PL56402B1 - - Google Patents

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 30.XI.1968 56402 KI. 27 d, 5/00 MKP F 04 CZYTEHHI. fci-,'.:.-.; • i«fk Twórca patentu: prof. dr Janusz Groszkowski Wlasciciel patentu: Polska Akademia Nauk (Instytut Technologii Elek¬ tronowej), Warszawa (Polska) Sposób wytwarzania wysokiej prózni oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia wysokiej prózni na drodze sorpcyjno-desorp- cyjnej oraz urzadzenie do stosowania tego spo¬ sobu.Znanych jest obecnie szereg rozwiazan, które do wytwarzania wysokiej prózni wykorzystuja sorp- cyjno-descrpcyjne wlasciwosci materialów.Znane jest rozwiazanie, którego istota polega na wprowadzaniu do komory wysokiej prózni w spo¬ sób ciagly na przyklad drutu lub tasmy metalo¬ wej. Oczyszczanie z gazu powierzchni drutu lub tasmy odbywa sie przez podgrzewanie ich do pew¬ nej temperatury. Jest to rozwiazanie charaktery¬ zujace sie mala wydajnoscia oraz stwarza szereg trudnosci przy uszczelnianiu.Znane jest równiez rozwiazanie, w którym ab- sorbent, na przyklad zeolit lub wegiel aktywowa¬ ny w postaci ziarnistej poddawany jest ogrzewa¬ niu w komorze wstepnej prózni, a nastepnie prze¬ sylany jest do komory wysokiej prózni, gdzie nastepuje sorbcja gazów. Jest to rozwiazanie od¬ znaczajace sie znacznie wieksza wydajnoscia niz dotychczasowe znane rozwiazania, jednak wymaga ono szeregu skomplikowanych zaworów i sluz, które zapewnialyby odpowiednia szczelnosc.Znane jest równiez rozwiazanie polegajace na mechanicznym usuwaniu gazów z powierzchni me¬ talowych. W rozwiazaniu tym usuwanie gazów odbywa sie przez mechaniczne scieranie po¬ wierzchni lub polega na nacieraniu twardszych 10 15 20 25 30 powierzchni miekszymi metalami. Zmiana wymia¬ rów powierzchni metalowych stwarza w tym przy¬ padku szereg trudnosci przy zapewnieniu odpo¬ wiedniej szczelnosci.Celem wynalazku jest opracowanie sposobu, który by nie zawieral wad wyzej omówionych rozwiazan, a znacznie przekraczal wydajnosci do¬ tychczasowych sposobów i urzadzen. Szczególnie rozwiazanie wedlug wynalazku powinno odznaczac sie prostym i pewnym uszczelnieniem, oraz sku¬ tecznym usuwaniem gazów w trakcie desorpcji.Cel ten wedlug wynalazku zostal osiagniety w ten sposób, ze usuwanie gazu z powierzchni meta¬ lu odbywa sie w obszarze prózni wstepnej przez bombardowanie powierzchni elektronami wydzie¬ lanymi na przyklad przez zarzaca sie katode i przyspieszanymi za pomoca pola elektrycznego powstajacego miedzy katoda a na przyklad po¬ wierzchnia bombardowana, która jest anoda.Zgodnie z wynalazkiem jakas powierzchnia na przyklad metalowa oczyszczona przez bombardo¬ wanie elektronowe w obszarze prózni wstepnej jednak dostatecznie juz wysokiej zostaje przesu¬ nieta przez uszczelniony otwór do obszaru, którym ma byc wytwarzana próznia bardziej wysoka.Gazy z tego obszaru uderzajac w czysta po¬ wierzchnie zostana na niej zaabsorbowane. Gdy prcces absorpcji zostanie ukonczony, powierzchnie te przesuwa sie z powrotem do obszaru prózni wstepnej, gdzie nastepuje proces oczyszczania po- 56402wierzchni z gazów droga bombardowania elektro¬ nowego, a wyswobodzone gazy zostaja odprowa¬ dzone przez pompe prózni wstepnej. Proces zo¬ staje powtórzony przez wprowadzenie oczyszczonej powierzchni do obszaru prózni wysokiej itd. Tak wiec pompowanie obszaru prózni wysokiej odbywa sie droga transportu gazu przez powierzchnie przesuwana z jednego do drugiego obszaru.Przesuwanie tej powierzchni moze sie odbywac w rozmaity sposób. Przykladowe rozwiazanie pom- » py sorpcyjno-desorpcyjnej widoczne jest na ry- usunkU| na którym fig. 1 przedstawia schematycz¬ nie w*\rzekrcju podluznym a fig. 2 — w prze¬ kroju poprzecznym pompe o pracy ciaglej pracu¬ jacej przez obrotowe przesuwanie powierzchni z obszaru prózni wysokiej, gdzie pokrywaja sie cne gazami, do obszaru prózni wstepnej, gdzie sa oczyszczane przez bombardowanie elektronami.Pompa sklada sie z parzystej ilosci metalowych cylindrów, na przyklad z czterech 1, 2, 3, 4, które stykaja sie szczelnie wzdluz czterech tworzacych i z obu swych konców dotykaja równiez szczelnie dwóch plytek plaskich 5 i 6 przylegajacych do plyty 14. W ten sposób miedzy czterema cylindra7 mi i dwiema plytami powstaje szczelnie zamknie¬ ty obszar 7. Obszar ten laczy sie przez otwór 8 w plycie np. 6 i 14 z komora 9, która nastepnie jest polaczona z pompa prózni wstepnej, na przyr klad pompa dyfuzyjna 10. Wewnatrz obszaru 7 znajduje sie zarzaca sie katoda 11 odizolowana od cylindrów i plyt. Miedzy katode a cylinder przy^ klada sie napiecie elektryczne, dzieki któremu elektrony emitowane przez katode bombarduja po¬ wierzchnie cylindrów stanowiace scianki obszaru 7. Uwolnione dzieki temu z powierzchni cylindra gazy przedostaja sie przez otwór 8 do komory 9 skad odprowadza je pompa dyfuzyjna 10.Jesli cylindry zostana obrócone w taki sposób, aby czyste powierzchnie przesunely sie do obsza¬ ru 12, zaczna one absorbowac gazy, dzialajac jako pompa. Równoczesnie powierzchnie, poprzednio pokryte gazami, przesuniete do obszaru 7 zostaja przez bombardowanie oczyszczone.W ten sposób przy ruchu obrotowym cylindrów napedzanych silnikiem 15 poprzez przekladnie 13 nastepuje ciagly proces pompowania gazu z ob¬ szaru 12 przez jego transport do obszaru 7. Dla zwiekszenia wydajnosci urzadzenia mozna zamiast czterech cylindrów zastosowac wieksza ilosc z tym, ze powinna to byc liczba parzysta. Cylindry moga byc chlodzone za pomoca mieszanki chlo- . dzacej. Cylindry moga byc wykonywane z róz¬ nych materialów w zaleznosci od rodzaju usuwa¬ nego gazu. Równiez mozliwe jest poprawienie wlasnosci sorpcyjnych powierzchni przez jonizo¬ wanie gazów w komorze wysokiej prózni. PL

