PL66106B1 - - Google Patents

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 30.IX,1972 66106 KI. 12q, l/Ol MKP BOlj |C2 . j Urzedu P * 9/18 TaT ¦¦„ego 1 LtOWJ | Twórca wynalazku: Antoni Dabrowski Wlasciciel patentu: Polska Akademia Nauk (Instytut Chemii Fizycznej), "Warszawa (Polska) Urzadzenie do wytwarzania warstwy wibrofluidalnej w materialach sypkich Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do wy¬ twarzania warstwy wibrofluidalnej w materialach sypkich, takich jak zmielone organiczne droono- krystaliczne osady, zmielone surowce mineralne i sproszkowane tworzywa sztuczne, stosowane do intensyfikacji procesów technologicznych z udzia¬ lem fazy stalej i gazowej.Znane sa urzadzenia do uzyskiwania stanu wi- brofluidalnego w materialach sypkich stanowiace wprawiany w ruch drgajacy caly pojemnik lub jego dno uszczelnione na obwodzie materialami elastycznymi.Urzadzenia te nie moga byc wykorzystane w skali przemyslowej poniewaz wprawianie w drga¬ nia duzego zbiornika nie jest wskazane ani ze wzgledów energetycznych, ani wytrzymaloscio¬ wych a dokladne uszczelnienie ruchomego dna srednicy kilku metrów, zwlaszcza w podwyzszo¬ nej temperaturze, stwarza trudnosci techniczne.Celem wynalazku jest skonstruowanie urzadze¬ nia do wytwarzania warstwy wibrofluidalnej, pozbawionego tych niedogodnosci.Cel ten osiagnieto przez skonstruowanie po¬ jemnika wewnatrz którego jest umieszczony luz¬ no tlok, który w czasie pracy znajduje sie w ma¬ teriale sypkim. Tlok ten ma ksztalt czaszy ku¬ listej zwróconej strona plaska do góry i jest wprawiany w ruch drgajacy za pomoca walka wychodzacego na zewnatrz pojemnika zas pod tlokiem jest umieszczona sprezyna polaczona jed- 10 15 20 30 nym koncem z czasza tloka a drugim koncem z pojemnikiem.Urzadzenie wedlug wynalazku umozliwia u- zyskanie w warunkach przemyslowych warstwy wibrofluidalnej zarówno w temperaturze niskiej jak i w podwyzszonej. Dzieki temu jest mozliwa znacz¬ na intensyfikacja takich procesów chemicznych, których szybkosc jest ograniczona przenoszeniem ciepla i masy.Urzadzenie wedlug wynalazku jest przedstawio¬ ne w przykladzie wykonania na rysunku. Sklada sie z walcowego pojemnika 1, wewnatrz którego jest umieszczony tlok 2 w ksztalcie czaszy kuli¬ stej zwróconej czescia plaska do góry. Wypukla czesc tloka 2 jest polaczona walkiem 3 z wibratorem nie pokazanym na rysunku. Walek 3 jest otoczo¬ ny sprezyna srubowa 4, której jeden koniec jest polaczony z dnem obudowy 1, a drugi koniec z czescia wypukla tloka 2. Uszczelnienie pomiedzy obudowa 1 a walkiem 3 zapewnia dlawnica 5 i szczelina 6. Aby umozliwic swobodny ruch ma¬ terialu sypkiego, pomiedzy sciankami pojemnika 1 a tlokiem 2, srednica tloka 2 jest nieco mniejsza od wewnetrznej srednicy pojemnika 1.Urzadzenie moze byc wlaczone przed lub po napelnieniu go materialem sypkim. Sprezyna ugi¬ najac sie przy ruchu tloka 2 do dolu spulchnia material pod tlokiem 2 i przeciwdziala ubijaniu materialu sypkiego pod warstwa wibrofluidalna.Podwójna amplituda drgan tloka wynosi od 0,3 66 10666 106 do 50 mm, a czestotliwosc jego drgan od 10—50 Hz. Na skutek ruchu drgajacego przenoszonego na tlok przez polaczony z nim wal wibratora, czasteczki materialu sypkiego zostaja wprowa¬ dzone w ruch drgajacy, a cala masa tego ma¬ terialu nabiera cech wrzacego plynu. Celem lat¬ wiejszego uzyskania stanu wibrofluidalnego, do¬ prowadza sie otworem 7, przed uruchomieniem urzadzenia, powietrze lub inny gaz, którego ilosc mozemy zmniejszyc po kilkunastu sekundach pra¬ cy urzadzen. Dzieki wysokim wartosciom wspól¬ czynnika wnikania ciepla od scianek urzadzenia do wnetrza materialu sypkiego ogrzewanie moze byc przeponowe, to znaczy bez kontaktu czynnika grzejnego z materialem sypkim. Czynnikiem grzejnym moze byc warstwa fluidalna otaczajaca reaktor i ogrzewana spalinami.W warstwie wibrofluidalnej na skutek inten¬ sywnego ruchu czastek ciala stalego nastepuje znaczne zwiekszenie wspólczynnika wnikania ciepla do warstwy, wyrównanie temperatur wewnatrz war¬ stwy oraz zmniejszenie oporów przeplywu gazu przez te warstwe. Poniewaz równoczesnie na¬ stepuje zwiekszenie wspólczynnika przejmowania 10 15 20 masy w warstwie wibr©fluidalnej zachodzie inten¬ syfikacja procesów wymiany ciepla, oraz^ masy i tych procesów chemicznych których szybkosc jest ograniczona przebiegiem procesów transportu ciepla i masy. Przykladem zastosowania urzadze¬ nia moze byc prowadzenie procesu termlicznej dysocjacji zasadowego siarczanu glinowo-amono- wego bedacego pólproduktem przy otrzymywaniu tlenku glinowego. PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Urzadzenie do wytwarzania warstwy wibroflu- idalnej w materialach sypkich, w postaci pojem¬ nika, stosowane do intensyfikacji procesów tech¬ nologicznych z udzialem fazy stalej i gazowej, znamienne tym, ze wewnatrz pojemnika (1) jest umieszczony luzno tlok (2) w ksztalcie czaszy ku¬ listej zwróconej czescia plaska do góry, który wprawiany jest w ruch drgajacy za pomoca walka (3) wychodzacego na zewnatrz pojemnika, zas pod tlokiem (2) jest umieszczona sprezyna (4) polaczona jednym koncem z czasza tloka (2) a drugim kon¬ cem z pojemnikiem (I). Bltkzam. 2211/72 200 egz. A4 Cenp zl 10,— PL PL