przykladzie, a mianowicie do podstawienia jonów so¬ dowych jonami potasowymi umozliwionego osrod¬ kiem aktywnym, który równiez zapewnia mniejsza proporcje jonów litowych w temperaturze robo¬ czej. Przy przechodzeniu linii przemiennego pola elektrycznego przez powierzchnie graniczna, wy¬ wolujacego oscylacyjny ruch kationów, bardzo ru¬ chliwe jony litowe poczatkowo glebiej przenikaja w szklo niz jony potasowe, w fazach gdy osrodek 5 aktywny ma wiekszy potencjal elektryczny. Jed- dnakze jony sodowe zostaja w koncu podstawio¬ ne jonami potasowymi w warstwach szkla, w któ¬ rych jony sodowe ulegly poczatkowemu podsta¬ wieniu jonami litowymi. W tym procesie mozna przyspieszyc osiagniecie wymaganych wyników przez utworzenie faz procesu, w których osrodek aktywny ma nizszy potencjal o dluzszym czasie trwania lub o wiekszym natezeniu pola niz w dru¬ giej fazie.Stwierdzono, ze podczas takiego procesu mozna spowodowac dyfuzje do ciala szklanego róznych substancji w stanie atomowym lub czasteczkowym, gdy znajduja sie one w osrodku aktywnym do¬ starczajacym jonów dyfundujacych do szkla.Proces mozna pobudzic przez wystawienie przedmiotu ze szkla, z materialu szklanokrystalicz- nego lub ceramicznego na dzialanie fal ultra¬ dzwiekowych, co najmniej w czesci fazy, podczas której nastepuje wymiana jonów pod wplywem pola elektrycznego. Fale ultradzwiekowe sprzyja¬ ja przenikaniu jonów do przedmiotu. Skutek ten szczególnie zasluguje na uwage i z tej przyczyny jest zwlaszcza korzystny w przypadku, gdy wie¬ ksze jony takie jak jony metali ziem alkalicznych moga byc wprowadzane do przedmiotu. Normalnie jony metali ziem alkalicznych nie przenikaja do przedmiotu tak latwo, jak mniejsze jony, np. jo¬ ny litowe lub protony. Przy normalnym przepro¬ wadzeniu sposobu, jak to juz uprzednio opisano, nawet gdy osrodek zawiera mniejsze jony jako do¬ datek do wiekszych jonów, dyfuzji jonów wiek¬ szych towarzysza jony mniejsze, lecz ilosc tych malych jonów, które przenikna do przedmiotu be¬ dzie duzo wieksza niz ilosc duzych jonów nawet wtedy, gdy osrodek w calej ilosci zawiera stosun¬ kowo znikomy udzial malych jonów. O ile wymia¬ na jonów przebiega przy poddaniu ciala dzialaniu pola elektrycznego o odwracalnej biegunowosci oraz fal ultradzwiekowych, dyfuzja jonów wiek¬ szych jest bardziej pobudzana w porównaniu z dy¬ fuzja jonów mniejszych.Okazalo sie, ze szybkosc dyfuzji jest porówny¬ walnie podwyzszona, stosownie do wiekszego udzia¬ lu jonów wiekszych. A zatem wplyw fal ultra^ dzwiekowych jest szczególnie znaczny w przypad¬ ku jonów wapniowych, barowych i strontowych jak równiez dla jonów cezowych i rubidowych, lecz równiez w tym porzadku jest stopniowo mniej¬ szy ich wplyw na dyfuzje jonów potasowych, so¬ dowych i litowych. Ten charakterystyczny wplyw fal ultradzwiekowych jest dostrzegalny dla fal o czestotliwosci od 10 do 16 kHz, i moze byc latwo zmierzony przy falach czestotliwosci powyzej 16 kHz i ze wzrostem czestotliwosci, która moze prze¬ kroczyc 10 MHz, wplyw ten jest coraz wiekszy.Ilosc jonów, które przenikaja do ciala w jednostce czasu, pod wplywem fal ultradzwiekowych o da¬ nej czestotliwosci zalezna jest logarytmicznie od mocy fal, co bedzie przedstawione dalej. Najcze¬ sciej moc fal powinna byc rzedu 0,1 wata na dm2, 15 20 25 80 31 10 45 50 55 60 %WWW s Fale ultradzwiekowe moga rozprzestrzeniac sie prostopadle do powierzchni rozdzialu faz przez która dokonywana jest wedrówka jonów. Przy ta¬ kim rozchodzeniu fale daza do rozszerzenia wy¬ miany jonów na wieksza glebokosc w przedmiocie obrabianym, sprzyjajac tym samym dalszemu zmniejszeniu gradientu naprezen. Natomiast je¬ sli fale rozchodza sie równolegle lub glów¬ nie równolegle wzgledem powierzchni rozdzialu