PL50340B3 - - Google Patents

Description

Opublikowano: 15.X1I.1965 50340 KI. 42k, 45/03 MKP G 01 1 UKD J*U I ¦Mayu, ---._.Wspóltwórcy wynalazku: dr inz. Roman Doroszkiewicz, mgr inz. Bogdan Michalski Wlasciciel patentu: Polska Akademia Nauk (Instytut Podstawowych Problemów Techniki), Warszawa "(Polska) Sposób pomiaru odksztalcen tensometrami elastooptycznymi, w szczególnosci pasmowym tensometrem, oraz pokryciami optycznie czulymi Przedmiotem wynalazku jest sposób pomiaru od¬ ksztalcen tensometrami elastooptycznymi, w szcze¬ gólnosci pasmowym tensometrem i jego odmianami wedlug Patentu Nr 50221, oraz pokryciami optycznie czulymi, w swietle monochromatycznym lub bliskim monochromatycznego.Dotychczas stosuje sie dwa sposoby dokonywa¬ nia pomiaru odksztalcen przy uzyciu tensometrów elastooptycznych i pokryc czulych optycznie. Pierw¬ szy sposób polega na dokonywaniu pomiaru efektu elastooptycznego stanowiacego miare odksztalcenia przy zwyklym oswietleniu, to jest w swietle poli- chromatycznym I poslugiwaniu sie przy odczyty¬ waniu efektu elastooptycznego skala barw.Drugi sposób polega na zastosowaniu specjalnego polaryskopu do badan w swietle odbitym, dajacego wiazke swiatla monochromatycznego.Pierwszy z wymienionych sposobów nadaje sie wylacznie do pomiarów w zakresie malych odksztal¬ cen, tj. odksztalcen, którym towarzysza niewielkie efekty elastooptyczne warstwy pomiarowej, gdyz jak wiadomo wyzsze rzedy izochrom sa w swietle polichromatycznym nieczytelne. Ponadto sposób ten daje niewielka dokladnosc pomiaru.Drugi sposób zapewnia wprawdzie mozliwosc po¬ miaru w zakresie duzych odksztalcen, tj. odksztal¬ cen, którym odpowiadaja duze efekty optyczne ten- sometru lub warstwy czulej optycznie, i daje wyso¬ ka dokladnosc pomiaru, wymaga jednak stosowania aparatury pomocniczej (polaryskopu), co przy doko¬ nywaniu pomiarów w terenie nie zawsze jest wy¬ godne.Wszystkie wyzej wymienione niedostatki usuwa sposób wedlug wynalazku. Sposób ten stosowany byc moze przy pomiarach odksztalcen tensometrami elastooptycznymi oraz przy uzyciu warstw optycz¬ nie czulych. Szczególnie duze uslugi oddac moze stosowanie tego sposobu w przypadku dokonywania pomiarów pasmowymi tensometrami elastooptycz¬ nymi wedlug patentu nr 50221, sluzacych z zasady do pomiaru duzych odksztalcen w warunkach polo¬ wych, poniewaz wyklucza koniecznosc równoczesne¬ go uzycia dodatkowego urzadzenia w postaci pola- ryskopu do badan w swietle odbitym.Istota sposobu wedlug wynalazku polega na ob¬ serwacji izochrom w swietle monochromatycznym (lub bliskim monochromatycznego), uzyskanym przez zastosowanie przykladanych filtrów monochroma¬ tycznych, naklejanie filtrów blonkowych lub tez barwienie materialu elementu pomiarowego (tenso¬ metrów elastooptycznych wzgl. warstw czulych op¬ tycznie) przed poczatkiem polimeryzacji zywicy epoksydowej! Obserwacja izochrom w swietle monochromatycz¬ nym, uzyskanym przez przylozenie filtra interferen¬ cyjnego do elementu pomiarowego zapewnia naj¬ wieksza dokladnosc pomiarów odksztalcen badane¬ go elementu, gdyz filtr interferencyjny daje swiatlo calkowicie monochromatyczne, wymaga jednak od- 5034050340 3 powiednio silnego oswietlenia elementu pomiarowe¬ go swiatlem polichromatycznym.Obserwacja izochrom w swietle bliskim mono¬ chromatycznego, uzyskanym przez zabarwienie ma¬ terialu tensometru dzieki dodaniu odpowiedniego 5 barwnika do monomeru, z którego odlewa sie ma- 2. ierial do produkcji tensometru wzglednie* przez po¬ krycie zewnetrznej powierzchni elementu pomiaro¬ wego warstwa filtra blonkowego — daje taka sama dokladnosc odczytu jak przy uzyciu polaryskopu do 10 badan w swietle odbitym. 3. PL

Claims (1)

Zastrzezenia patentowe

1. Sposób pomiaru odksztalcen tensometrami elasto- 15 optycznymi, w szczególnosci pasmowym tenso- metrem wedlug patentu nr 50221 oraz pokrycia- 4 mi optycznie czulymi, znamienny tym, ze pomiar odksztalcen badanego elementu przeprowadza sie w swietle monochromatycznym, uzyskiwanym przez przylozenie filtra interferencyjnego do e- lementu pomiarowego. Odmiana sposobu wedlug zastrz. 1, znamienna, tym, ze pomiar odksztalcen badanego elementu przeprowadza sie w swietle bliskim monochroma¬ tycznego, uzyskiwanym przez zabarwienie mate¬ rialu, z którego wykonany jest element pomia¬ rowy. Odmiana sposobu welug zastrz. 1, znamienna tymr ze pomiar odksztalcen badanego elementu prze¬ prowadza sie w swietle bliskim monochroma¬ tycznego, uzyskiwanym przez pokrycie zewnetrz¬ nej powierzchni elementu pomiarowego warstwa filtra blonkowego. Zaklady Kartograficzne, Wroclaw, zam. 571, naklad 330 egz. PL