PL53770B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano: 31.VIII.I967 53770 KI. 26 d, 9/21 MKP C 10 k UKO M*h Twórca wynalazku: dr inz. Adam Ogrodnik Wlasciciel patentu: Przedsiebiorstwo Kopalnictwa Gazu Ziemnego, Sa¬ nok (Polska) Sposób osuszania gazu za pomoca roztworu glikolu dwuetylenowego Przedmiotem wynalazku jest sposób osuszania gazu ziemnego za pomoca roztworu glikolu dwu¬ etylenowego.Osuszanie gazu ziemnego, jak równiez innych gazów technicznych poddawanych oziebianiu do 5 niskich temperatur jest bardzo waznym zagadnie¬ niem, gdyz od stopnia osuszenia gazu zalezy sprawnosc pracy urzadzen i ciaglosc ruchu.Osuszanie gazu znanymi sposobami do punktu rosy okolo —5°C, nie przedstawia wiekszych trud- 10 nosci. Trudnosci powstaja dopiero wtedy, gdy wy¬ magany punkt rosy jest nizszy niz —30aC. Stoso¬ wany do tego celu aktywowany tlenek glinu lub sita czasteczkowe zapewniaja uzyskanie takiego punktu rosy, lecz sa to metody kosztowne zarów- 15 £0 pod wzgledem aparaturowym, jak i ruchowym.Znane sa równiez sposoby osuszania gazu gliko¬ lem dwuetylenowym (skrót DEG), przez kontak¬ towanie gazu z DEG w kolumnach pólkowych lub przez wstrzykiwanie do rurociagu. 2o Sposoby te nie pozwalaja jednak, na glebokie osuszenie gazu i uzyskany tymi sposobami punkt rosy wynosi okolo —15°C do —20°C.Sposób wedlug wynalazku polega na dwukrot¬ nym osuszaniu gazu za pomoca roztworu DEG. 25 W pierwszym stopniu nastepuje osuszanie roztwo¬ rem czesciowo zuzytym a dokladne osuszenie roz¬ tworem swiezo regenerowanym w czasie schladza¬ nia gazu.Sposób wedlug wynalazku pozwala na glebokie 30 osuszenie gazu za pomoca roztworu DEG do pun¬ ktu rosy ponizej —30fC.- Zalaczony rysunek, przedstawia schemat apara¬ tury do osuszania gazu •sposobem wedlug wynalaz¬ ku. Na rysunku oznaczono: doplyw gazu do insta¬ lacji 1, dysze do wtryskiwania roztworu DEG pierwszego stopnia 2, oddzielacz przereagowane- go roztworu DEG 3, dysze do wtryskiwania roz¬ tworu DEG drugiego stopnia 4, chlodnica gazu 5, oddzielacz roztworu DEG 6, zbiorniki roztworu DEG 7 i 8, pompy do tloczenia roztworu DEG 9 i 10, rurociag doprowadzajacy zregenerowany roz¬ twór DEG 12, rurociag doprowadzajacy roztwór DEG do urzadzen regeneracyjnych 11.Proces technologiczny prowadzony sposobem we¬ dlug wynalazku jest nastepujacy.Zawilgocony gaz doplywa do instalacji ruro¬ ciagiem 1, na którym zamontowane jest polacze¬ nie obiegowe z zespolem dysz wtryskowych 2. Tu nastepuje wtrysk czesciowo przereagowanego roz¬ tworu DEG dla wstepnego osuszenia gazu. Roz¬ twór DEG jest tloczony pompa 9 ze zbiornika 7.Gaz wraz ze wstrzyknietym roztworem DEG ply¬ nie rurociagiem do oddzielacza 3, gdzie nastepuje oddzielenie roztworu DEG od gazu. Oddzielony tu roztwór DEG plynie rurociagiem 11 do urzadzen regeneracyjnych. Z oddzielacza 3 wstepnie osuszo¬ ny gaz plynie do drugiego polaczenia obiegowe¬ go, gdzie zamontowany jest zespól dysz wtrysko¬ wych 4. Tu wstrzykiwany jest zregenerowany roz- 5377053770 twór DEG dla ostatecznego osuszania gazu. Roz¬ twór ten doplywa z urzadzenia regeneracyjnego rurociagiem 12 do zbiornika -8, skad pobiera go pompa 10. Gaz wraz ze wstrzyknietym DEG ply¬ nie przez chlodnice gazu 5, gdzie na skutek obni¬ zenia temperatury kontaktu gazu i roztworu DEG, skutecznosc osuszania bardzo wzrasta. Umoz¬ liwia tó uzyskanie punktu rosy ponizej -30°C oraz zabezpiecza powierzchnie chlodnicy przed oszronieniem. W oddzielaczu 6 zostaje oddzielony czesciowo *rzereagowany roztwór DEG, który od¬ puszczony jest do zbiornika 7 i stad pobierany jest do wstepnego osuszania gazu na pierwszym stopniu. W ten sposób cykl obiegu roztworu DEG zamyka sie.W zaleznosci od wymaganego punktu rosy sto¬ suje sie rózna koncentracje roztworu DEG. Np. dla uzyskania punktu rosy wynoszacego —35°C przy temperaturze kontaktu w chlodnicy —18°C kon¬ centracja roztworu DEG, wstrzykiwanego w dru¬ gim stopniu osuszania powinna wynosic okolo 96%. ilosc roztworu powinna byc tak dobrana, aby przereagowany w tym stopniu roztwór mial koncentracje okolo 92%. Roztwór ten wstrzyki- 10 15 warty jest nastepnie w pierwszym stopniu osusza¬ nia i ulega dalszemu rozcienczeniu pochlaniana z gazu woda do koncentracji okolo 86^/0. Przed ponownym uzyciem 86% roztwór DEG jest rege¬ nerowany do koncentracji okolo 96%.Osuszanie gazu moze byc osiagniete równiez przy zastosowaniu tylko drugiego stopnia lecz sprawnosc procesu osuszania jest wówczas odpo¬ wiednio nizsza. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób osuszania gazu za pomoca roztworu gli¬ kolu dwuetylenowego, znamienny tym, ze osusza¬ nie prowadzi sie dwustopniowo, przy czym gaz poddaje sie w pierwszym stopniu zetknieciu z czesciowo rozcienczonym roztworem glikolu, na¬ stepnie mieszanine gazu z roztworem rozdziela sie 1 w drugim stopniu gaz poddaje sie zetknieciu ze stezonym roztworem glikolu przy równoczesnym schladzaniu tej mieszaniny, potem mieszanine chlodzi sie, a nastepnie rozdziela i czesciowo roz¬ cienczony roztwór glikolu kieruje do osuszania gazu w pierwszym stopniu. 1 v~ ' $L i TrwC-L, PZG w Pab., zam. 715-67, nakl. 240 egz. PL