PL68335B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL68335B1
PL68335B1 PL143676A PL14367670A PL68335B1 PL 68335 B1 PL68335 B1 PL 68335B1 PL 143676 A PL143676 A PL 143676A PL 14367670 A PL14367670 A PL 14367670A PL 68335 B1 PL68335 B1 PL 68335B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
cadmium
anode
nickel
current
liter
Prior art date
Application number
PL143676A
Other languages
English (en)
Inventor
Adolf Pilsniak .
Original Assignee
Zjednoczone Zespoly Gospodarcze Sp Z O O
Filing date
Publication date
Application filed by Zjednoczone Zespoly Gospodarcze Sp Z O O filed Critical Zjednoczone Zespoly Gospodarcze Sp Z O O
Publication of PL68335B1 publication Critical patent/PL68335B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 15.X.1973 [ 68 335 KI. 48a,5/46 MKP C23b5/46 UKDJ ICZYTEL;" Urzodi: Fv'v...Twórca wynalazku. Adolf Pilsniak Wlasciciel patentu: Zjednoczone Zespoly Gospodarcze Sp. z o. o., Warsza¬ wa (Polska) Sposób wprowadzania kadmu w kapielach do niklowania z po lyskiem oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu 1 2 Przedmiotem wynalazku jest sposób wprowadza¬ nia kadmu w kapielach do niklowania z polyskiem oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu.W znanym sposobie niklowania z polyskiem, w którym do elektrolitu dodaje sie kilka jedno¬ czesnie dodatków blaskotwórczych, najwiecej trud¬ nosci przysparza uzupelnienie roztworu sola kadmu, który w porównaniu z innymi dodatkami blasko- twórczymi najszybciej sie zuzywa.Niedogodnosc ta nie ma wiekszego znaczenia w procesie niklowania w stojacych wannach do niklowania z polyskiem, w których na 1 dm2 po¬ wierzchni niklowanej przypada 3—10 litrów ele¬ ktrolitu a proces niklowania trwa 15—60 min.Uzupelnienie dodatków blaskotwórczych nastepuje w tym przypadku raz na kilka wsadów. Nato¬ miast w kielichach, w których na 1 dm2 po¬ wierzchni niklowanej przypada 0,5—2 litrów ele¬ ktrolitu, a proces niklowania trwa 3—6 godz. sól kadmu zuzywa sie bardzo szybko i trzeba ja uzupelniac kilkakrotnie w trakcie tworzenia sie powloki niklowej, co powoduje wahania w skladzie elektrolitu. Ilosc soli kadmu oraz czestotliwosc jej dodawania pozostawiana jest pracownikowi do wlasnej oceny w zaleznosci od uzyskiwanego po¬ lysku na przedmiotach. W czasie pracy na trzy zmiany i zwiazana z tym zmienna ocena wzrokowa latwo nastepuje przekadmowanie albo niedobór kadmu. W wyniku przeprowadzenia takiego pro¬ cesu uzyskuje sie wadliwa, latwo luszczaca sie powloke niklowa.Niedogodnosci tych pozbawiony jest sposób wpro¬ wadzania kadmu wedlug wynalazku, polegajacy na 5 regulowanym anodowym rozpuszczaniu metalicznego kadmu i wprowadzaniu jego jonów do kapieli w wymaganej ilosci, proporcjonalnej do natezenia pradu stalego doprowadzanego do anody, przy czym optymalny prad dawkowania kadmu wynosi 10 0,016 A/litr, przy obciazeniu kapieli pradem 12 A/litr.Wedlug wynalazku anoda kadmowa pracuje rów¬ nolegle z anoda niklowa. Prad do anody kadmowej plynie przez odpowiednio dobrany opór przewodem, 15 który jest odgalezieniem przewodu glównego do¬ prowadzajacego prad do anody niklowej. W obwód kadmowy jest wlaczona: zarówka, opór regulo¬ wany oraz amperomierz. Zarówka jest zabezpie¬ czeniem przyrzadu pomiarowego i jednoczesnie 20 sygnalizuje przerwy w doplywie pradu. Przy zmia¬ nach zachodzacych w natezeniu pradu doprowa¬ dzajacego do anody niklowej, proporcjonalne zmiany zachodza równiez w doplywie pradu do anody kadmowej, a wiec i w ilosci przechodzacego kadmu 25 do elektrolitu. Pozwala to na utrzymanie regulo¬ wanej wymaganej zawartosci kadmu w kapieli.Przebieg automatycznego dawkowania kadmu po¬ lega na rozpuszczeniu anody kadmowej w pracuja¬ cym elektrolicie niklowym. Parametry pracy ano- 3(J dy kadmowej dobiera sie tak, aby równoczesnie 68 33568 335 3 4 z osadzaniem sie okreslonej ilosci niklu na przed¬ miotach rozpuscila sie ilosc kadmu metalicznego potrzebnego do wywolania maksymalnego polysku.W tym celu obok anody niklowej na szynie ano¬ dowej mocuje sie uchwyt przyrzadu. W drugim odizolowanym koncu uchwytu mocuje sie pret kadmowy w dobranej srednicy i zanurza w ele¬ ktrolicie na ustalona glebokosc w odleglosci kilku centymetrów od anody niklowej. Prad do anody kadmowej jest doprowadzony od szyny anodowej przez zarówke, opór regulowany pokretlem oraz amperomierz. Na poczatku procesu niklowania na¬ stawia sie pokretlem opornika prad rozpuszczania kadmu wg amperomierza. I od tej chwili proces dawkowania