Opublikowano: 20.VIII.1970 60937 KI. 81 e, 143 MKP B 65 d, 87/50 UKD Wspóltwórcy wynalazku: inz. Zbigniew Rybicki, mgr inz. Ryszard Zele¬ chowski Wlasciciel patentu: Instytut Wlókien Sztucznych i Syntetycznych, Lódz (Polska) Urzadzenie do pokrywania swobodnej powierzchni cieczy Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do przy¬ krywania swobodnej powierzchni cieczy.Znane jest urzadzenie do pokrywania swobod¬ nej powierzchni cieczy, dla zmniejszenia strat i ewentualnego wydzielania sie z niej toksycznych oparów — w postaci kulek z polipropylenu. Kul¬ ki te, przy pokrywaniu nimi powierzchni cieczy, zmniejszaja parowanie roztworów wodnych do 70%.Kulki takie posiadaja jednak te wade, ze nie daja sie utrzymac w dowolnej konfiguracji bez wprowadzenia dodatkowych elementów brzego¬ wych, jak równiez nie zapewniaja szczelnosci przy¬ krywania powierzchni, poniewaz przykrywaja ja jak kolo wpisane w kwadrat Mysla przewodnia wynalazku jest zapewnienie mozliwosci pelnego przykrycia swobodnej po¬ wierzchni cieczy oraz dowolnego formowania od¬ slonietego lustra cieczy bez potrzeby wprowadza¬ nia dodatkowych elementów brzegowych.Zgodnie z wytyczonym zadaniem, pelne przy¬ krycie swobodnej powierzchni cieczy oraz dowolne formowanie odslonietego lustra cieczy uzyskuje sie wedlug wynalazku dzieki temu, ze w zbiorni¬ ku napelnionym dowolna ciecza znajduja sie ele¬ menty plywajace po powierzchni tej cieczy, wy¬ posazone w elementy z polem magnetycznym sta¬ lym lub wzbudzanym.Elementy plywajace moga byc dowolnego ksztal¬ tu, na przyklad o przekroju poziomym trójkata, kwadratu, szescioboku lub innego wieloboku. 10 15 20 25 Stwierdzono, ze najkorzystniejsze w stosowaniu sa elementy plywajace o ksztalcie symetrycznego szescioboku, których powierzchnia górna i dolna ma ksztalt kulistej czaszy. Ksztalt taki zapewnia lepsze splywanie cieczy z powierzchni górnej, w przypadku znalezienia sie cieczy na tej powierzch¬ ni, a uksztaltowanie takie powierzchni dolnej zmniejsza opór przy ustawianiu sie elementów plywajacych o róznych biegunach.Korzystne jest stosowanie elementów plywaja¬ cych wykonanych z materialów niezwilzanych cie¬ cza, która ma byc nimi przykryta, a przy roztwo¬ rach wodnych elementów wykonanych z poliolefin lub z polerowanego metalu.Pole magnetyczne stale zapewniaja elementom plywajacym plytki ferrytowe, umieszczone na ich wewnetrznych krawedziach tak, aby biegunowosc sasiadujacych ze soba plytek ferrytowych byla przeciwna. W ten sposób poszczególne elementy plywajace po powierzchni cieczy ustawiaja sie od¬ powiednimi parami biegunów, przyciagaja sie i wreszcie stykaja sie ze soba przykrywajac szczel¬ nie lustro cieczy.Pole magnetyczne wzbudzane uzyskuje sie przez wbudowanie w elementy plywajace cewek induk¬ cyjnych z rdzeniem oraz umieszczenie w odpo¬ wiednim miejscu, na przyklad nad lustrem cieczy, elementu indukujacego to pole na przyklad elek¬ tromagnesu. W wyniku dzialania tego pola ele- 6093760937 3 4 menty plywajace przemieszczaja sie zgodnie z li¬ niami sil pola magnetycznego.W pewnych technologicznie uzasadnionych przy¬ padkach, celowym jest odsloniecie lustra cieczy dla umieszczenia nad nim na przyklad krócców ssawnych instalacji