PL66146B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL66146B1
PL66146B1 PL133676A PL13367669A PL66146B1 PL 66146 B1 PL66146 B1 PL 66146B1 PL 133676 A PL133676 A PL 133676A PL 13367669 A PL13367669 A PL 13367669A PL 66146 B1 PL66146 B1 PL 66146B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
sample
diffusion path
photoconductivity
light
measuring
Prior art date
Application number
PL133676A
Other languages
English (en)
Inventor
Sikorski Stanislaw
Piotrowski Tadeusz
Soltys Zdzi¬slaw
Swiderski Jaroslaw
Original Assignee
Instytut Technologii Elektronowej Przy Naukowoprodukcyjnym Centrum Pólprzewodników
Filing date
Publication date
Application filed by Instytut Technologii Elektronowej Przy Naukowoprodukcyjnym Centrum Pólprzewodników filed Critical Instytut Technologii Elektronowej Przy Naukowoprodukcyjnym Centrum Pólprzewodników
Publication of PL66146B1 publication Critical patent/PL66146B1/pl

Links

Description

66146 KL 21e,31/26 Opublikowano; 31.VII.1972 MKP GOlr 31/26 CZYTELNIA UKD Wspóltwórcy wynalazku: Stanislaw Sikorski, Tadeusz Piotrowski, Zdzi¬ slaw Soltys, Jaroslaw Swiderski Wlasciciel patentu: Instytut Technologii Elektronowej przy Naukowo- -Produkcyjnym Centrum Pólprzewodników, Warsza¬ wa (Polska) Sposób pomiaru drogi dyfuzji nadmiarowych nosników pradu w pólprzewodnikach Przedmiotem wynalazku jest sposób pomiaru drogi dyfuzji .nadmiarowych nosników pradu iw pólprzewodnikach. Sposób znajduje korzystne za¬ stosowanie przy produkcji przyrzadów pólprze¬ wodnikowych, w badaniach jednorodnosci krysz¬ talów.Stasowane dotychczas metody pomiaru drogi dy¬ fuzji nadmiarowych nosników pradu zakladaja jednorodnosc badanego krysztalu. Zawodnosc tego zalozenia jest dotkliwa w spotykanych czesto w praktyce przypadkach niejednorodnego rozkladu koncentracji nosników pradu oraz zbyt duzej lub zmiennej w obszarze mierzonym predkosci rekom¬ binacji powierzchniowej.Znany sposób pomiaru drogi dyfuzji polega na punktowym oswietleniu badanej próbki pólprze¬ wodnika i zmierzeniu wywolanego tym oswietle¬ niem fotoprzewodnictwa. Wielkosc efektu fotoprze¬ wodnictwa badanej próbki porównuje sie nastep¬ nie z efektem fotoprzewodnictwa wytworzonym ta sama sonda swietlna w próbce wzorcowej która umieszcza sie w miejsce próbki 'badanej, po czym na tej podstawie wylicza sie droge dyfuzji L.Wada znanego sposobu jest koniecznosc posiada¬ nia wzorcowych próbek danego materialu pólprze¬ wodnikowego o podobnej wartosci rekombinacji powierzchniowej. Dalsza iwada jest koniecznosc wymieniania próbki .badanej na próbke wzorcowa, co utrudnia lub nawet uniemozliwia dokladne foa- 10 25 30 danie punktowe, falszujac przez to wyniki pomia¬ rów.Celem wynalazku jest taki sposób pomiaru dro¬ gi dyfuzji nadmiarowych nosników pradu w pól¬ przewodnikach, który pozwolilby dokonywac po¬ miar z fwieksza niz dotychczas dokladnoscia, bez koniecznosci usuwania badanej próbki z urzadze¬ nia pomiarowego przed zakonczeniem pomiaru, jak tez bez wzgledu na stopien niejednorodnosci materialu pólprzewodnikowego.Cel ten osiagniety zosta! w sposobie bedacym przedmiotem wynalazku, zgodnie z którym badana próbke pólprzewodnika oswietla sie na zmiane swiatlem o dwu róznych spektralnych przedzialach promieniowania mierzac jednoczesnie wywolywa¬ ne w próbce napiecia fotoprzewodnictwa, nastep¬ nie droge dyfuzji wyznacza sie ze stosunku tak pomierzonych wartosci fotoprzewodnictwa.Korzyscia techniczna jaka zapewnia sposób we¬ dlug wynalazku, to przede wszystkim mozliwosc pomiaru drogi dyfuzji w pólprzewodnikach o znacznym stopniu niejednorodnosci, z wieksza niz dotychczas dokladnoscia i bez zmiany poloze¬ nia próbki w urzadzeniu pomiarowym. Dalsze ko¬ rzysci, to umozliwienie dokonywania pomiarów bardzo malych wartosci drogi dyfuzji, takze na malych obszarach i w miejscach trudno dostep¬ nych.Przykladowe wykonanie pomiaru sposobem we¬ dlug wynalazku opisane jest nizej. Badana próbke 661463 pólprzewodnika ""umieszcza sie w palu sondy swietlnej, nastepnie