faz, przez która ma miejsce wymiana jonów, fale daza do sprzeciwiania sie lub obnizania normal¬ nej daznosci do wymiany jonowej, do hamowania jej po przeniknieciu do przedmiotu pewnej ilosci jonów z osrodka aktywnego, chocby nawet przed¬ siewzieto starania do utrzymania odpowiedniego stezenia jonów, które maja przenikac do przed¬ miotu. To korzystne dzialanie równoleglego roz¬ chodzenia sie fal wzgledem powierzchni rozdzialu faz wzrasta zaleznie od wzrostu czestotliwosci fali ultradzwiekowej i mocy. Jesli jest to pozadane mozna nakladac rozchodzace sie fale prostopadle i równolegle wzgledem powierzchni granicznej, lub moga byc uzyte podczas kolejnych faz hartowania chemicznego calego przedmiotu lub jego czesci.Jednak ze wzgledów ekonomicznych lepiej polegac wylacznie na równoleglym rozchodzeniu sie fali wzgledem powierzchni rozdzialu faz, gdy jest po¬ zadane pokonanie „zmeczenia", to jest dazenie do zwolnienia wymiany jonowej.Przy stosowaniu sposobu wedlug wynalazku, gdy przedmiot poddawany obróbce wystawiony jest na dzialanie fal ultradzwiekowych, staje sie mo¬ zliwa modyfikacja przedmiotu, tak, ze jego ze¬ wnetrzne warstwy sa pod wplywem naprezen sci¬ skajacych spowodowanych wprowadzeniem z jednej strony duzych jonów inbidowych, cezowych lub jonów metali ziem alkalicznych, np. jonów wap¬ niowych lub strontowych, a z drugiej strony ma¬ lych jonów, np. jonów litowych lub sodowych, przy czym stezenie duzych jonów jest zasadniczo wieksze niz stezenie malych jonów.Fale ultradzwiekowe mozna wytworzyc, np. me¬ todami elektrostrykcyjnymi lub piezoelektryczny¬ mi lub za pomoca przetwornika z elementem z ty¬ tanianu barowego. Natomiast do wytwarzania fal o wielkich czestotliwosciach mozna uzyc metod magnetostrykcyjnych, przez nakladanie ciaglego pola magnetycznego i pola magnetycznego wiel¬ kiej czestotliwosci drgajacego z scisle okreslona czestotliwoscia, na przyklad z arkusza metalu umieszczonego równolegle do powierzchni rozdzialu przedmiotu i osrodka, lub o charakterystycznej czestotliwosci preta, przykladowo preta niklowego, umieszczonego w poblizu brzegu przedmiotu.W ostatnim przypadku, przyjmujac, ze przedmiot jest plaski, na przyklad plaski arkusz szkla, fale ultradzwiekowe beda rozchodzic sie glównie rów¬ nolegle do powierzchni wyrobu. Jesli przedmiot styka sie z cienka warstwa metalowa, moga byc wytwarzane fale, których czestotliwosc jest równa lub bliska czestotliwosci wlasciwej cienkiej war¬ stwy lub jest jej krotnoscia, lub których czestotli¬ wosc jest równa lub bliska czestotliwosci wlasci¬ wej podloza i warstwy powloki.Sposób wedlug wynalazku mozna zastosowac do 20 25 30 35 40 45 50 55 60 .65 hartowania przedmiotu ze szkla, z materialu szkla- nokrystalicznego lub ceramicznego, np. czesci arku¬ sza szkla plaskiego lub posiadajacego krzywizne, szyby zabezpieczajace lub wyroby ksztaltowe. Moz¬ na dobrac rozmieszczenie i ksztalt elektrod tak, aby je dostosowac do ksztaltu wyrobu i innych warun¬ ków. Proces hartowania mozna ograniczyc do do¬ wolnie wybranego okresu czasu, do malych i le¬ zacych w poblizu stref, przy czym jedna lub obie elektrody moga byc przemieszczane do róznej stre¬ fy lub róznych stref w okresach czasu, tak, aby rózne strefy byly kolejno poddawane obróbce przy oddzialywaniu pola elektrycznego, którego biegu¬ nowosc odwracana jest co najmniej raz.W produkcji szyb zabezpieczajacych niekiedy przydatne jest ograniczenie procesu hartowania do jednej lub wielu brzegowych stref dokola obszaru pelnej widocznosci szyby zabezpieczajacej. W har¬ towaniu strefy lub stref brzegowych, jedna elek¬ trode mozna umiescic w zjonizowanym osrodku aktywnym, a jedna lub wiele innych elektrod moz¬ na umiescic na krawedzi szyby tak, aby