odbywa sie automatycznie. Regulator pradu dawkowania kadmu daje dodatkowe mozli¬ wosci skracania lub wydluzania czasu niklowania zaleznie od wymaganej grubosci powloki. Polega to na nastawieniu wielkosci pradu rozpuszczania anody kadmowej, który zawiera sie w granicach od 0,1—0,8 A.Jezeli jonów kadmu do kapieli wprowadza sie mniej to polysk wystepuje wolniej po nalozeniu grubszej warstwy niklu i odwrotnie. Tak na przy¬ klad przy pradzie dawkowania kadmu 0,3 A ma¬ ksymalny polysk wystapi po 6 godzinach, a przy pradzie dawkowania 0,6 A, po 3 godzinach niklo¬ wania, bedzie przy tym ciensza warstwa niklu.Optymalna granica wielkosci pradu dawkowania kadmu wynosi 0,016 A/litr przy obciazeniu ka¬ pieli 1,2 A/l. Przy mniejszym obciazeniu kapieli nalezy o ten sam procent zmniejszyc prad daw¬ kowania.Urzadzenie wedlug wynalazku zostalo przedsta¬ wione na rysunkach, na których fig. 1 przedstawia widok kielicha czesciowo w przekroju podluznym, fig. 2 widok kielicha w przekroju po linii A—A, a fig. 3 ukazuje powiekszony szczegól elementu doprowadzajacego prad do anody kadmowej.Urzadzenie sklada sie z anodowej szyny 1 do¬ prowadzajacej prad do niklowej anody 3 i kadmo¬ wej anody 2, pod która umieszcza sie przeznaczone do niklowania przedmioty 4, a ponizej nich znaj¬ duja sie dwie katody 10. Prad do kadmowej anody 2 doprowadzony jest za posrednictwem uchwytu 5, nitów 6, izolacyjnej plytki 7, zaciskaczy srub 8, przewodów 9 i uchwytu 15. Wielkosc tego pradu jest regulowana przez regulator pradu 12 i wska¬ zywana jest przez amperomierz 13 i kontrolna po¬ miarowa zarówke 14. Elementy te znajduja sie we wspólnej obudowie 11 zawieszonej ponad kielicha¬ mi. PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wprowadzania kadmu w kapielach do niklowania z polyskiem, znamienny tym, ze kadm wprowadza sie do elektrolitu na drodze anodowego rozpuszczania w ilosci proporcjonalnej do nateze¬ nia pradu stalego doprowadzonego do anody ni¬ klowej.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze optymalny prad dawkowania kadmu wynosi 0,016 A/litr przy obciazeniu kapieli pradem 12 A/litr.
  3. 3. Urzadzenie do stosowania sposobu wedlug za¬ strz. 1 i 2, znamienne tym, ze sklada sie z ano¬ dowej szyny (1) doprowadzajacej prad do anody niklowej (3) i anody kadmowej (2), zaciskowego uchwytu (5), nitów <6), izolacyjnej plytki (7), srub zaciskowych (8), przewodów (9), regulatora (12) z przylaczonym amperomierzem (13), pomiarowej zarówki (14) oraz uchwytu (15) z zamocowanym pretem kadmowym (2). 10 15 20 25 30KI. 48a,5/46 68 335 MKP C23b 5/46 Fig.2KI. 48a,5/46 68 335 MKP C23b5/46 Cena zl 10.— Bltk 1492/73 r. 120 egz. A4 PL
PL143676A 1970-09-30 PL68335B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL68335B1 true PL68335B1 (pl) 1972-12-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4221064B2 (ja) 銅層の電解析出方法
GB630165A (en) Improvements in or relating to electroplating
JP2001519480A (ja) プログラム化パルス電気めっき法
US4789437A (en) Pulse electroplating process
EP0210011A3 (en) Apparatus and method for controlling plating induced stress in electroforming and electroplating processes
GB578389A (en) Improvements in and relating to the electrodeposition of metals and alloys
US3616280A (en) Nonaqueous electroplating solutions and processing
El-Sharif et al. The sustained deposition of thick coatings of chromium/nickel and chromium/nickel/iron alloys and their properties
PL68335B1 (pl)
GB1122795A (en) Improvements in corrosion-resisting decorative chromium electrolytic deposits
US4624857A (en) Method for automatic control of galvanic deposition of copper coatings in galvanic acid copper baths
DE3002520A1 (de) Galvanoplastikvorrichtung
US1920964A (en) Electrodeposition of alloys
DE2226699A1 (de) Elektroplatierbad für den Niederschlag von Rhodium-Platin-Legierungen
WO2020106253A2 (en) A plating hanger for obtaining homogeneous plating
US2741586A (en) Electroplating metals
GB785189A (en) Improvements in or relating to method and apparatus for electrodeposition
CN212610950U (zh) 一种棒状零件表面镀铬装置
US5236571A (en) Electrode and method for measuring levelling power
US2661330A (en) Method of electropolishing sterling silver
US3374154A (en) Electroforming and electrodeposition of stress-free nickel from the sulfamate bath
US3349016A (en) Process for employing an auxiliary anode made of high purity nickel
US3933613A (en) Electrode fixture for plating bath
US2138573A (en) Electroplating
US3436322A (en) Plating apparatus and process