swiatlo sondy koncentruje sie jako punkt swietlny na wybranym obszarze prób¬ ki. Mierzy sie napiecie fotoprzewodnictwa, po czym zmienia sie spektralny zakres promieniowa- 5 nia swietlnego i powtórnie mierzy sie napiecie fotoprzewodnictwa przy zmienionym zakresie wid¬ ma. Przykladowo próbke oswietla sie pelnym wid¬ mem swiatla bialego i czescia 'tego widma, wpro¬ wadzajac w droge promieniowania odpowiednie 10 filtry.Ze stosunku fotoprzewodnictwa w dwu prze¬ dzialach promieniowania swietlnego, znajac cha¬ rakterystyki zródla swiatla i filtrów które .to ele¬ menty sa stalymi urzadzenia pomiarowego, wyzna- 15 cza sie wedlug znanych wzorów wielkosc drogi dyfuzJL ' / V-^. ^ ¦¦-..Sposób wedlug wynalazku pozwala ponadto wyznaczac predkosci rekombinacji powierzchnio- 4 wej, a takze pomiar pochodnej opornosci wlasci¬ wej. Dla tych pomiarów, nie zmienia sie polozenia próbki, zmienia sie jedynie zespól filtrów formu¬ jacych sklad spektralny promieniowania. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób pomiaru drogi dyfuzji nadmiarowych nosników pradu w pólprzewodnikach polegajacy na punktowym oswietlaniu badanej próbki pól¬ przewodnika i pomiarze wywolanego oswietleniem napiecia fotoprzewodnictwa, znamienny tym, ze badana próbke pólprzewodnika oswietla sie na zmiane swiatlem o dwu róznych spektralnych przedzialach promieniowania mierzac jednoczesnie wywolywane w próbce napiecia fotoprze wodni ot wa, nastepnie droge dyfuzji wyznacza sie ze stosunku tak pomierzonych wartosci fotoprzewodnictwa. ZF „Ruch" W-wa, z. 625-72, nakl. 205 + 20 egz. Cena zl 10,— PL
PL133676A 1969-05-19 PL66146B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL66146B1 true PL66146B1 (pl) 1972-06-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Goucher The photon yield of electron-hole pairs in germanium
Ellis et al. Correlation of the superconducting critical temperature with spin and orbital excitations in (Ca x La 1− x)(Ba 1.75− x La 0.25+ x) Cu 3 O y as measured by resonant inelastic x-ray scattering
Roth et al. Angle resolved photoemission from Cu single crystals: Known facts and a few surprises about the photoemission process
US2265357A (en) Apparatus for measuring the concentration of vitamin a
Bleuse et al. Optical determination of the band gap and band tail of epitaxial Ag 2 Zn Sn Se 4 at low temperature
PL66146B1 (pl)
US3495170A (en) Method for the indirect measurement of resistivities and impurity concentrations in a semiconductor body including an epitaxial film
Babić et al. High-Temperature Spin-Fluctuation Resistivity in AlMn
US3109932A (en) Measurement of impurity concentration in semiconducting material
JPS60237350A (ja) 半導体特性測定装置
US3665307A (en) Method and apparatus for detecting surface ions on silicon diodes and transistors
Ghosh et al. Electric-field-induced migration of oxygen ions in epitaxial metallic oxide films: Non-Debye relaxation and 1/f noise
US3350635A (en) Solar cell and test circuit
Chamberlain 6—A GENERAL-PURPOSE PHOTOELECTRIC PHOTOMETER AND ITS USE IN TEXTILE LABORATORIES
Challis et al. Phonon studies of Ni2+ in GaAs: evidence for an orthorhombic Jahn-Teller system
Wolf et al. Determination of charge carrier concentration from low‐field electroreflectance spectra
Pawlowski Effect of temperature errors on accuracy of deep traps parameters obtained from transient measurements
SU1117516A1 (ru) Способ оценки совершенства кристаллического строени минералов
RU2248068C1 (ru) Способ бесконтактного определения приповерхностного изгиба энергетических зон полупроводника
SU707455A1 (ru) Способ определени степени компенсации примесей в полупроводниках
PL62564B1 (pl)
Huldt Optical Method for Determining Carrier Lifetimes in Semiconductors
Geiger Spectro-photoelectrical effects in argentite the production of an electromotive force by illumination
Jones CXVII. The hall effect in aluminium crystals in relation to crystal size and orientation
Scott Measurement of the Energy of a Beta-Ray of Radium B