linie po¬ la elektrycznego przechodzily przez strefe lub strefy na powierzchni lub powierzchniach szkla i rozciagaly sie wzdluz szkla do elektrody na brze¬ gu arkusza. W tym przypadku szklo musi byc do¬ statecznie cieple, aby mialo przewodnictwo elek¬ tryczne i wymagane jest aby krawedz arkusza by¬ la raz ujemna a potem dodatnia w odniesieniu do elektrody umieszczonej w zjonizowanym osrod¬ ku. Dyfuzja wewnetrzna jonów do jednej powierz¬ chni arkusza lub sciany, przykladowo wyrobu ksztaltowego, przy danej strefie lub danych stre¬ fach, moze odbywac sie w polu elektrycznym wy¬ tworzonym miedzy elektroda stykajaca sie z osrod¬ kiem przy tej strefie lub strefach i elektroda sty¬ kajaca sie z przeciwlegla strona arkusza lub sciana w strefie obróbki. Odmiennie pole elektryczne mozna wytworzyc miedzy elektrodami umieszczo¬ nymi po tej samej stronie arkusza lub sciany, jak to pózniej bedzie objasnione przykladem. W tym przypadku powierzchnia miedzy strefami musi byc elektrycznie odizolowana tak, aby linie pola elek¬ trycznego przenikaly do arkusza lub sciany po¬ wiekszajac tym samym wplyw hartowania.Rózne strefy wyrobu moga byc hartowane w po¬ dobny sposób pod wplywem róznych par elektrod i hartowanie moze odbywac sie w róznych strefach równoczesnie lub kolejno. Inaczej hartowanie róz¬ nych stref moze nastepowac pod wplywem pola elektrycznego wytwarzanego miedzy kazda z dwóch lub wielu elektrod i jedna wspólna elektroda. Pod¬ czas hartowania róznych stref jesli to jest potrzeb- ne mozna stosowac osrodki aktywne o róznym skladzie chemicznym lub stezeniu, w róznych stre¬ fach. Rózne wyniki równiez mozna osiagac przez prowadzenie procesu w róznych strefach p róznych temperaturach.Przy realizacji sposobu wedlug wynalazku dla róznorodnego hartowania rozmaitych stref przed¬ miotu ze szkla, z materialu szklanokrystalicznego lub ceramicznego, na przyklad szyby do pojazdu, to znaczy dla otrzymania zmiennego stopnia za^ hartowania jednej strefy wzgledem innej, w celu nadania szklu specjalnych wlasciwosci podczas tlu-68489 9 10 czenia, przedmiot mozna poddac dzialaniu fal ultradzwiekowych przy hartowaniu tylko pewnych stref, lub cialo moze byc poddane dzialaniu fal ultradzwiekowych, które róznia sie czestotliwoscia i moca w obróbce jednej strefy w porównaniu do innych stref. Tymi sposobami kolejne male powierzchnie przedmiotu moga byc odmiennie wzbogacone w jony o róznych srednicach.Mozna równiez w ten sposób prowadzic dyfuzje wewnetrzna, aby nastapila równoczesnie w róznych powierzchniach szkla lub w róznych jego stre¬ fach powierzchni, z osrodków aktywnych w od¬ miennej postaci. Tak wiec jedna powierzchnia ar¬ kusza szkla moze byc w zetknieciu z kapiela sto¬ pionych soli a druga powierzchnia moze zawierac powloke stopionych soli i dyfuzja jonów do szkla moze odbywac sie z dwu osrodków pod wplywem wspólnego, przemiennego pola elektrycznego.Dana powierzchnia przedmiotu moze stopniowo podlegac obróbce przez wprowadzenie wzglednego przemieszczenia przedmiotu i co najmniej jednej elektrody tak, aby kolejne strefy, kolejno przecho¬ dzily przez pole elektryczne.Wynik hartowania uzalezniony jest od natezenia pola elektrycznego, na które z kolei ma wplyw od¬ leglosc miedzy elektrodami. Podczas stopniowego hartowania danej powierzchni wyrobu jak to juz uprzednio omówiono, mozna osiagnac rózny stopien zahartowania w zakresie tego obszaru, przez prze¬ stawianie pary elektrod tak, aby odstep miedzy nimi zmienial sie podczas przebiegu procesu.Wynalazek obejmuje równiez urzadzenie do sto¬ sowania wyzej opisanego sposobu, które zawiera pojemnik dla osrodka aktywnego i podpore dla przedmiotu oraz ma w poblizu podpory umieszczo¬ na pare elektrod i pradnice pradu zmiennego.Dla