PL64341B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL64341B1
PL64341B1 PL139498A PL13949870A PL64341B1 PL 64341 B1 PL64341 B1 PL 64341B1 PL 139498 A PL139498 A PL 139498A PL 13949870 A PL13949870 A PL 13949870A PL 64341 B1 PL64341 B1 PL 64341B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
electron
magnification
spherical aberration
less
zero
Prior art date
Application number
PL139498A
Other languages
English (en)
Inventor
Slówko Witold
Original Assignee
Politechnika Wroclawska
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Wroclawska filed Critical Politechnika Wroclawska
Publication of PL64341B1 publication Critical patent/PL64341B1/pl

Links

Description

Miedzy elektronowa soczewka 1 i elektro¬ nowym zwierciadlem 2 umieszczony jest stygmator 4 kompensujacy astygmatyzm spowodowany nieosiowym przebiegiem wiazki.lub innymi czynnikami.Poniewaz powiekszenia elektronowej soczewki 1 i i elektronowego zwierciadla 2 zwiazane sa warunkiem kompensacji aberacji sferycznej ukladu, powiekszenie wypadkowe ukladu nie moze byc zmieniane w sposób dowolny. Zmiane wypadkowego powiekszenia ukladu umozliwiaja umieszczone w odmianach ukladu krótko- ogniskowe zespoly o regulowanym powiekszeniu w po¬ staci elektronowego zwierciadla 6 lub elektronowej so¬ czewki 7. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Elektronooptyczny uklad odwzorowujacy o powiek- 35 szeniu mniejszym od jednosci ze skorygowana aberacja sferyczna, skladajacy sie z wyrzutni elektronowej, ze¬ spolu optycznego o regulowanym powiekszeniu stygma¬ tora znamienny tym, ze koncowym elementem ukladu, tworzacym obraz rzeczywisty w uzytecznej plaszczyznie 40 obrazowej jest elektronowa soczewka (1) o wspólczynni¬ ku aberacji sferycznej mniejszym od zera, dajaca po¬ wiekszenie liniowe mniejsze od jednosci lub bliskie jed¬ nosci, zas przed elektronowa soczewka (1) umieszczone jest elektronowe zwierciadlo (2) o wspólczynniku abe- 45 racji sferycznej wiekszym od zera, a wielkosc wspól¬ czynników aberacji sferycznej i powiekszenia elektrono¬ wej soczewki (1) i elektronowego zwierciadla (2) sa tak dobrane by doprowadzic do kompensacji aberacji sfe¬ rycznej calego ukladu.KI. 21 g, 37/20 64341 MKPH01j,3/18KI. 21 g, 37/20 64341 MKP H 01 j, 3/18 Cena zl 10.— WDA-l. Zam. 2190, naklad 195 egz. PL
PL139498A 1970-03-19 PL64341B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL64341B1 true PL64341B1 (pl) 1971-12-31

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE183334T1 (de) Objektivlinsensystem für stereo-video-endoskop
KR880006554A (ko) 개선된 평탄한 피일드특성을 갖는 광각렌즈 조립물
DE2233610A1 (de) Thermostatische vorrichtung fuer eine gyromagnetische kernresonanzspektroskopie
US3814356A (en) Electron microscope
SE9003638D0 (sv) Primaerstraaleblaendare foer ett roentgenroer
PL64341B1 (pl)
GB1437620A (en) Zoom lens having an extremely long focal length range and wide relative aperture
US3318593A (en) Micropositioning mechanism
US3218908A (en) Adjustable optical prism field splitter
GB1061741A (en) Optical system for photographic apparatus
GB788189A (en) Improvements relating to cathode ray tubes
US4451126A (en) Survey objective
US3655963A (en) Device for controlling the slit width of adjustable slit electrodes in mass spectrometers
JPS5332753A (en) Microscope objective lens
US3088368A (en) Variable magnification optical system
US6061085A (en) Camera system for a transmission electron microscope
GB1238889A (pl)
GB1333054A (en) Electron microscopes
Mull et al. The effect of two brightness factors upon the rate of fluctuation of reversible perspectives.
JPS52125347A (en) Microscope objective lens
ROYER et al. Utilization of the Gabor arrangement in microholography(Gabor mounting geometry for magnification and holographic image reconstruction discussing spherical aberration compensation)
DE69321702T2 (de) Optische Anordnung zur Kalibrierung einer Wärmebildkamera
AT162280B (de) Tonabnahmevorrichtung für optische Bildtonfilme
Blaschke A simple form of flat-field microscope objective
GB2019086A (en) Electron Microscope Including a Stigmator