wentylacyjnej. Do tego celu sluzy odmiana urzadzenia wedlug wynalazku, po¬ legajaca na tym, ze w dowolnej scianie lub scia¬ nach zbiornika z ciecza wbudowane sa elementy z polem magnetycznym stalym na przyklad ma¬ gnes trwaly, lub elementy z polem magnetycznym wzbudzanym na przyklad elektromagnes.Wprowadzenie elementów z polem magnetycz¬ nym stalym lub wzbudzonym w sciane lub sciany zbiornika z ciecza, pozwala na dowolne formowa¬ nie odslonietego lustra cieczy, poniewaz elementy plywajace, w ilosci mniejszej niz tego wymaga pelne przykrycie powierzchni cieczy, przyciagane sa w dowolnych kierunkach, odslaniajac przy tym zadana czesc powierzchni cieczy. Poza tym—roz¬ wiazanie takie zapewnia szczelne przykrycie po¬ wierzchni cieczy przy scianach zbiornika.Urzadzenie do przykrywania swobodnej po¬ wierzchni cieczy wedlug wynalazku, pozwala na zmniejszenie strat cieplnych powstalych na skutek parowania odslonietych powierzchni cieczy o 85— 90% oraz stanowi zabezpieczenie przed wpadaja¬ cymi pylami cial stalych do cieczy, w przypadku koniecznosci zachowania duzej czystosci. Pozwala ono równiez na zmniejszenie roszenia przewodów wentylacyjnych, powstalego na skutek odparowa¬ nia wody z goracych kapieli.Stosujac urzadzenie wedlug wynalazku, uzysku¬ je sie zmniejszenie o 20—70% stezenia gazów tok¬ sycznych w powietrzu sal przemyslowych, ponie¬ waz mozliwosc dowolnego formowania odsloniete¬ go lustra cieczy pozwala na skierowanie wydzie¬ lajacych sie gazów toksycznych w takie miejsca, gdzie istnieje mozliwosc ich odwentylowania lub skierowania do regeneracji.Urzadzenie wedlug wynalazku, moze znalezc równiez zastosowanie w przypadku koniecznosci zabezpieczenia powierzchni cieczy przed dziala¬ niem utleniajacym powietrza, przy czym mozliwa jest obserwacja powierzchni cieczy w zbiorniku.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przekrój poprzeczny przez ele¬ ment plywajacy zaopatrzony w plytki ferrytowe, fig. 2 — przekrój poprzeczny przez element ply- 5 wajacy zaopatrzony w cewke indukcyjna z rdze¬ niem, fig. 3 — zbiornik z ciecza przykryta elemen¬ tami plywajacymi, fig. 4 — odmiane urzadzenia w postaci wanny koagulacyjnej z wbudowanymi do jej scianek elementami z polem magnetycznym stalym.Element plywajacy 5 lub 10 (fig. 1, 2) posiada obudowe 1 wykonana z wypraski poliolefinowej, wewnatrz której znajduja sie plaskie namagneso¬ wane plytki ferrytowe 2 lub cewki indukcyjne 2a z rdzeniem. Przy odpowiedniej ilosci elementów plywajacych 5 nastepuje szczelne przykrycie nimi powierzchni cieczy znajdujacej sie w zbiorniku 4 (fig. 3).W przypadku koniecznosci czesciowego odslonie¬ cia lustra cieczy ma^ zastosowanie odmiana urza^ dzenia uwidoczniona na fig. 4, gdzie wanna 6 z kapiela koagulacyjna do formowania wlókien wiskozowych, w której znajduja sie elementy ply¬ wajace 10, ma wbudowane w sciany magnesy trwa¬ le 11. Magnesy trwale 11 przyciagajac odpowiednio elementy plywajace 10 tworza odsloniete lustro 8 kapieli koagulacyjnej, przez które wyprowadzana jest wyprzedziona wiazka wlókien 7. Nad odslonie¬ tym lustrem 8 kapieli zamocowany jest króciec ssawny 9 instalacji wentylacyjnej wyprowadzaja¬ cej na zewnatrz gazy toksyczne jak CS2 i H2S. PL