umozliwienia przeprowadzenia stopniowego hartowania przedmiotu na danym obszarze, korzy¬ stne jest uzycie urzadzenia zawierajacego co naj¬ mniej jedna pare elektrod, z których co najmniej jedna jest wydrazona i umozliwia dostarczanie do powierzchni przedmiotu osrodka aktywnego beda¬ cego zródlem jonów, które maja dyfundowac do przedmiotów. Wynalazek obejmuje takze urzadze¬ nie do chemicznego hartowania zawierajace pare elektrod, z których jedna wykonana jest jak wyzej opisano oraz srodki za pomoca których moze byc wytworzone miedzy elektrodami pole o zmienianej biegunowosci. Zaleta takiego urzadzenia jest mo¬ zliwosc zmiany podczas procesu skladu cieklego osrodka dostarczajacego jonów dla dyfuzji do przedmiotu, na przyklad dla podtrzymywania wy¬ czerpywania sie lub wzbogacania osrodka w dane jony w toku procesu, Wynalazek równiez obejmuje urzadzenie do chemicznego hartowania, zawieraja¬ ce pare elektrod, srodki za pomoca których miedzy elektrodami moze byc wytworzone pole elektrycz¬ ne o zmiennej biegunowosci podczas gdy elektro¬ dy stykaja sie ze zjonizowanymi osrodkami na powierzchni przedmiotu poddawanego hartowaniu oraz srodki do poddawania tego ciala dzialaniu fal ultradzwiekowych.Wskazane jest, aby urzadzenie wedlug wynalaz¬ ku zawieralo elektrody zamocowane w sposób umozliwiajacy przemieszczanie ich wzgledem po¬ lo 15 20 25 80 35 40 50 55 60 65 wierzchni przedmiotu, co jest korzystne dla sto¬ pniowej obróbki powierzchni danego przedmiotu.Przedmiot o krzywoliniowych powierzchniach mo¬ ze byc obrabiany za pomoca takiego urzadzenia bez potrzeby stosowania specjalnie uksztaltowa¬ nych elektrod. Powierzchnie elektrod moga byc male, np. rzedu 1 cm2. Elektrody powinny byc za¬ mocowane tak, aby poruszaly sie wzajemnie wzgle¬ dem siebie i wzgledem powierzchni przedmiotu.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig 1 przedstawia urzadzenie w widoku z góry, fig. 2 — urzadzenie w przekroju pionowym, fig. 3 — odmiane urzadzenia do chemicznego hartowania arkusza szkla. W przykladach wykonania omó¬ wiono blizej konstrukcje tego urzadzenia.Przyklad I. Krazek 1 z materialu szklano- krystalicznego wytworzony z nastepujacego zesta¬ wu skladników w procentach wagowych: Li2G 15%, Al2Os 10%, Si02 50%, CaO 10%, B203 8%, Ti02 7%. Krazek 1 posiadajacy srednice 90 cm umieszcza sie na podporze 2, w urzadzeniu przed¬ stawionym na fig. 1 i 2. Urzadzenie to zawiera czlon 3 obrotowy, zawierajacy rure izolacyjna 4 zlozona z trzech sekcji 4', 4", 4"', które sa wy¬ znaczone przez polozenie metalowych pierscieni 5, 6 osadzonych na rurze 4.Sekcje 4", 4"' i pierscienie 5, 6 obracaja sie wspólnie napedzajac ramiona 7, 8 wprawiane sa w ruch obrotowy za pomoca silnika (nie przedsta¬ wionego). Pierscienie 5, 6 poprzez szczotki 9, 10 podlaczone sa do zródla pradu stalego o napieciu 80 wolt. Srodki (nie pokazane) wywoluja stopnio¬ wy ruch ramion 7, 8 w swoich poziomych plasz¬ czyznach, w odniesieniu do pierscienia 5, 6, gdy ramiona i pierscienie obracaja sie dokola pionowej osi rury 4. Za pomoca tego obrotowego ruchu, podtrzymywane ramionami 7 i 8 odpowiednie elektrody 11, 12, przesuwane sa stopniowo w stro¬ ne wymienionej osi. Wydrazone elektrody grafi¬ towe maja otwory 13, 14 o srednicy równej 5 mm. Na elektrodach umieszczone sa zbiorniki 15 i 16.Przed uruchomieniem urzadzenia czlon 3 obro¬ towy opuszcza sie na krazek 1 tak, aby zajal on polozenie przedstawione na fig. 1 i 2, w którym os rury 4 jest zgodna z osia krazka 1.Krazek 1 utrzymywany jest w temperaturze 300°C. Zbiorniki 15, 16 napelnia sie mieszanina 2% wagowych LiNOs i 98% wagowych KN03, która wyplywa przez otwory 13, 14 elektrod podczas gdy elektrody 11, 12 przesuwaja sie ruchem kolowym po