PL59234B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL59234B1 PL59234B1 PL127362A PL12736268A PL59234B1 PL 59234 B1 PL59234 B1 PL 59234B1 PL 127362 A PL127362 A PL 127362A PL 12736268 A PL12736268 A PL 12736268A PL 59234 B1 PL59234 B1 PL 59234B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- piezoelectric
- microphone
- layer
- cone
- acoustic
- Prior art date
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 claims description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Description
Pierwszenstwo: Opublikowano: 10.111.1970 59234 KI. 21 a2, 8 MKP H 04 r A }(DZ UKD Twórca wynalazku: prof. Wincenty Pajewski Wlasciciel patentu: Polska Akademia Nauk (Instytut Podstawowych Problemów Techniki), Warszawa (Polska) Szerokopasmowy mikrofon piezoelektryczny i Przedmiotem wynalazku jest szerokopasmowy mikrofon piezoelektryczny, przeznaczony do po¬ miaru fal akustycznych, ultradzwiekowych i hy- perdzwiekowych, wytwarzanych w gazach, cie¬ czach i cialach stalych.Mikrofon uzywany jest do pomiaru cisnienia akustycznego fali i w zwiazku z tym jego wy¬ miary powinny byc male w stosunku do dlugosci fali, gdyz tylko wtedy napiecie elektryczne po¬ wstajace w mikrofonie jest proporcjonalne do cisnienia akustycznego i nie zalezy od czestotli¬ wosci padajace fali.Warunek ten jest trudny do spelnienia w przy¬ padku fal ultradzwiekowych o czestotliwosci wyz¬ szej od 200 kHz, rozchodzacych sie w gazie lub cieczy. W tym przypadku najkorzystniejszym roz¬ wiazaniem jest zastosowanie mikrofonu plaskiego o elemencie piezoelektrycznym wykonanym z cien¬ kiej plytki piezoelektrycznej, ustawionej prosto¬ padle do kierunku rozchodzenia sie fali. Taki mi¬ krofon ma plaska charakterystyke skutecznosci zalezna od grubosci elementu. Czestotliwosc gra¬ niczna oblicza sie ze wzoru X [1] gdzie fr = czestotliwosc graniczna v = szybkosc rozchodzenia sie fali aku¬ stycznej w osrodku x = grubosc elementu piezoelektrycznego 15 20 25 30 Tak obliczana czestotliwosc graniczna odpowiada rezonansowi grubosciowemu plytki piezoelektrycz¬ nej. Jednakze, ze wzgledu na ograniczone mozli¬ wosci wykonania plytki odpowiednio cienkiej, za¬ kres charakterystyki skutecznosci obecnie znanych mikrofonów jest ograniczony od góry.Celem wynalazku jest rozszerzenie zakresu cha¬ rakterystyki skutecznosci mikrofonu na wyzsze czestotliwosci.Cel ten osiagnieto przez wykorzystanie cienkich warstw krysztalu piezoelektrycznego pólprzewod¬ nikowego.Istota wynalazku polega na tym, ze cienka war¬ stwa krysztalu jest warstwa piezoelektryka pól- przewodzacego trwale polaczona z podstawa stozka wykonanego z materialu nieprzewodzacego, dzieki czemu wytwarza ona napiecie na elektro¬ dach pod wplywem padajacej fali akustycznej.Przyklad wykonania szerokopasmowego mikro¬ fonu piezoelektrycznego wedlug wynalazku zo¬ stanie omówiony w oparciu o rysunek, gdzie fig. 1 przedstawia charakterystyke skutecznosci mikro¬ fonu, a fig. 2 przedstawia przekrój przez mikrofon.Jedna elektrode mikrofonu wedlug wynalazku stanowi monokrysztal pólprzewodnika przyciety w formie stozka 3 zwróconego podstawa w kie¬ runku padajacej fali akustycznej. Ksztalt taki na¬ dawany jest dlatego, ze wtedy najkorzystniej przebiega wytlumienie fali, która przeszla przez warstwe piezoelektryka 2. 