Claims (12)

1. Zastrzezenia patentowe 1. / 1. Sposób wytwarzania wysokiej prózni za po¬ moca urzadzen pracujacych na zasadzie sorp- cji i desorpcji gazu, polegajacy na wytwarza¬ niu czystych powierzchni dla celów intensyw¬ nego sorpcyjnego pompowania gazu z obszaru opróznionego, znamienny tym, ze pokryte ga¬ zem powierzchnie, poddaje sie bombardowaniu elektronami, przy czyim czynnosci te prowadzi • < /*' 4 sie w osobnym obszarze prózni'wstepnej i na¬ stepnie tak oczyszczane powierzchnie wprowa¬ dza sie przy zachowaniu szczelnosci do obsza¬ ru opróznianego, w którym jest wytwarzana 5 próznia wysoka wlasnie przez sorbcje gazu na tych czystych powierzchniach.
2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1 znamienny tym, ze powierzchnie z zaabsorbowanym gazem prze¬ mieszcza sie z obszaru prózni wysokiej do ob- szaru prózni wstepnej a nastepnie — po de¬ sorpcji gazu z powierzchni w obszarze prózni wstepnej — do obszaru prózni wysokiej, za pomoca przetaczania lub mechanicznego prze¬ suwania przez uszczelnienia elementów meta¬ lowych, których powierzchnie sorbuja i de- sorbujagazy. ( ,
3. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2 znamienny tym, ze jako zródlo elektronów sluzacych do bom¬ bardowania powierzchni w celu jej oczyszcze¬ nia stosuje sie katode, miedzy która to katode 20 i powierzchnie oczyszczana przyklada sie na¬ piecie elektryczne.
4. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, 2 i 3 znamienny tym, ze powierzchnie sorbujace utrzymuje sie w ^ni¬ skiej temperaturze, korzystnie przez przepu- 25 szczanie mieszanki chlodzacej.
5. 5. Sposób wedlug zastrz. 1, 2, 3, 4 znamienny tym, ze w obszarze prózni wysokiej, gdzie na¬ stepuje adsorpcja gazu wywoluje sie jonizacje gazu przez wyladowanie elektryczne. 30
6. 6. Urzadzenie do stosowania sposobu wedlug za¬ strz. 1—5 znamienne tym, ze w obszarze (12) wysokiej prózni ma umieszczone cztery wiru¬ jace cylindry (1, 2, 3 i 4) stykajace sie szczel¬ nie wzdluz czterech tworzacych, tworzac ob- 35 szar (7) wstepnej prózni, w którym umiesz¬ czona jest katoda (11), przy czym napiecie przykladane jest miedzy katode i cylindry wirujace.
7. 7. Urzadzenie wedlug zastrz. 6 znamienne tym, 40 ze obszar (7) prózni wstepnej ograniczony jest szczelnie od góry plyta (5) a od dolu plyta (6), w której wykonany jest otwór (8) laczacy ob¬ szar (7) z komora wstepnej prózni (9).
8. 8. Urzadzenie wedlug zastrz. 6 i 7 znamienne 45 tym, ze cylindry (1, 2, 3, 4) napedzane sa sil¬ nikiem (15) poprzez przekladnie (13).
9. 9. Urzadzenie wedlug zastrz. 6 i 7 znamienne tym, ze cylindry chlodzone sa czynnikiem chlodzacym. 50
10. 10. Odmiana urzadzenia wedlug zastrz. 6 do 9 znamienna tym, ze zawiera ilosc cylindrów rózna od czterech, z tym ze jedna czesc ich powierzchni jest bombardowana elektronami, 55 a druga* czesc w tym samym czasie dziala po- chlaniajaco.
11. 11. Urzadzenie wedlug zastrz. 6 i 10 znamienne tym, ze powierzchnie poszczególnych cylin¬ drów wykonane sa z odmiennych materialów, 60 o wlasciwosciach zapewniajacych dobra sorp- cje i desorpcje gazu.
12. 12. Urzadzenie wedlug zastrz. 6 znamienne tym, ze posiada zespól elektryczny dla wywoly¬ wania w obszarze (12) wyladowan elektrycz- 65 nych.KI. 27 d, 5/00 56402 MKP F 04 f ng./ Fig. 2 PL