powierzchni krazka 1. Elektrody 11, 12 wykonuja w przeciagu 3 minut dwadziescia obrotów. Za po¬ moca styków szczotek odwracana jest automatycz¬ nie biegunowosc elektrod, po kazdym obrocie o 180° dokola osi rury 4, i po kazdych pelnych obrotach elektrod, przesuwane sa do srodka mechanizmem przesuwnym (nie pokazanym), do takiego stopnia, ze druga pierscieniowa sciezka 21 zakreslona elek¬ trodami na krazku 1 zachodzi na pierwsza sciezke 20, jak zaznaczono na fig. 1.Obrotowe i postepowe ruchy kontynuowane sa dopóki elektrody 11, 12 nie znajda sie w poblizu11 pierscieni 5, 6. Przeciwlegla strona krazka pod¬ dawana jest obróbce w ten sam sposób.Za pomoca obróbki, drazek zostal zahartowany na obszarze, po którym przesunely sie elektrody.W tym obszarze krazek ma wytrzymalosc na ro¬ zerwanie przekraczajace 100 kg/mm2. W srodko¬ wym obszarze o srednicy nieco wiekszej od sred¬ nicy pierscieni .5, 6 wytrzymalosc krazka wynosi tylko 23 kg/mm2. Twardosc powierzchni zaharto¬ wanej strefy jest wedlug Mohsa wieksza niz twar¬ dosc srodkowej strefy niezahartowanej.Stosujac to samo urzadzenie przeprowadza sie inna próbe, w której elektrody dokonuja tylko jednego obrotu w ciagu dziesieciu minut i na koncu tego okresu krazek poddaje sie badaniu.W próbie tej, po kazdym miejscu strefy kolowej przesuwa sie najpierw jedna elektroda i potem druga elektroda.Jednakowoz, nie we wszystkich miejscach ob¬ róbka jest ta sama, poniewaz miejsca znajdujace sie w polowie strefy kolowej, stykaja sie najpierw z elektroda ujemna, a potem z elektroda dodatnia podczas gdy druga czesc strefy podlegala prze¬ ciwnej kolejnosci. Stwierdzono, ze polowa strefy, która miala najpierw dodatni potencjal potem ujemny potencjal w odniesieniu do stopniowego osrodka, zostala zahartowana z bardziej plaskim gradientem naprezen sciskajacych, podczas, gdy druga czesc, która byla najpierw ujemna a potem dodatnia w odniesieniu do stopionego osrodka, nie wykazuje wiekszego ulepszenia. Te same wy¬ niki uzyskuje sie w dalszych próbach przeprowa¬ dzonych przy pomocy elektrod o zmiennych od¬ stepach tak, aby przesuwaly sie po róznych po¬ wierzchniach kolowych krazka, na przyklad po brzegu, wykonujac tylko jeden obrót. W jeszcze innej próbie elektrody wykonuja wiecej niz je¬ den obrót, tak, aby strefa krazka która jest naj¬ pierw ujemna a potem dodatnia, mogla byc potem w trzeciej fazie ponownie ujemna. W tym przy¬ padku stwierdzono, ze ta strefa zostaje zaharto¬ wana w ten sam sposób, jak strefa która byla najpierw dodatnia, a potem ujemna w odniesieniu do stopionego osrodka.Przyklad II. Arkusz 31 szkla (fig. 3) o wymiarach Im X 0,8 m X 0,005 m z nanie¬ siona stala powloka 33 o grubosci 0,5 mm i skla¬ dajaca sie z mieszaniny KN03, KA i MgN03 pod¬ daje sie hartowaniu w plytkim zbiorniku 30 za¬ wierajacym aktywny osrodek 32 skladajacy sie z mieszaniny LiHS04 i KN03.Zastosowane urzadzenie zawiera równiez poro¬ waty walec 34, majacy w przyblizeniu te sama szerokosc co arkusz 31. Arkusz szkla umieszcza sie w osrodku 32, porowaty walec 34 napelnia sie czystym KNOs w temperaturze 350°C i toczy sie go za pomoca srodków (nie przedstawionych), ru¬ chem zwrotnym po pokrytej górnej powierzchni arkusza szkla. W temperaturze panujacej w zbiorniku 30 osrodek 32 ulega stopieniu lecz war- ( stwa 33 pokrywajaca arkusz szkla pozostaje sta¬ la. Zetkniecie z powloka 33 walca 34, zaladowa¬ nego stopionym KNOs podczas toczenia utrzy¬ muje sie w przeciagu pól godziny. Pod koniec tego okresu stwierdza sie, ze zahartowanie szkla fl 12 ogranicza sie do powierzchownych warstw arkusza.Nastepnie proces powtarza sie z osrodkiem 32 i walcem podlaczonym do generatora 35 pradu zmiennego, który utrzymuje potencjal pola elek- 5 trycznego