5923459234 Druga elektroda mikrofonu jest cienka warstwa metaliczna 1 nalozona na warstwe piezoelektry- ka 2 lub warstwe pólprzewodnika pozbawionego nosników pradu przez dyfuzje obcych jonów, a to w tym celu by zmniejszyc jego przewodnosc elek¬ tryczna. Cienka warstwa piezoelektryka 2 napy¬ lona lub otrzymana na drodze dyfuzji nalozona jest na podstawe stozka 3. Grubosc tej warstwy moze zmieniac sie od kilku Angstremów do kilku mikrometrów. Najkorzystniejszymi materialami pólprzewodnikowymi do wykonania stozka 3 sa siarczek kadmu CdS, selenek kadmu Cd Se, tle¬ nek cynkowy Zn O itp.Mikrofon wedlug wynalazku ma opisane powy¬ zej elektrody umieszczone wewnatrz obudowy 4 wykonanej z materialu izolacyjnego, najkorzyst¬ niej z policzterofluoroetylenu (nazwa handlowa teflon). Do wyjscia mikrofonu dolaczony jest kabel wspólosiowy.Odmiana szerokopasmowego mikrofonu piezo¬ elektrycznego jest mikrofon wykonany w ten spo¬ sób, ze stozek 3 wykonany jest z monokrysztalu nieprzewodzacego, a na jego podstawie napylona jest dodatkowo warstwa metalu przewodzacego, spelniajaca taka sama role jak elektroda stozko¬ wa w rozwiazaniu podstawowym. Na te dodatko¬ wa warstwe nalozono warstwe epitaksjalna piezo- 5 elektryczna o duzej opornosci wlasciwej. Zaleta konstrukcji mikrofonu szerokopasmowego wedlug wynalazku jest to, ze przez uzycie tych samych materialów na stozek 3 i warstwe piezoelektryka 2 osiaga sie dopasowanie opornosci akustycznej war- io stwy piezoelektryka do opornosci akustycznej stozka 3. PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Szerokopasmowy mikrofon piezoelektryczny do 15 pomiaru fal akustycznych, ultradzwiekowych i hy- perdzwiekowych zawierajacy element piezoelek¬ tryczny ustawiony prostopadle do kierunku roz¬ chodzenia sie fali, znamienny tym, ze element pie¬ zoelektryczny stanowi cienka warstwa piezoelek- 20 tryka (2) trwale polaczona z podstawa stozka (3) wykonanego z materialu nieprzewodzacego lub o bardzo malej przewodnosci wlasciwej. o,oi om Q040,o6mai 0,2 frai^edst 2 ' 4 'ieio" (* Fi o 1 Fia?. PZG w Pab., zam. 1577-69, nakl. 250 egz. PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL59234B1 true PL59234B1 (pl) | 1969-12-29 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3568108A (en) | Thin film piezoelectric filter | |
| US3200354A (en) | Ultrasonic wave transmission device utilizing semiconductor piezoelectric material to provide selectable velocity of transmission | |
| US3955160A (en) | Surface acoustic wave device | |
| Marshall et al. | Novel acoustic-surface-wave directional coupler with diverse applications | |
| US4081769A (en) | Acoustic surface wave resonator with suppressed direct coupled response | |
| Wei et al. | Highly sensitive ultraviolet detector using a ZnO/Si layered SAW oscillator | |
| FR2514567A1 (fr) | Element a onde elastique de surface | |
| JPH0218614B2 (pl) | ||
| JP2003037467A (ja) | 弾性表面波装置 | |
| US4480209A (en) | Surface acoustic wave device having a specified crystalline orientation | |
| US4209725A (en) | Selenium layer piezoelectric device | |
| KR20010033800A (ko) | 파이로 전기의 단결정 기판위의 표면 음파(saw) 소자 | |
| PL59234B1 (pl) | ||
| JPS60111600A (ja) | 電気機械変換素子 | |
| US4065734A (en) | Elastic surface wave devices | |
| US3453456A (en) | Ultrasonic transducer | |
| Zahertar et al. | A flexible PVDF-based platform combining acoustofluidics and electromagnetic metamaterials | |
| US4005376A (en) | Electronically variable surface acoustic wave phase shifter | |
| Hickernell | Piezoelectric semiconductor acoustic delay lines | |
| CN117280606A (zh) | 声学谐振器 | |
| JPS58137318A (ja) | 薄膜圧電振動子 | |
| CN117321914A (zh) | 谐振器装置 | |
| Scott et al. | Durable lead attachment techniques for pvdf polymer transducers with application to high voltage pulsed ultrasonics1 | |
| Soleimanpour et al. | ZnO-based surface acoustic wave droplet sensor | |
| JPS6367363B2 (pl) |