równy 180V i na czestotliwosc 200 Hz, i pole to oddzialywuje przez powierzchnie roz¬ dzialu faz miedzy stopionymi osrodkami i pokry¬ tym arkuszem przy zatrzymaniu walca. Po obrób¬ ce trwajacej w przyblizeniu tylko 15 minut przy 0 szybkosci wynoszacej 10 pelnych suwów walca 34 na minute, stwierdza sie, ze jony potasowe prze¬ niknely na znaczna glebokosc do górnej czesci arkusza i na troche mniejsza glebokosc w dolnej czesci arkusza a gradient naprezen sciskajacych 5 jest bardzo plaski. Jony magnezowe równiez prze¬ niknely do górnej powierzchni arkusza. Poddany obróbce arkusz ma znacznie podwyzszona wy¬ trzymalosc na rozciaganie.Nastepnie, podobne arkusze poddaje sie takiej 0 samej obróbce lecz z zastosowaniem napiecia wiel¬ kiej czestotliwosci (100 kHz) nalozonego na pier¬ wotne napiecie. Próba giecia arkusza po obróbce wykazuje wytrzymalosc na zginanie równa 110 kg/mm2. Najwidoczniej, w tej drugiej próbie gra¬ dient stezenia jonów potasowych i magnezowych wprowadzonych do szkla jest w mniejszym stop¬ niu stromy niz w poprzednim przypadku, i to prawdopodobnie wplywa na wieksza wytrzymalosc.Gdy wywola sie pekniecie arkusza poddanego ob¬ róbce wedlug drugiej próby, rozbija sie on na wiele malych i nie ostrych kawalków.Przyklad III. Szybe szklana pokrywa sie z wyjatkiem srodkowej strefy bezpiecznej, cienka warstwa zlozona z LiCl, NaCl, LiNOs i KNOs. 35 W strefie bezpiecznej szybe zabezpieczajaca po¬ krywa sie cienka warstwa zawierajaca 80% wa¬ gowych nadtlenku rubidowego i 20°/o wagowych NaNOa. Waska strefe otaczajaca strefe bezpieczna i oddzielajaca ja od zewnetrznej strefy pokrytej 40 powleka sie tasma izolujaca. Hartowanie chemicz¬ ne prowadzi sie w temperaturze . 530°C w ciagu 15 minut, przy utrzymywaniu pola elektrycznego o potencjale 30 wolt i czestotliwosci 5 Hz, miedzy dwiema elektrodami, z których jedna styka sie 45 z powloka w strefie bezpiecznej, a druga styka sie z powloka obszaru zewnetrznego. Jony pota¬ sowe przenikaja do szkla w zewnetrznej strefie i nastepuje czesciowe zahartowanie strefy bez¬ piecznej, wskutek wymiany jonów rubidowych z 60 jonami sodowymi szkla. Strefa odizolowana nie ulega zahartowaniu. W porównawczych próbach otrzymuje sie podobne wyniki do osiagnietych w tym przykladzie, przez takie samo prowadzenie procesu lecz z róznymi polami elektrycznymi na- 55 stepujacych potencjalach i czestotliwosciach: 30 wolt 5 Hz, 20 wolt 100 Hz, 10 wolt 1500 Hz, 5 wolt 10 kHz.Przyklad IV. Pokryty arkusz szkla w spo¬ sób podany w przykladzie II obrabia sie w urza- 30 dzeniu przedstawionym na fig. 3. Podczas che¬ micznego hartowania, do osrodka 32 przez siatke (nie przedstawiona) umieszczona w dnie zbiornika wprowadza sie gazowy amoniak. Jak w przykla¬ dzie II ma miejsce powierzchniowa dyfuzja jonów [B do szkla, przy braku przemiennego pola elektrycz-68489 13 14 nego. Przy zastosowaniu przemiennego pola o po¬ tencjale 180 wolt i o czestotliwosci 200 Hz, jony potasowe i jony magnezowe dyfunduja do arku¬ sza jak w przykladzie II, to znaczy bardziej gle¬ boko i z bardziej plaskimi gradientami i dodatko¬ wo stwierdza sie, ze czasteczki amoniaku prze¬ nikaja do arkusza do tej samej glebokosci jak jony potasowe. Przy podaniu obciazeniom gna^ cym, arkusz peka na nieostre kawalki.Przy traktowaniu podobnego arkusza w ten sam sposób lecz przy uzyciu pola elektrycznego o po¬ tencjale 3 wolt i przy czestotliwosci 100 kHz, pod¬ dany obróbce arkusz wystawiono na obciazenia gnace, stwierdzono wieksza wytrzymalosc na zgi¬ nanie.Przyklad V. Uzywa sie arkuszy szkla pla¬ skiego o grubosci 3 mm i nastepujacym zestawie wagowym skladników: Si02 80% B203 15% Na20 5% lepkosc szkla w temperaturze 550°C wynosi 4 10H puazów.Najpierw arkusze szkla podgrzewa sie do tem¬ peratury 550°C, a potem umieszcza sie je na ka¬ pieli ze stopionych soli w pozycji poziomej. Dolne powierzchnie arkuszy znajduja sie 1 mm ponizej powierzchni kapieli. Górne powierzchnie arkuszy pokrywa sie do grubosci 2 mm powloka z tego samego osrodka stopionej soli, z wyjatkiem strefy obwodowej o szerokosci 2 cm, która jest zabez¬ pieczona rama przywierajaca do szkla, dzialajaca jako zbiornik dla stopionych soli. Kapiel z soli ma nastepujacy sklad wagowych: LiCl 2% KC1 10% RbCl 20% CzCl 20% ' Ca(N03)2 28% CaCl2 20% Elektrody o zasadniczo tych samych wymiarach, jak arkusze szkla doprowadza sie do zetkniecia z sola, stykajac je z górnymi i dolnymi powierz¬ chniami arkuszy i elektrody podlacza sie do zró¬ dla napiecia pradu zmiennego wynoszacego 5 wolt i o czestotliwosci 20 Hz.Przeprowadza sie nastepujace badania, wyko¬ nujac kazdorazowo dziesiec prób: a — bez fal ultradzwiekowych, b — z falami ultradzwiekowy¬ mi o czestotliwosci 20 kHz i gestosci pola 0,3 wata/dm2, c — z falami ultradzwiekowymi o cze¬ stotliwosci 100 kHz i gestosci pola 0,3 wata/dm2, d — z falami ultradzwiekowymi o czestotliwosci 1 MHz i gestosci pola 0,3 wata/dm2, e — z falami ultradzwiekowymi o czestotliwosci 100 kHz i ge¬ stosci pola 1 wat/dm2, f — z falami ultradzwie¬ kowymi o czestotliwosci 100 kHz i gestosci pola 5 wat/dm2.W tych szesciu rodzajach prób mierzy sie za¬ wartosc nastepujacych jonów przenikajacych do arkuszy: Li+, K+, Rb+, Cs+, Ca++. Porównawcze zawartosci przedstawione sa w tablicy I, dla kaz¬ dego z powyzszych jonów podczas pierwszej mi¬ nuty obróbki i odniesione do ilosci jonów na jed¬ nostke czasu i jednostke powierzchni.Fale ultradzwiekowe rozchodzace sie prostopadle do plaszczyzny arkuszy szkla, wytwarzane sa przez plyte stalowa o tych samych wymiarach jak arku¬ sze szkla, umieszczona poziomo o 3 cm ponad ar¬ kuszami. Plyta stalowa jest podparta na czterech rogach za pomoca pionowych, cylindrycznych pre¬ tów niklowych o dlugosci 10 cm i srednicy 2 cm.Górne konce pretów sa sztywno osadzone i zaopa¬ trzone w cewki nawiniete dokola pretów, do tych cewek doprowadza sie prad elektryczny o wyma¬ ganej czestotliwosci.Tablica I Porównawcze ilosci przenikajacych jonów na jed¬ nostke czasu i jednostke powierzchni (za 1 przy¬ jeto ilosc jonów potasowych przenikajacych szklo w przeciagu 40 sekund) jony Li+ K+ Rb+ Ca+ Ca+ + próba a 4 1,5 0,4 0 0 próba b 5 3 2,5 2,2 2 próba c 6,2 5 4,5 4 3,9 próba d 6,5 7,6 7,8 7,9 8 próba e 8,2 6,9 6,2 6 6 pról f 9,3 7,9 7,2 7 7 Przyklad VI. Wartosci podane w tablicy I uzyskane sa podczas pierwszej minuty próby. Gdy próby prowadzone sa dalej, zauwaza sie zmniej¬ szenie ilosci przenikajacych jonów, spowodowane zmeczeniem. Na przyklad w próbie c przykladu I po 10 minutach porównawczej ilosci na minute odpowiednio bylo tylko jonów: Li+ 4,5, K+ 4, Rb+ 3,7, Ca+ 3,2, Ca++ 3,1. Efekt zmeczenia w dal¬ szym ciagu zwieksza sie, gdy próba jest prowa¬ dzona dluzej niz 10 minut.Powtarza sie próbe c na podobnym arkuszu szkla, w ten sposób, ze fale ultradzwiekowe o tej samej czestotliwosci rozchodza sie równolegle do arkusza, na który dodatkowo padaja fale ultradzwiekowe w kierunku prostopadlym. Fale ultradzwiekowe równolegle do arkusza wytwarzane sa miedzy dwo¬ ma pretami niklowymi umieszczonymi w ten spo¬ sób, ze nie stykaja sie ze stopiona sola, lecz rów¬ nolegle i w poblizu" dwu przeciwleglych krawedzi arkusza. Prety te zasilane sa w ten sam sposób jak pionowe prety podpierajace plyte stalowa po¬ nad arkuszem szkla. Stwierdzono, ze zapobiega sie efektowi zmeczenia, a ilosci jonów przenikajacych w okresie 1 minuty pozostaly, jak podano w ta¬ blicy I dla próby c, nawet po okresie obróbki trwajacym dluzej niz 1 godzine. PL PL

Claims (19)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób chemicznego hartowania przedmiotów ze szkla, z materialu szklistokrystalicznego lub ce¬ ramicznego, znamienny tym, ze doprowadza sie do zetkniecia co najmniej czesc powierzchni przed¬ miotu z osrodkiem aktywnym zawierajacym jony, i przyklada sie pole elektryczne obejmujace co naj¬ mniej czesc powierzchni granicznej miedzy przed¬ miotem i osrodkiem aktywnym co najmniej jeden raz w kierunku od strony przedmiotu do osrodka 10 15 20 25 30 85 40 45 50 55 6068489 15 16 aktywnego, a nastepnie zmienia sie kierunek pola elektrycznego na* przeciwny.

2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze obydwie strony przedmiotu doprowadza sie do ze¬ tkniecia z dwoma osrodkami aktywnymi zawiera¬ jacymi jony i przyklada sie pole elektryczne prze¬ cinajace obie powierzchnie graniczne miedzy przed¬ miotem i obydwoma osrodkami.

3. Sposób wedlug zastrz. 1 lub 2, znamienny tym, ze dokonuje sie wielokrotnej zmiany kierunku pola.

4. Sposób wedlug zastrz. 1—3, znamienny tym, ze wielokrotnej zmiany kierunku pola dokonuje sie w odstepach czasu.

5. Sposób wedlug zastrz. 1—4, znamienny tym, ze osrodek aktywny w postaci kapieli, utrzymuje sie w zetknieciu z co najmniej czescia powierzchni przedmiotu.

6. Sposób wedlug zastrz. 1—5, znamienny tym, ze stosuje sie pole elektryczne, którego natezenie w kolejnych fazach biegunowosci jest niejedna¬ kowe.

7. Sposób wedlug zastrz. 1—6, znamienny tym, ze dzialaniu pola elektrycznego poddaje sie kolej¬ no rózne czesci powierzchni przedmiotu.

8. Sposób wedlug zastrz. 7, znamienny tym, ze rózne czesci powierzchni przedmiotu poddaje sie dzialaniu pól o róznych natezeniach.

9. Sposób wedlug zastrz. 7 lub 8, znamienny tym, ze przedmiot w postaci arkusza poddaje sie dzia¬ laniu pola elektrycznego wytwarzanego miedzy jedna elektroda stykajaca sie z brzegiem arkusza i druga elektroda stykajaca sie z zawierajacym jony osrodkiem aktywnym która przesuwana jest w stosunku do powierzchni arkusza.

10. Sposób wedlug zastrz. 1—9, znamienny tym, ze przedmiot utrzymuje sie w zetknieciu z osrod- 20 kiem zawierajacym jony metali alkalicznych i pro¬ wadzi sie wymiane jonów metali alkalicznych z osrodka aktywnego na jony metali alkalicznych z przedmiotu.

11. Sposób wedlug zastrz. 1—10, znamienny tym, ze przedmiot poddaje sie dzialaniu fal ultradzwie¬ kowych.

12. Sposób wedlug zastrz. 11, znamienny tym, ze przedmiot poddaje sie dzialaniu fal ultradzwieko- wych prostopadle do powierzchni granicznej mie¬ dzy przedmiotem i osrodkiem aktywnym.

13. Sposób wedlug zastrz. 11, znamienny tym, ze przedmiot poddaje sie dzialaniu fal ultradzwie¬ kowych równolegle do powierzchni granicznej mie¬ dzy przedmiotem i osrodkiem aktywnym.

14. Sposób wedlug zastrz. 1—12, znamienny tym, ze stosuje sie przemienne pole elektryczne o cze¬ stotliwosci 3—500 cykli/godzine.

15. Urzadzenie do stosowania sposobu wedlug za¬ strz. 1, znamienne tym, ze zawiera zbiornik (15, 16) dla osrodka aktywnego i podpore (2) dla przed¬ miotu oraz ma w poblizu podpory umieszczona pa¬ re elektrod (11, 12) i pradnice pradu zmiennego (35).

16. Urzadzenie wedlug zastrz. 15, znamienne tym, ze co najmniej jedna z elektrod ma ksztalt zbior¬ nika dla osrodka aktywnego.

17. Urzadzenie wedlug zastrz. 15, 16, znamienne tym, ze ma wytwornice fal ultradzwiekowych.

18. Urzadzenie wedlug zastrz. 15, 16, znamienne tym, ze ma srodki mechaniczne do przesuwania co najmniej jednej z elektrod wzgledem podpory-

19. Urzadzenie wedlug zastrz. 18, znamienne tym, ze jako srodek mechaniczny do przesuwania elek¬ trod posiada os obrotowa (3), na której umocowa¬ ne sa za posrednictwem ramion <7, 8), elektrody (U, 12). 31 32 W.D.Kart. C/887/73, 110+ 15, A4 Cena 10 zl PL PL